Atonarp 質(zhì)譜儀通過數(shù)字分子分析推進(jìn)半導(dǎo)體過程控制
先進(jìn)半導(dǎo)體應(yīng)用的原位過程控制
上海伯東日本 Atonarp Aston? Impact 和 Aston? Plasma 是超緊湊型質(zhì)譜儀, 適用于先進(jìn)半導(dǎo)體工藝（如沉積和蝕刻）所需的定量氣體分析.
 分子測量 快速，靈敏度達(dá)到十億分之一 檢測殘留氣體 / 冷凝物污染. |
 提高產(chǎn)量 提供化學(xué)特定的可操作見解, 盡可能地提高產(chǎn)量 |
 提高安全性 監(jiān)測爆炸性氣體. 檢查排放和減排效果. |
Aston? 質(zhì)譜儀解決了關(guān)鍵的原位計(jì)量問題
? 提高吞吐量:端點(diǎn)檢測而不是基于時(shí)間的流程
? 提高產(chǎn)量: 以十億分之一的靈敏度測量沉積和蝕刻工藝期間的工藝氣體 / 副產(chǎn)物
Aston? 質(zhì)譜儀先進(jìn)工藝的優(yōu)勢
ppb 級(jí)靈敏度的高速采樣
非常適合高縱橫比的 3D 結(jié)構(gòu)
耐腐蝕性氣體
堅(jiān)固緊湊
易于集成到工具平臺(tái)中
沉積應(yīng)用中: 實(shí)時(shí)過程氣體監(jiān)控，以驅(qū)動(dòng)自動(dòng)化工具調(diào)整以實(shí)現(xiàn)過程控制, 沉積步驟之間的終點(diǎn)檢測, 實(shí)現(xiàn)層的化學(xué)計(jì)量工程
蝕刻應(yīng)用中: 以 ppb 為單位測量的工藝氣體和副產(chǎn)品, 啟用端點(diǎn)腔室清潔
Atonarp Aston? 技術(shù)參數(shù)
| 類型 | Impact-300 | Impact-300DP | Plasma-200 | Plasma-200DP | Plasma-300 | Plasma-300DP |
| 型號(hào) | AST3007 | AST3006 | AST3005 | AST3004 | AST3003 | AST3002 |
| 質(zhì)量分離 | 四級(jí)桿 | |||||
| 真空系統(tǒng) | 分子泵 |
分子泵 隔膜泵 |
分子泵 |
分子泵 隔膜泵 |
分子泵 |
分子泵 隔膜泵 |
| 檢測器 | FC /SEM | |||||
| 質(zhì)量范圍 | 2-285 | 2-220 | 2-285 | |||
| 分辨率 | 0.8±0.2 | |||||
| 檢測限 | 0.1 PPM | |||||
| 工作溫度 | 15-35“℃ | |||||
| 功率 | 350 W | |||||
| 重量 | 15 kg | |||||
| 尺寸 | 299 x 218 x 331 LxWxH(mm) | 400 x 240 x 325 LxWxH(mm) |
Aston? 質(zhì)譜儀半導(dǎo)體制造應(yīng)用
|
先進(jìn)的工藝 原子層沉積 (ALD) 化學(xué)氣相沉積 (CVD) 原子層蝕刻 (ALE) 腔室管理 干凈的終點(diǎn)檢測 指紋識(shí)別和匹配 Sub-fab安全性, 可持續(xù)性和節(jié)省優(yōu)化 過程安全監(jiān)控 干泵保護(hù) 減排管理 |
|
沉積 化學(xué)氣相沉積 鎢 TEOS 蝕刻 介電,導(dǎo)電,金屬 高縱橫比 <1% 開放區(qū)域檢測 EUV/光刻 SnH4 蝕刻 光掩模蝕刻 自主過程控制 模型驅(qū)動(dòng)的實(shí)時(shí)過程監(jiān)控 |
審核編輯黃宇
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