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碳化硅外延片全球首個(gè)SEMI國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布,瀚天天成主導(dǎo)

微云疏影 ? 來(lái)源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-08-24 10:37 ? 次閱讀
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國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(semi)正式公布了世界最早的“碳化硅半導(dǎo)體外延晶片全球首個(gè)semi國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)——《4H-SiC同質(zhì)外延片標(biāo)準(zhǔn)》 (specification for 4h-sic homoepitaxial wafer)”。該標(biāo)準(zhǔn)由瀚天天成電子科技(廈門(mén))股份有限公司主導(dǎo)編寫(xiě),中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所,株洲中車(chē)時(shí)代電氣股份有限公司,wolfspeed等12家公司參與編寫(xiě),歷時(shí)3年。

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據(jù)了解,《4H-SiC同質(zhì)外延片標(biāo)準(zhǔn)》這一國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)布和實(shí)施,將在規(guī)范國(guó)際硅電石半導(dǎo)體外延行業(yè)有序發(fā)展,在降低國(guó)際貿(mào)易合作成本,加快新技術(shù)全球推廣等方面具有深遠(yuǎn)意義。

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