盡管ASML作為目前占據(jù)主導地位的光刻機廠商,憑借獨有的EUV光刻機一騎絕塵,主導著半數(shù)以上的市場份額,但這并不代表著其他光刻機廠商也就“聽天由命”了。以兩大國外光刻機廠商尼康和佳能為例,他們就仍在堅持開發(fā)并擴展自己的光刻機業(yè)務(wù)。
尼康
尼康的光刻機產(chǎn)品陣容比較全面,包括ArF浸沒式掃描光刻機、ArF步進掃描光刻機、KrF掃描光刻機、i線步進式光刻機和FPD面板光刻機,基本涵蓋了除EUV以外的主流光刻機。其中最新的NSR-S635E為ArF浸沒式掃描光刻機,可以做到小于等于38nm的分辨率,1.35的數(shù)值孔徑和大于275晶圓/小時的吞吐量。

NSR-S635E光刻機 / 尼康
雖然這樣的機器在分辨率上與ASML的EUV光刻機還存在著不小的差距,但已經(jīng)足以覆蓋不少成熟工藝的晶圓制造,以及部分次先進節(jié)點的輔助制造了。而在去年的SPIE先進光刻機技術(shù)會議上,尼康展示了名為雙光束EUV光刻技術(shù)。
雖然仍在概念階段,但從論文上看基于該技術(shù)打造的光刻系統(tǒng)可以做到10nm的分辨率,0.4的數(shù)值孔徑和200晶圓/小時以上的吞吐量,這樣的參數(shù)甚至可以與ASML正在制造的高NA EUV光刻機一較高下了。不過要想造出這樣的機器光有概念可不夠,與之相關(guān)的元件與設(shè)備生態(tài)都得建立起來才行。
從尼康最新季度的財報來看,由于工廠建設(shè)的投入被推遲,F(xiàn)PD光刻系統(tǒng)市場有所下滑,所以銷量有所降低,上季度只賣出了6臺FPD光刻機,6臺i線光刻機、1臺KrF光刻機和1臺ArF浸沒式光刻機。由于ArF光刻機仍有著較為強勁的需求,所以尼康仍然看好這一市場的未來趨勢,目前核心客戶因為人員短缺或能源供應(yīng)等問題,只是在交付上有所推遲。所以哪怕是半導體市場有些許低迷,尼康也并沒有任何訂單因此被取消。
值得一提的是,雖然尼康本身目前并沒有生產(chǎn)EUV光刻機,卻有為EUV系統(tǒng)生產(chǎn)光學組件的。不過與EUV光刻機本身一樣,EUV的光學組件擁有極長的交期。除EUV系統(tǒng)以外,一些先進測量設(shè)備、先進封裝設(shè)備用到的光學組件同樣是高附加值、長交貨周期的產(chǎn)品,即便半導體市場增速減緩,也不太會受到設(shè)備廠商資本支出變化的影響。
佳能
對于佳能來說,光刻機業(yè)務(wù)隸屬于他們的工業(yè)與其他事業(yè)部,除了光刻機以外還有貼片機等設(shè)備。但從具體數(shù)額看來,佳能的主要營收來源還是他們的印刷和影像部門,包括打印機、數(shù)碼相機等等,從2021年的年報來看,兩部門分別貢獻了55.2%和18.6%的營收。

FPA-6300ES6a光刻機 / 佳能
佳能與尼康一樣,同樣擁有影像和光刻機兩大業(yè)務(wù),但在光刻機上,佳能的主要產(chǎn)品是i線和KrF光刻機,其中主打高分辨率高產(chǎn)量的KrF掃描光刻機FPA-6300ES6a可以做到小于等于90nm的分辨率。雖然分辨率不高,但佳能正在以納米壓印技術(shù)打造下一代nm級的光刻機,以該技術(shù)打造的光刻系統(tǒng)制造成本將比EUV低40%,同時將運行功耗90%。不過這類設(shè)備目前仍在研發(fā)中,從目前已經(jīng)展示的結(jié)果來看,還只能做到10nm工藝的圖形化。
而今年的第三季度,佳能的光刻系統(tǒng)營收相較去年同比增長了22.9%,達到645億日元,主要來自50臺半導體光刻機、15臺FPD光刻機的銷量。佳能預(yù)計將在今年賣出180臺半導體光刻機,52臺FPD光刻機。
在財報中,佳能指出,2022年的半導體設(shè)備市場中,雖然存儲市場有所下滑,但功率設(shè)備和邏輯設(shè)備的需求依然在強勁增長。與此同時,佳能計劃在宇都宮擴建一座新的光刻機工廠,用于加倍產(chǎn)能,進一步擴大在半導體光刻機市場的份額。
至于面板市場,由于全球通脹和經(jīng)濟下行等原因,PC、電視和智能手機的銷量下滑,全球市場相較去年會有所下滑。但佳能認為,從中長期角度來看,被用于各種產(chǎn)品中的OLED面板勢必會帶來顯著的增長。不過佳能面臨的處境還是組件短缺和客戶延遲工廠建設(shè),所以部分FPD光刻機的交付都被推遲到了明年。
小結(jié)
從尼康和佳能兩家的財報來看,他們都沒有屈服于ASML可怕的實力,仍在積極推動DUV光刻機、FPD光刻機的銷售和交付,與此同時也都在低調(diào)地進行著下一代光刻系統(tǒng)的研究。對于整個半導體產(chǎn)業(yè)來說,有更多的廠商來攪局也未免不是一件好事。
尼康
尼康的光刻機產(chǎn)品陣容比較全面,包括ArF浸沒式掃描光刻機、ArF步進掃描光刻機、KrF掃描光刻機、i線步進式光刻機和FPD面板光刻機,基本涵蓋了除EUV以外的主流光刻機。其中最新的NSR-S635E為ArF浸沒式掃描光刻機,可以做到小于等于38nm的分辨率,1.35的數(shù)值孔徑和大于275晶圓/小時的吞吐量。

