為了更好地滿足客戶對球差透射電鏡的測試需求，季豐電子投資了業(yè)界認可的球差場發(fā)射透射電子顯微鏡HITACHI HF5000，目前已通過驗證，正式投入運營。 TEM是芯片工程物理失效分析的終極利器，以其無以倫比的分辨能力，提供最細致深入的材料和工藝的異常分析。

(HITACHI HF5000)

HF5000是日立新的200kV球差校正場發(fā)射透射電鏡，采用冷場發(fā)射電子槍和全自動化的球差校正技術(shù)，在保證亞埃級超高分辨率的同時大大簡化操作，實現(xiàn)高分辨觀察與易用性的結(jié)合。TEM晶格像分辨率達到0.102nm，STEM分辨率0.078nm，搭配高端Helios 5系列FIB系統(tǒng)可以制備、觀察厚度在20nm以下的超薄樣品。4k × 4k 16M Gatan相機可在 64 位平臺上提供大視場、高靈敏度快速成像。

Si（211）單晶體HAADF-STEM圖像（左）和圖像強度曲線分布（右下）、FFT功率譜（右上）

此外TEM配備了對稱布置的雙100 mm2 高立體角能譜檢測器( “Dual SDD”)，以最大限度提高分析通量，可對材料表面微區(qū)成分以及膜層結(jié)構(gòu)進行面、線、點分布的定性和半定量分析。 季豐電子實驗室擁有多位經(jīng)驗豐富的電鏡工程師，熟悉各種半導體樣品、薄膜樣品、金屬樣品等，為客戶提供準確、高質(zhì)量的分析結(jié)果，歡迎新老用戶前來咨詢、委案。