國內(nèi) EDA 領軍企業(yè)北京華大九天科技股份有限公司近日宣布，全球排名前列的中國半導體設計公司，業(yè)界知名的電源管理芯片和分立器件提供商豪威集團-上海韋爾半導體股份有限公司 （以下簡稱“韋爾股份”）已采用華大九天的 Empyrean Polas? 工具作為其可靠性分析解決方案，更大限度保障分立器件和電源芯片的設計可靠性及設計合理性。

Empyrean Polas? 是一款適用于 IC 版圖設計和分立器件版圖設計的可靠性和設計合理性分析工具，能夠結合 PCB 和封裝設計，形成完整系統(tǒng)分析解決方案。

在電源管理芯片設計中，工程師可運用 Polas 進行 Power MOS 導通電阻 Rdson （包括 Inter-connection、PCB 及 Package） 分析、導通路徑的 EM/IR-drop 分析、MOSFET 開啟信號延遲以及信號完整性分析等，對芯片核心組件進行全方位性能可靠性檢查。此外，將 Empyrean Polas? 用于芯片 PDN 網(wǎng)絡、關鍵路徑網(wǎng)絡電阻以及 EM/IR-drop 分析，可進一步指導優(yōu)化設計。

“隨著設計復雜度提升，Power 設計場景也趨于復雜。除了單管，不同類型的多管串聯(lián)也成為設計的一部分，華大九天的 Polas 工具對于多管串聯(lián)等復雜設計的 Rdson 和 EM 分析中有很好的指導作用，從 Rdson 的分 net 分層次的結果展示以及 EM 分析展示的 PAD 電流和分 net 分層次的 EM/IR-drop 展示，能很好地幫助我們發(fā)掘連線問題、PAD 分布問題和可靠性問題，并能在保證可靠性前提下減少冗余，指導優(yōu)化版圖，減小芯片面積?！?/p>

韋爾股份旗下企業(yè)，豪威模擬集成電路（北京）有限公司研發(fā)總監(jiān)林建輝對 Polas 在電源管理芯片設計中的表現(xiàn)予以肯定。

在分立器件設計中，Empyrean Polas? 可計算各種工藝場景下分立器件的導通電阻 Rdson，分析 conductor layer、PCB 和 Package 設計的可靠性分析和合理性，指導器件和版圖設計、測試和封裝方案等。

韋爾股份 MOS 器件設計經(jīng)理董建新在回顧雙方的探索合作時講到，“在傳統(tǒng)分立器件設計流程中，不同工藝參數(shù)下的導通電阻、芯片的可靠性、測量針卡的制作都是通過不斷流片、制作多版針卡并測試的方式完成，研發(fā)周期長、成本高，并且由于 wafer 的差異性和測試的差異性，往往得不到想要的結論。通過與華大九天合作，我們第一次創(chuàng)新性地在分立器設計中引入可靠性和設計合理性工具，在設計階段從 layout 出發(fā)，模擬出整個芯片各個工藝參數(shù)下的導通電阻、完善可靠性方案以及不同測試針卡下預期測試結果。按此方案，已完成數(shù)十顆產(chǎn)品的參數(shù)適配，與測試數(shù)據(jù)的誤差多數(shù)在 3% 以內(nèi)，整體在 5% 以內(nèi)。目前此方案已導入到設計的主流程，減少研發(fā)階段流片次數(shù)和針卡制作次數(shù)，縮短研發(fā)周期、降低研發(fā)成本。”

韋爾股份董事、高級副總裁紀剛表示，“韋爾作為一家領先的國際半導體公司，通過環(huán)保、易用的產(chǎn)品，提高生活質量。以專有的創(chuàng)新開放的理念，專注自主研發(fā)，在手機、電腦、電視、通訊、安防、車載、穿戴、醫(yī)療等領域產(chǎn)生巨大影響力。秉承簡潔簡約實用風格，Empyrean Polas? 很好地契合韋爾的需求，解決了我們的設計痛點，在節(jié)省研發(fā)及生產(chǎn)成本的同時，幫助韋爾產(chǎn)品更快更安全地推向市場。韋爾和華大九天實現(xiàn)了眾望所歸的雙贏合作?！?/p>

華大九天副總經(jīng)理陸濤濤表示，“Empyrean Polas? 是華大九天模擬電路設計產(chǎn)品線中獨樹一幟的解決方案，能夠得到韋爾的肯定，我們感到非常榮幸。我們的磨合過程集合了雙方團隊中優(yōu)秀的模擬設計工程師和軟件開發(fā)工程師，結合韋爾的設計痛點和華大九天的技術特點，我們創(chuàng)造性地為韋爾定制了一套專屬方案，加速韋爾產(chǎn)品迭代和降低韋爾產(chǎn)品成本，也挖掘了 Polas 的更多可能。華大九天期待可以在更多的領域助力韋爾取得成功?！?/p>