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基于泰勒綜合法的均勻陣列

iIeQ_mwrfnet ? 來(lái)源:微波射頻網(wǎng) ? 作者:江右射頻 ? 2022-06-17 09:47 ? 次閱讀
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前言

前篇介紹了切比雪夫綜合法得到低副瓣特性的陣列天線,由上篇分析可知,等幅激勵(lì)的均勻線陣的副瓣電平幅度較高,可使用切比雪夫綜合法、泰勒綜合法實(shí)現(xiàn)陣列天線的方向圖低副瓣特性。當(dāng)天線的陣元個(gè)數(shù)超越一定范圍時(shí),切比雪夫的兩端的電流差距很大,陣列天線兩端的單元會(huì)發(fā)生突然的跳變的現(xiàn)象,影響天線的低副瓣效果。因此,切比雪夫綜合法在某些雷達(dá)系統(tǒng)中并不是很適用,為了解決這一問(wèn)題,下面將介紹泰勒綜合法。

f552b390-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.gif

圖 1陣列天線自動(dòng)設(shè)計(jì)

2 基于泰勒綜合法的均勻陣列

泰勒綜合法是實(shí)現(xiàn)低副瓣陣列天線的一種方法,具有副瓣電平可控的特性,并且由于副瓣的遞減特性不會(huì)出現(xiàn)切比雪夫綜合法里面兩端突然跳變的現(xiàn)象,降低饋電網(wǎng)絡(luò)設(shè)計(jì)的復(fù)雜度,并且還會(huì)增強(qiáng)天線的方向性在工程上得到了廣泛的認(rèn)可。輻射特性具有如下特點(diǎn):

主瓣兩側(cè)的若干副瓣電平大小相似;

其余區(qū)域副瓣電平會(huì)單調(diào)減小。

由以上特點(diǎn)可知,陣列天線的激勵(lì)從中間往兩側(cè)會(huì)單調(diào)遞減,不會(huì)發(fā)生切比雪夫綜合法中的跳變現(xiàn)象,方向圖函數(shù)為:

f5d3c7fa-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

上式為構(gòu)造的泰勒空間因子,具有理想空間因子可調(diào)副瓣電平和前n-1個(gè)副瓣電平接近相等的性質(zhì),同時(shí)在遠(yuǎn)區(qū)副瓣保持了基本函數(shù)的副瓣峰值,也具備μ-1的衰減特性。其零點(diǎn)位置為:

f5e4c708-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

式中,

f5ec3f60-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

1)若f5f92932-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png時(shí),副瓣可稱為近旁瓣,近似相等;反之副瓣稱為遠(yuǎn)旁瓣,逐漸衰減,。上式的u取整數(shù)時(shí),即為方向圖零點(diǎn)位置。

2)若f60d2efa-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png時(shí),零點(diǎn)重合,有下式:

f6208c3e-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

當(dāng)f62c8e30-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png時(shí),得到的陣列方向圖函數(shù)即為:

f63b56cc-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

令天線陣列饋電幅度分布為I(ξ),其具有的泰勒分布如下圖所示。

a) 泰勒連續(xù)分布

泰勒連續(xù)分布示意圖如圖 1所示。

f64bb2ba-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

圖 2 泰勒分布示意圖

對(duì)應(yīng)的連續(xù)電流分布為:

f6522fc8-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

其中,kξ表示均勻相位常數(shù),α(ξ)是非均勻相位常數(shù),由上圖可知,電流分布具有對(duì)稱性,則該分布對(duì)應(yīng)的陣列單元輻射陣因子為:

f65ebcfc-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

X=i=0時(shí),泰勒方向圖函數(shù) S(x)=1;

X=i小于n時(shí),S(x)為:

f670940e-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

X=i大于n時(shí),S(x)=0。

口徑場(chǎng)分布函數(shù)I(ξ)為:

f67c029e-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

b)離散化

對(duì)于線陣而言,需要對(duì)上圖進(jìn)行離散化,每個(gè)抽樣值對(duì)應(yīng)著直線陣列上的單元激勵(lì),利用抽樣定理,可以增加抽樣點(diǎn)使陣列單元的對(duì)應(yīng)的幅度分布來(lái)貼合泰勒分布的連續(xù)線源幅度。

離散化后,每個(gè)陣元的坐標(biāo)位置為:

f6899972-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

各單元對(duì)應(yīng)的激勵(lì)電流幅度為:

f6981a88-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

式中,p=2Πzn/L,L=Nd

f6a85100-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

這里的,S(m)為:

m=0時(shí),泰勒方向圖函數(shù) S(m)=1;

f6ae84d0-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png時(shí),S(m)為:

f6c1a038-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

f6d3727c-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png時(shí),S(m)=0。

該式說(shuō)明,對(duì)泰勒線源進(jìn)行抽樣時(shí),抽樣結(jié)果只與抽樣點(diǎn)數(shù)相關(guān),可以看出激勵(lì)幅度與單元數(shù)量有關(guān),而和單元間距無(wú)關(guān)。

3 聯(lián)合仿真分析

1.陣元數(shù)不變,調(diào)整陣間距

對(duì)于20陣元的天線,分別仿真了間距為λ、λ/2、λ/4情況下的輻射特性,如下圖所示。三種情況下的天線陣元激勵(lì)幅度相同。

單元數(shù)為20,陣元間距d為λ,指向0度

f6e13d1c-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

f6f4867e-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

f7044230-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

單元數(shù)為20,陣元間距d為λ/2,指向0度

f718dc40-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

f71fb95c-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

f7328b22-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

圖 3 d=λ/2輻射特性

單元數(shù)為20,陣元間距d為λ/4,指向0度

f74f0414-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

f769fecc-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

f78b3470-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

圖 4 d=λ/4輻射特性

2.切比雪夫綜合與泰勒綜合對(duì)比

下面通過(guò)python與HFSS設(shè)計(jì)了兩組12元陣天線,分別采用了切比雪夫綜合法和泰勒綜合法,對(duì)比說(shuō)明兩者的不同之處。

基于切比雪夫綜合法,單元數(shù)為12,陣元間距d為λ/2,指向0度

f7aa13c2-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

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f7c5a830-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

圖 5 切比雪夫綜合法得到的輻射特性

基于泰勒綜合法,單元數(shù)為12,陣元間距d為λ/2,指向0度

f7d4c5e0-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

f7ea6576-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.png

f7fbf5e8-edce-11ec-ba43-dac502259ad0.jpg

圖 6 泰勒綜合法得到的輻射特性

兩者對(duì)比情況

通過(guò)對(duì)比可知,切比雪夫綜合方法的陣列天線副瓣幅度一致;泰勒綜合法的隨著角度逐漸偏離主瓣,副瓣電平逐次遞減;其次,單元太少則達(dá)不到預(yù)設(shè)值。

4 小結(jié)

由上述分析可知, 1.切比雪夫綜合方法的陣列天線副瓣幅度一致;泰勒綜合法的隨著角度逐漸偏離主瓣,副瓣電平逐次遞減; 2.陣元數(shù)大于13時(shí),適用泰勒綜合法; 3.單元太少則達(dá)不到預(yù)設(shè)值。

審核編輯 :李倩

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原文標(biāo)題:基于泰勒綜合法的Python與HFSS聯(lián)合仿真陣列天線設(shè)計(jì)

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