chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

氫空位簇對(duì)鍺烷電子結(jié)構(gòu)的調(diào)控以及鍺烷中分子摻雜的影響

鴻之微 ? 來(lái)源:鴻之微 ? 2023-08-24 16:15 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

01引言?

2013年,Bianco等通過(guò)CaGe2拓?fù)浠瘜W(xué)剝離的方法,首次在實(shí)驗(yàn)上合成了具有較高熱穩(wěn)定性和抗氧化性的單層鍺烷。鍺烷因其合適的帶隙、較高的電子遷移速率、較好的環(huán)境穩(wěn)定性、較小的電噪聲和超薄的幾何結(jié)構(gòu),有望取代現(xiàn)有硅基或鍺基材料成為下一代半導(dǎo)體器件的理想載體。目前,成熟的脫氫技術(shù)已可實(shí)現(xiàn)較為精確可控的氫缺陷調(diào)制,這有利于脫去鍺烷特定位置和特定數(shù)量的氫原子。尤其值得關(guān)注的是,脫氫還往往會(huì)誘導(dǎo)體系產(chǎn)生磁性,而具有可調(diào)控的磁性是量子信息器件應(yīng)用的前提。因此,采用脫氫的方式調(diào)控鍺烷的電子性質(zhì)仍具有較大的優(yōu)勢(shì)。盡管如此,鍺烷基半導(dǎo)體器件在實(shí)際應(yīng)用中仍面臨許多挑戰(zhàn),其中一個(gè)重大挑戰(zhàn)便是如何實(shí)現(xiàn)有效且安全可控的載流子摻雜。而傳統(tǒng)的半導(dǎo)體摻雜很容易破壞僅有原子層級(jí)別厚度的二維半導(dǎo)體材料。相比之下,在不損壞襯底材料的前提下,表面非共價(jià)吸附分子是一種安全有效的載流子摻雜方式?;谝陨系目紤],本文系統(tǒng)研究了氫空位簇對(duì)鍺烷電子結(jié)構(gòu)的調(diào)控以及鍺烷中分子摻雜的影響。

02成果簡(jiǎn)介

本文基于密度泛函理論和非平衡格林函數(shù)的第一性原理方法,使用鴻之微的DS-PAW和Nanodcal軟件研究了不同構(gòu)型和濃度的氫空位簇對(duì)鍺烷電子結(jié)構(gòu)及鍺烷中Tetrathiafulvalene (TTF)分子摻雜性能的影響。計(jì)算結(jié)果表明,不同構(gòu)型氫空位簇的引入可誘導(dǎo)GermananeDehydrogenated-xH(GD-xH)體系產(chǎn)生不同性質(zhì)的磁性,且磁矩大小亦與Lieb定理的預(yù)測(cè)結(jié)果相符,并能在GD-xH/TTF (x=1,4, 6)體系自旋向下的能帶結(jié)構(gòu)中實(shí)現(xiàn)由缺陷態(tài)引起的類p型半導(dǎo)體摻雜效應(yīng),其電子激發(fā)所需的能量則會(huì)隨著體系脫氫濃度的升高而不斷降低。吸附TTF分子后,G/TTF和GD-xH/TTF(x=1, 2, 6)體系表現(xiàn)出分子摻雜效應(yīng),且GD-xH/TTF (x=1, 6)體系因分子軌道與缺陷態(tài)的雜化作用,可在自旋向上與自旋向下的能帶結(jié)構(gòu)中形成不同的摻雜類型。進(jìn)一步的量子輸運(yùn)計(jì)算還表明,Armchair和Zigzag類型的鍺烷基器件表現(xiàn)為明顯的各向同性,且TTF分子吸附所導(dǎo)致的載流子摻雜可大幅提高其I-V特性。

03圖文導(dǎo)讀

97cdf63a-4255-11ee-a2ef-92fbcf53809c.png

圖1鍺烷中典型的四種氫空位簇構(gòu)型俯視圖:(a) GD-1H;(b) GD-2H;(c) GD-4H;(d) GD-6H,藍(lán)色、綠色小球分別代表Ge和H原子

9836c7d2-4255-11ee-a2ef-92fbcf53809c.png

圖2 (a)-(e)鍺烷和不同氫空位簇鍺烷GD-xH(x=1, 2, 4, 6)體系對(duì)應(yīng)的能帶結(jié)構(gòu); (f) Eg, Ep和體系磁矩隨脫氫濃度的變化

98ac3e36-4255-11ee-a2ef-92fbcf53809c.png

圖3G/TTF和GD-xH/TTF (x=1, 2, 4, 6)最佳吸附構(gòu)型的俯視圖和側(cè)視圖:(a) H2-site;(b) V2-side, (c) B2-side, (d) H2-side, (e) V2-side.藍(lán)色、綠色、紅色和棕色小球分別代表Ge、H、S和C原子