NSR-S635E光刻機 / 尼康
雖然這樣的機器在分辨率上與ASML的EUV光刻機還存在著不小的差距,但已經(jīng)足以覆蓋不少成熟工藝的晶圓制造,以及部分次先進節(jié)點的輔助制造了。而在去年的SPIE先進光刻機技術(shù)會議上,尼康展示了名為雙光束EUV光刻技術(shù)。
雖然仍在概念階段,但從論文上看基于該技術(shù)打造的光刻系統(tǒng)可以做到10nm的分辨率,0.4的數(shù)值孔徑和200晶圓/小時以上的吞吐量,這樣的參數(shù)甚至可以與ASML正在制造的高NA EUV光刻機一較高下了。不過要想造出這樣的機器光有概念可不夠,與之相關(guān)的元件與設(shè)備生態(tài)都得建立起來才行。
從尼康最新季度的財報來看,由于工廠建設(shè)的投入被推遲,F(xiàn)PD光刻系統(tǒng)市場有所下滑,所以銷量有所降低,上季度只賣出了6臺FPD光刻機,6臺i線光刻機、1臺KrF光刻機和1臺ArF浸沒式光刻機。由于ArF光刻機仍有著較為強勁的需求,所以尼康仍然看好這一市場的未來趨勢,目前核心客戶因為人員短缺或能源供應(yīng)等問題,只是在交付上有所推遲。所以哪怕是半導體市場有些許低迷,尼康也并沒有任何訂單因此被取消。
值得一提的是,雖然尼康本身目前并沒有生產(chǎn)EUV光刻機,卻有為EUV系統(tǒng)生產(chǎn)光學組件的。不過與EUV光刻機本身一樣,EUV的光學組件擁有極長的交期。除EUV系統(tǒng)以外,一些先進測量設(shè)備、先進封裝設(shè)備用到的光學組件同樣是高附加值、長交貨周期的產(chǎn)品,即便半導體市場增速減緩,也不太會受到設(shè)備廠商資本支出變化的影響。
佳能
對于佳能來說,光刻機業(yè)務(wù)隸屬于他們的工業(yè)與其他事業(yè)部,除了光刻機以外還有貼片機等設(shè)備。但從具體數(shù)額看來,佳能的主要營收來源還是他們的印刷和影像部門,包括打印機、數(shù)碼相機等等,從2021年的年報來看,兩部門分別貢獻了55.2%和18.6%的營收。

FPA-6300ES6a光刻機 / 佳能
佳能與尼康一樣,同樣擁有影像和光刻機兩大業(yè)務(wù),但在光刻機上,佳能的主要產(chǎn)品是i線和KrF光刻機,其中主打高分辨率高產(chǎn)量的KrF掃描光刻機FPA-6300ES6a可以做到小于等于90nm的分辨率。雖然分辨率不高,但佳能正在以納米壓印技術(shù)打造下一代nm級的光刻機,以該技術(shù)打造的光刻系統(tǒng)制造成本將比EUV低40%,同時將運行功耗90%。不過這類設(shè)備目前仍在研發(fā)中,從目前已經(jīng)展示的結(jié)果來看,還只能做到10nm工藝的圖形化。
而今年的第三季度,佳能的光刻系統(tǒng)營收相較去年同比增長了22.9%,達到645億日元,主要來自50臺半導體光刻機、15臺FPD光刻機的銷量。佳能預(yù)計將在今年賣出180臺半導體光刻機,52臺FPD光刻機。
在財報中,佳能指出,2022年的半導體設(shè)備市場中,雖然存儲市場有所下滑,但功率設(shè)備和邏輯設(shè)備的需求依然在強勁增長。與此同時,佳能計劃在宇都宮擴建一座新的光刻機工廠,用于加倍產(chǎn)能,進一步擴大在半導體光刻機市場的份額。
至于面板市場,由于全球通脹和經(jīng)濟下行等原因,PC、電視和智能手機的銷量下滑,全球市場相較去年會有所下滑。但佳能認為,從中長期角度來看,被用于各種產(chǎn)品中的OLED面板勢必會帶來顯著的增長。不過佳能面臨的處境還是組件短缺和客戶延遲工廠建設(shè),所以部分FPD光刻機的交付都被推遲到了明年。
小結(jié)
從尼康和佳能兩家的財報來看,他們都沒有屈服于ASML可怕的實力,仍在積極推動DUV光刻機、FPD光刻機的銷售和交付,與此同時也都在低調(diào)地進行著下一代光刻系統(tǒng)的研究。對于整個半導體產(chǎn)業(yè)來說,有更多的廠商來攪局也未免不是一件好事。
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