聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
集成電路
+關(guān)注
關(guān)注
5464文章
12690瀏覽量
375749
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
喜報(bào) | 匠芯創(chuàng)亮相2026珠海集成電路年會(huì) 榮膺集成電路杰出人物與創(chuàng)新集成電路人才
4月23日,備受行業(yè)關(guān)注的“芯聚珠海,智驅(qū)未來(lái)——2026珠海集成電路產(chǎn)業(yè)年會(huì)暨產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展交流會(huì)”在珠海圓滿(mǎn)落幕。這場(chǎng)由珠海市半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)主辦的行業(yè)盛會(huì),匯聚了政府領(lǐng)導(dǎo)、國(guó)家級(jí)行業(yè)專(zhuān)家、企業(yè)家
微細(xì)加工工藝集成電路技術(shù)進(jìn)步途徑
集成電路單元器件持續(xù)微小型化,是靠從微米到納米不斷創(chuàng)新的微細(xì)加工工藝技術(shù)實(shí)現(xiàn)的。
集成電路制造中薄膜生長(zhǎng)工藝的發(fā)展歷程和分類(lèi)
薄膜生長(zhǎng)是集成電路制造的核心技術(shù),涵蓋PVD、CVD、ALD及外延等路徑。隨技術(shù)節(jié)點(diǎn)演進(jìn),工藝持續(xù)提升薄膜均勻性、純度與覆蓋能力,支撐銅互連、高k柵介質(zhì)及應(yīng)變器件發(fā)展。未來(lái)將聚焦低溫沉積、三維結(jié)構(gòu)適配與新材料集成,實(shí)現(xiàn)性能與可靠
集成電路制造中常用濕法清洗和腐蝕工藝介紹
集成電路濕法工藝是指在集成電路制造過(guò)程中,通過(guò)化學(xué)藥液對(duì)硅片表面進(jìn)行處理的一類(lèi)關(guān)鍵技術(shù),主要包括濕法清洗、化學(xué)機(jī)械拋光、無(wú)應(yīng)力拋光和電鍍四大類(lèi)。這些工藝貫穿于芯片制造的多個(gè)關(guān)鍵環(huán)節(jié),直
【「芯片設(shè)計(jì)基石——EDA產(chǎn)業(yè)全景與未來(lái)展望」閱讀體驗(yàn)】+ 全書(shū)概覽
的決定》。隨后是扉頁(yè)和版權(quán)頁(yè),接著是三個(gè)序,序一中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)副理事長(zhǎng)、集成電路設(shè)計(jì)分會(huì)理事長(zhǎng)王芹生的逐夢(mèng)“芯”程:中國(guó)EDA產(chǎn)業(yè)的崛起之路;序二中國(guó)工程院院士吳漢明的領(lǐng)航“芯”程:中國(guó)EDA產(chǎn)業(yè)
發(fā)表于 01-20 19:27
【「芯片設(shè)計(jì)基石——EDA產(chǎn)業(yè)全景與未來(lái)展望」閱讀體驗(yàn)】--全書(shū)概覽
國(guó)內(nèi)集成電路設(shè)計(jì)EDA行業(yè)領(lǐng)頭羊一員,以實(shí)事求是、開(kāi)拓創(chuàng)新,積極進(jìn)取精神 向讀者展現(xiàn)講解,也是在激勵(lì)集成電路EDA產(chǎn)業(yè)不斷發(fā)展壯大,勇立潮頭。
發(fā)表于 01-18 17:50
上海重磅發(fā)文:扶持集成電路產(chǎn)業(yè)、攻堅(jiān)裝備與光刻膠!