98dc9040-4255-11ee-a2ef-92fbcf53809c.png

圖4 (a) G/TTF和(b)-(e) GD-xH/TTF (x=1, 2, 4, 6)體系對(duì)應(yīng)能帶結(jié)構(gòu),其中綠色和粉色平帶分別代表由TTF分子貢獻(xiàn)和脫氫處的Ge原子貢獻(xiàn),橙色平帶代表由TTF分子和脫氫處Ge原子共同貢獻(xiàn);(f) Eg, En, Ep和體系凈磁矩隨脫氫濃度的變化

99480faa-4255-11ee-a2ef-92fbcf53809c.png

圖5 G/TTF體系和GD-xH/TTF (x=1, 2, 4, 6)體系的HOMO和LUMO.等值面設(shè)為0.004e/?3

998874e6-4255-11ee-a2ef-92fbcf53809c.png

圖6 (a)-(e) G/TTF和GD-xH/TTF (x=1, 2, 4, 6)體系的差分電荷密度俯視和側(cè)視圖.青色和黃色分別代表失電荷和得電荷.等值面設(shè)為(a) 0.0002 e/?3, (b)-(e) 0.001 e/?3

99b7f11c-4255-11ee-a2ef-92fbcf53809c.png

圖7 (a)-(b)基于Armchair和Zigzag構(gòu)型的鍺烷基納米器件模

99f32ffc-4255-11ee-a2ef-92fbcf53809c.png

圖8 (a)-(b) Armchair和Zigzag類型的鍺烷器件模型的電子透射譜和態(tài)密度圖.藍(lán)色實(shí)線表示透射譜曲線,綠色虛線表示態(tài)密度

9a409dc8-4255-11ee-a2ef-92fbcf53809c.png

圖9 (a)-(d)本征鍺烷、G/TTF和GD-xH/TTF (x=1, 2)基器件的I-V特性曲線

04 小結(jié)

本文使用鴻之微的DS-PAW和Nanodcal軟件,研究了不同構(gòu)型和濃度的氫空位簇對(duì)鍺烷的電子結(jié)構(gòu)及其TTF分子摻雜效應(yīng)的影響,并基于非平衡格林函數(shù)計(jì)算了對(duì)應(yīng)的鍺烷基納米器件的電子輸運(yùn)特性。研究結(jié)果表明,引入氫空位簇可以有效地調(diào)控體系的磁性和能帶結(jié)構(gòu),且磁矩大小符合Lieb定理預(yù)測(cè)分析,并可在具有磁性的GD-xH(x=1, 4, 6)體系自旋向下的能帶結(jié)構(gòu)中形成由缺陷態(tài)引入的類p型摻雜效應(yīng)。吸附TTF分子后,不同于G/TTF和GD-2H/TTF體系中形成的n型分子摻雜效應(yīng),GD-xH/TTF(x=1, 6)體系在分子軌道與缺陷態(tài)的共同作用下,可在自旋向上與自旋向下的能帶結(jié)構(gòu)中分別形成n型與p型兩種不同的摻雜效應(yīng)。而GD-4H/TTF體系中的類n型或類p型摻雜效應(yīng)仍由氫空位簇的缺陷態(tài)引入。進(jìn)一步的量子輸運(yùn)計(jì)算結(jié)果表明,Armchair和Zigzag構(gòu)型的器件輸運(yùn)特性都表現(xiàn)出了明顯的各向同性,而吸附TTF分子能極大地改善器件的I-V特性曲線。





審核編輯:劉清

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • MTTF
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    14

    瀏覽量

    9432
  • 納米器件
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    21

    瀏覽量

    8162

原文標(biāo)題:文獻(xiàn)賞析 | 氫空位簇調(diào)控鍺烷的電子結(jié)構(gòu)和分子摻雜(劉剛)

文章出處:【微信號(hào):hzwtech,微信公眾號(hào):鴻之微】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    瞬態(tài)吸收光譜技術(shù)用于觀測(cè)主客體間高效的三重態(tài)-三重態(tài)能量轉(zhuǎn)移(TTET)過(guò)程與熱激活反向TTET(rTTET)過(guò)程

    “三重態(tài)能量陷阱”調(diào)控的主客體摻雜室溫磷光材料設(shè)計(jì)新策略。該研究構(gòu)建了一系列以二苯甲酮(BP)作為主體分子,醌類化合物(AQ、1,4-AQ,NAQ和PAQ)為客體分子的主客體
    的頭像 發(fā)表于 10-29 07:57 ?310次閱讀
    瞬態(tài)吸收光譜技術(shù)用于觀測(cè)主客體間高效的三重態(tài)-三重態(tài)能量轉(zhuǎn)移(TTET)過(guò)程與熱激活反向TTET(rTTET)過(guò)程

