光刻機干啥用的
光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機，有用于LED制造領域的光刻機，還有用于封裝的光刻機。光刻機是采用類似照片沖印的技術，然后把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
在加工芯片的過程中，光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。
光刻機也是芯片產(chǎn)業(yè)中寶貴且技術難度最大的機器，制造一臺高端的光刻機達上億元。
審核編輯：姚遠
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
硅片
+關注
關注
13文章
408瀏覽量
35666 -
光刻機
+關注
關注
31文章
1198瀏覽量
48820
發(fā)布評論請先 登錄
相關推薦
熱點推薦
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機被譽為 “半導體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術更是先進制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
AI需求飆升！ASML新光刻機直擊2nm芯片制造，尼康新品獲重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝（FOPLP）技術為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機設備，尼康DSP-100的技術原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當中的哪些痛點問題？ 針對2nm、3nm芯片制造難題，光刻機龍頭企業(yè)ASML新款
光刻機的“精度錨點”：石英壓力傳感器如何守護納米級工藝
在7納米、3納米等先進芯片制造中，光刻機0.1納米級的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐，其作為“隱形功臣”，是保障工藝穩(wěn)定、設備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機中
國產(chǎn)高精度步進式光刻機順利出廠
近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術有限公司（簡稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進式光刻機已成功出廠，標志著我國在半導體核心裝備領域取得新進展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進式光刻機屬于WS180i
今日看點丨全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機問世；智元機器人發(fā)布行業(yè)首個機器人世界模型開源平臺
全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機問世，精度比肩國際主流 ? 近日，全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進入應用測試階段。該設備精度達到0.6nm，線寬
發(fā)表于 08-15 10:15
?2978次閱讀
全球市占率35%，國內(nèi)90%！芯上微裝第500臺步進光刻機交付
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡稱：芯上微裝，英文簡稱：AMIES）第500臺步進光刻機成功交付，并舉辦了第500臺 步進光刻機 交付儀式。 ? ? 光刻是半導體器件
發(fā)表于 08-13 09:41
?2109次閱讀
佳能9月啟用新光刻機工廠，主要面向成熟制程及封裝應用
7 月 31 日消息，據(jù)《日經(jīng)新聞》報道，日本相機、打印機、光刻機大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn)，主攻成熟制程及后段封裝應用設備，為全球芯片封裝
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關于光刻機概念大漲，后市迎來機會
【2025年光刻機市場的規(guī)模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一，其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長，尤其是在先
不只依賴光刻機！芯片制造的五大工藝大起底！
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時代的“心臟”，其制造過程復雜而精密，涉及眾多關鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機這一高端設備，但實際上，芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了
什么是光刻機的套刻精度
在芯片制造的復雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關鍵指標。簡單來說，它就像建造摩天大樓
半導體設備光刻機防震基座如何安裝？
半導體設備光刻機防震基座的安裝涉及多個關鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機的穩(wěn)定運行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應工作環(huán)境。由于半導體設備通常在潔凈的環(huán)境下運行，因此選擇的搬運工具如
芯片制造:光刻工藝原理與流程
光刻是芯片制造過程中至關重要的一步，它定義了芯片上的各種微細圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細介紹，包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜
工商網(wǎng)監(jiān)
評論