未來(lái),上海將加快先導(dǎo)產(chǎn)業(yè)戰(zhàn)略引領(lǐng)。支持集成電路企業(yè)瞄準(zhǔn)裝備、先進(jìn)工藝、光刻膠材料、3D封裝,實(shí)現(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈突破,培育一批具有國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力的龍頭企業(yè)。同時(shí)深化全棧創(chuàng)新,推動(dòng)高性能智算芯片加快
煥新啟航·品質(zhì)躍升 IICIE國(guó)際集成電路創(chuàng)新博覽會(huì),構(gòu)建全球集成電路全產(chǎn)業(yè)鏈生態(tài)平臺(tái)
為積極響應(yīng)國(guó)家集成電路創(chuàng)新發(fā)展戰(zhàn)略部署,加快推進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)良性發(fā)展生態(tài),原“SEMI-e深圳國(guó)際半導(dǎo)體展暨集成電路產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新展”正式升級(jí)為“
“十五五”規(guī)劃集成電路被列為重點(diǎn)新興支柱產(chǎn)業(yè)#集成電路#行業(yè)發(fā)展#半導(dǎo)體
集成電路
jf_15747056
發(fā)布于 :2025年12月31日 18:21:21
躍昉科技亮相2025“中國(guó)芯”集成電路產(chǎn)業(yè)促進(jìn)大會(huì)
11月14日,國(guó)家級(jí)集成電路產(chǎn)業(yè)盛會(huì)——2025年“中國(guó)芯”集成電路產(chǎn)業(yè)促進(jìn)大會(huì)暨第二十屆“中國(guó)芯”優(yōu)秀產(chǎn)品征集結(jié)果發(fā)布儀式,在珠海橫琴天沐琴臺(tái)會(huì)議中心隆重舉行。本次大會(huì)匯聚了來(lái)自全國(guó)
集成電路制造中薄膜刻蝕的概念和工藝流程
薄膜刻蝕與薄膜淀積是集成電路制造中功能相反的核心工藝:若將薄膜淀積視為 “加法工藝”(通過(guò)材料堆積形成薄膜),則薄膜刻蝕可稱(chēng)為 “減法工藝”(通過(guò)材料去除實(shí)現(xiàn)圖形化)。通過(guò)這一 “減”
PDK在集成電路領(lǐng)域的定義、組成和作用
PDK(Process Design Kit,工藝設(shè)計(jì)套件)是集成電路設(shè)計(jì)流程中的重要工具包,它為設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)提供了與特定制造工藝節(jié)點(diǎn)相關(guān)的設(shè)計(jì)信息。PDK 是集成電路設(shè)計(jì)和制造之間的橋梁
集成電路產(chǎn)業(yè)迎利好!兩部門(mén)聯(lián)合發(fā)布計(jì)量支撐行動(dòng)方案
近日,市場(chǎng)監(jiān)管總局與工業(yè)和信息化部聯(lián)合發(fā)布《計(jì)量支撐產(chǎn)業(yè)新質(zhì)生產(chǎn)力發(fā)展行動(dòng)方案》(以下簡(jiǎn)稱(chēng)《方案》),明確提出將重點(diǎn)支持集成電路等戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè),通過(guò)突破核心計(jì)量技術(shù)瓶頸,助力產(chǎn)業(yè)高質(zhì)
2024年深圳集成電路產(chǎn)業(yè)營(yíng)收達(dá)2839.6億 同比增長(zhǎng)32.9%
近日,深圳市半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)咨詢(xún)委員會(huì)主任周生明介紹了2024年深圳市半導(dǎo)體與集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展情況。 周生明指出,據(jù)深圳市半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)統(tǒng)計(jì),截至2024年底,深圳市共有集成電路企業(yè)727家,增長(zhǎng)率
CMOS超大規(guī)模集成電路制造工藝流程的基礎(chǔ)知識(shí)
本節(jié)將介紹 CMOS 超大規(guī)模集成電路制造工藝流程的基礎(chǔ)知識(shí),重點(diǎn)將放在工藝流程的概要和不同工藝步驟對(duì)器件及電路性能的影響上。
9.2.4 切片工藝∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書(shū)》


評(píng)論