無(wú)需FMM，京東方研發(fā)出光刻AMQLED
近日，BOE（京東方）基于量子點(diǎn)直接光刻工藝（direct photolithography of quantum dots in QLED， DP-QLED）開發(fā)的4.7英寸650 PPI 主動(dòng)矩陣量子點(diǎn)發(fā)光二極管（AMQLED）顯示樣機(jī)驚艷亮相2023 SID國(guó)際顯示周，引發(fā)業(yè)界廣泛關(guān)注。
BOE（京東方）這款光刻法AMQLED樣機(jī)對(duì)比度超過(guò)10，000，000 ： 1，色域可達(dá)85% BT2020。
BOE（京東方）開發(fā)的量子點(diǎn)直接光刻（DP-QLED）工藝，僅需要涂膜、曝光、顯影三步即實(shí)現(xiàn)了一種量子點(diǎn)的圖案化；相對(duì)于其它光刻圖案化工藝，步驟減少，無(wú)需引入附加結(jié)構(gòu)，可有效提升效率、成本可大幅降低。
該工藝無(wú)需使用昂貴且制作周期長(zhǎng)的精細(xì)金屬掩模版（FMM），通過(guò)使用成熟度高的曝光光罩，量子點(diǎn)直接光刻（DP-QLED）即可在全尺寸領(lǐng)域范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)高度自由的尺寸與像素密度的規(guī)格組合、高度自由的像素排布設(shè)計(jì)、更高的開口率和器件壽命、更簡(jiǎn)單的工藝制程及更靈活、高效的產(chǎn)品開發(fā)。
審核編輯 ：李倩
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