俄羅斯簽署合同欲研發(fā)頂尖X射線光刻機
在半導(dǎo)體的制造中，***作為其中重要的組成部分，其技術(shù)非常復(fù)雜，價格也十分昂貴。
由于近期沖突，俄羅斯芯片進口遭嚴重限制，在其國內(nèi)沒有***的情況下，俄羅斯貿(mào)工部選擇了與俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院簽署一份6.7億盧布的合同來研發(fā)***，并且宣稱要研發(fā)比EUV***光刻分辨率更高、不需要光掩膜版從而降低費用的無掩模X射線***。
X射線***不同于EUV***，它使用了波長為0.01nm~10nm的X射線，所以X射線***的光刻分辨率要比EUV***高很多。
綜合整理自 快科技 站長之家 芯智訊
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
X射線
+關(guān)注
關(guān)注
4文章
220瀏覽量
52662 -
光刻機
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1196瀏覽量
48733
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點推薦
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機被譽為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
國產(chǎn)高精度步進式光刻機順利出廠
近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司（簡稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進式光刻機已成功出廠，標(biāo)志著我國在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進式光刻機屬于WS180i
今日看點丨全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機問世；智元機器人發(fā)布行業(yè)首個機器人世界模型開源平臺
全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機問世，精度比肩國際主流 ? 近日，全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進入應(yīng)用測試階段。該設(shè)備精度達到0.6nm，線寬
發(fā)表于 08-15 10:15
?2827次閱讀
詳談X射線光刻技術(shù)
隨著極紫外光刻（EUV）技術(shù)面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn)，X射線光刻技術(shù)憑借其固有優(yōu)勢，在特定領(lǐng)域正形成差異化競爭格局。
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān)，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
炬烜科技亮相2025俄羅斯電子元器件展
俄羅斯電子元器件展于俄羅斯當(dāng)?shù)貢r間：4月15日上午9點，盛大開幕。此次展會展品豐富、展出了我公司全系列“FT”晶振、電感、IC等電子元件。
成都匯陽投資關(guān)于光刻機概念大漲，后市迎來機會
進制程領(lǐng)域，曝光波長逐漸縮短至13.5nm，光刻技術(shù)逐步完善成熟。2024年光刻機市場的規(guī)模為230億美元。2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元。 【光刻機的發(fā)展機會主要體現(xiàn)在
不只依賴光刻機！芯片制造的五大工藝大起底！
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時代的“心臟”，其制造過程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機這一高端設(shè)備，但實際上，芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了
什么是光刻機的套刻精度
在芯片制造的復(fù)雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡單來說，它就像建造摩天大樓
半導(dǎo)體設(shè)備光刻機防震基座如何安裝？
半導(dǎo)體設(shè)備光刻機防震基座的安裝涉及多個關(guān)鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機的穩(wěn)定運行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運行，因此選擇的搬運工具如
如何提高光刻機的NA值
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
光刻機的分類與原理
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程，但精度要求極高，能夠達到
工商網(wǎng)監(jiān)
評論