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      Atonarp 質(zhì)譜分析儀應(yīng)用于沉積和刻蝕 3D NAND 存儲(chǔ)器

      hakutovacuum ? 來(lái)源：hakutovacuum ? 作者：hakutovacuum ? 2023-06-21 10:09 ? 次閱讀
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      Aston?質(zhì)譜分析儀應(yīng)用于沉積和刻蝕 3D NAND 存儲(chǔ)器
      3D NAND 工藝通過堆疊存儲(chǔ)單元, 提供更高的比特密度, 上海伯東日本 Atonarp Aston?質(zhì)譜分析儀適用于先進(jìn)半導(dǎo)體工藝（如沉積和蝕刻）所需的定量氣體分析. 沉積應(yīng)用中: 實(shí)時(shí)過程氣體監(jiān)控，以驅(qū)動(dòng)自動(dòng)化工具調(diào)整以實(shí)現(xiàn)過程控制, 沉積步驟之間的終點(diǎn)檢測(cè), 實(shí)現(xiàn)層的化學(xué)計(jì)量工程; 蝕刻應(yīng)用中: 以 ppb 為單位測(cè)量的工藝氣體和副產(chǎn)品, 啟用端點(diǎn)腔室清潔.


      3D NAND 工藝概述

      工藝步驟

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      wKgaomSSW8aAA2wxAAA-bBebR28122.JPG

      wKgZomSSW8eAPSfTAAA7eNlRf18592.JPG

      堆疊沉積: 交替氧化物（藍(lán)色）和氮化物（綠色）薄膜沉積（每個(gè)堆疊 >200 對(duì)） 通道蝕刻: 沉積硬掩模, 形成開口, 高縱橫比通道貫穿所有層（每個(gè)晶片>1 萬(wàn)億個(gè)孔） 階梯蝕刻: 字線的接觸焊盤是使用產(chǎn)生階梯結(jié)構(gòu)的受控蝕刻來(lái)創(chuàng)建的.
      ASTON 優(yōu)勢(shì) 均勻的厚度對(duì)電氣性能至關(guān)重要. Aston?質(zhì)譜分析儀可實(shí)現(xiàn)厚度控制, 層定義和化學(xué)計(jì)量工程. 高縱橫比通道孔需要從上到下完整且均勻, 沒有彎曲或扭曲. Aston?質(zhì)譜能夠在腔內(nèi)測(cè)量蝕刻反應(yīng)物. 蝕刻輪廓控制精度（埃）. 蝕刻深度能力（微米）.
      Aston?質(zhì)譜儀通過動(dòng)態(tài)測(cè)量化學(xué)物質(zhì)來(lái)實(shí)現(xiàn)蝕刻
      工藝步驟

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      wKgZomSSW8iAJhgdAAA_PLHFvsI597.JPG

      wKgaomSSW8mAMOVPAABGOnHj0ZA552.JPG

      狹縫蝕刻: 沉積硬掩模層, 形成硬開口圖案, 蝕刻狹縫以分離通道孔列. 這將創(chuàng)建一個(gè)存儲(chǔ)單元陣列. 字線沉積: 在一些 3D NAND 方案中, 除去氮化物層, 然后使用由內(nèi)向外的原子層沉積工藝（紫色）創(chuàng)建鎢字線. 晶圓上最終 3D NAND 結(jié)構(gòu)的橫截面
      ASTON優(yōu)勢(shì) Aston?質(zhì)譜儀通過連續(xù)測(cè)量反應(yīng)物來(lái)實(shí)現(xiàn)蝕刻的均勻性和精度. 除去氮化層并填充鎢. Aston?質(zhì)譜儀實(shí)現(xiàn)了分子水平的控制.

      來(lái)源: Lam Research: 3D NAND - Key Process Steps (2016) url: https://www.youtube.com/watch?v=hglK1cf3meM

      Aston? 質(zhì)譜儀優(yōu)勢(shì)
      ppb 級(jí)靈敏度的高速采樣
      非常適合高縱橫比的 3D 結(jié)構(gòu)
      耐腐蝕性氣體, 堅(jiān)固緊湊
      易于集成到工具平臺(tái)中
      沉積應(yīng)用中: 實(shí)時(shí)過程氣體監(jiān)控，以驅(qū)動(dòng)自動(dòng)化工具調(diào)整以實(shí)現(xiàn)過程控制, 沉積步驟之間的終點(diǎn)檢測(cè), 實(shí)現(xiàn)層的化學(xué)計(jì)量工程
      蝕刻應(yīng)用中: 以 ppb 為單位測(cè)量的工藝氣體和副產(chǎn)品, 啟用端點(diǎn)腔室清潔

      Atonarp Aston? 技術(shù)參數(shù)

      類型 Impact-300 Impact-300DP Plasma-200 Plasma-200DP Plasma-300 Plasma-300DP
      型號(hào) AST3007 AST3006 AST3005 AST3004 AST3003 AST3002
      質(zhì)量分離 四級(jí)桿
      真空系統(tǒng) 分子泵 分子泵
      隔膜泵      		 分子泵 分子泵
      隔膜泵      		 分子泵 分子泵
      隔膜泵
      檢測(cè)器 FC /SEM
      質(zhì)量范圍 2-285 2-220 2-285
      分辨率 0.8±0.2
      檢測(cè)限 0.1 PPM
      工作溫度 15-35“℃
      功率 350 W
      重量 15 kg
      尺寸 299 x 218 x 331 LxWxH(mm) 400 x 240 x 325 LxWxH(mm)


      若您需要進(jìn)一步的了解 Atonarp Aston?在線質(zhì)譜分析儀詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)聯(lián)絡(luò)

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      審核編輯黃宇

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