    微量摻雜元素在半導(dǎo)體器件發(fā)展中的作用

    微量摻雜元素表征的意義1.材料性能摻雜元素可改變半導(dǎo)體的能帶結(jié)構(gòu)和載流子行為,從而決定器件的電學(xué)特性。以硅材料為例,摻入五價(jià)砷(As)元素可為晶格引入多余電子,使本征硅轉(zhuǎn)變?yōu)閚型半導(dǎo)體
    的頭像 發(fā)表于 08-27 14:58 ?578次閱讀
    微量<b class='flag-5'>摻雜</b>元素在半導(dǎo)體器件發(fā)展中的作用

    系統(tǒng) PEM 電解槽直流接入仿真驗(yàn)證深度解析

    的核心部件,起到分離產(chǎn)物氣體和絕緣電極的作用。 PEM 電解槽利用直流電將水分解為氫氣和氧氣,EasyGo PEM 電解槽模型輸入部分為功率和負(fù)載電壓,輸出包括總電壓、總電流、制速率、制效率以及制氧速率
    發(fā)表于 07-03 18:25

    TechWiz LCD 3D應(yīng)用:微液晶分子摩擦排布

    在實(shí)際的摩擦過(guò)程中,液晶分子并不是按照摩擦方向均勻排布的,此軟件的微擾法選項(xiàng)(Perturbation Method)允許液晶分子以類似于實(shí)際摩擦過(guò)程的方式移動(dòng),當(dāng)使用了微擾方式時(shí),液晶分子在表面
    發(fā)表于 06-10 08:44

    內(nèi)藏式觸控高分子分散液晶結(jié)構(gòu)的光學(xué)復(fù)合結(jié)構(gòu)及液晶線路激光修復(fù)

    一、引言 隨著觸控顯示技術(shù)的發(fā)展,內(nèi)藏式觸控高分子分散液晶結(jié)構(gòu)的光學(xué)復(fù)合結(jié)構(gòu)憑借其獨(dú)特優(yōu)勢(shì),在智能終端等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。然而,在生產(chǎn)與使用過(guò)程中,液晶線路易出現(xiàn)故障,研究其修復(fù)技術(shù)對(duì)提升產(chǎn)品
    的頭像 發(fā)表于 04-30 14:44 ?512次閱讀
    內(nèi)藏式觸控高<b class='flag-5'>分子</b>分散液晶<b class='flag-5'>結(jié)構(gòu)</b>的光學(xué)復(fù)合<b class='flag-5'>結(jié)構(gòu)</b>及液晶線路激光修復(fù)

    半導(dǎo)體器件中微量摻雜元素的EDS表征

    微量摻雜元素在半導(dǎo)體器件的發(fā)展中起著至關(guān)重要的作用,可以精準(zhǔn)調(diào)控半導(dǎo)體的電學(xué)、光學(xué)性能。對(duì)器件中微量摻雜元素的準(zhǔn)確表征和分析是深入理解半導(dǎo)體器件特性、優(yōu)化器件性能的關(guān)鍵步驟,然而由于微量摻雜
    的頭像 發(fā)表于 04-25 14:29 ?1505次閱讀
    半導(dǎo)體器件中微量<b class='flag-5'>摻雜</b>元素的EDS表征

    基于激光摻雜與氧化層厚度調(diào)控的IBC電池背表面場(chǎng)區(qū)圖案化技術(shù)解析

    IBC太陽(yáng)能電池因其背面全電極設(shè)計(jì),可消除前表面金屬遮擋損失,成為硅基光伏技術(shù)的效率標(biāo)桿。然而,傳統(tǒng)圖案化技術(shù)(如光刻、激光燒蝕)存在工藝復(fù)雜或硅基損傷等問(wèn)題。本研究創(chuàng)新性地結(jié)合激光摻雜與濕法氧化
    的頭像 發(fā)表于 04-23 09:03 ?635次閱讀
    基于激光<b class='flag-5'>摻雜</b>與氧化層厚度<b class='flag-5'>調(diào)控</b>的IBC電池背表面場(chǎng)區(qū)圖案化技術(shù)解析

    BGT24LTR11N16用于信號(hào)生成和接收的硅雷達(dá)MMIC技術(shù)手冊(cè)

    BGT24LTR11N16是用于信號(hào)生成和接收的硅雷達(dá)MMIC,工作范圍在24.00至24.25 GHz的24.0GHz ISM頻段。它基于 24GHz 基本壓控振蕩器(VCO)。該器件在設(shè)計(jì)時(shí)
    的頭像 發(fā)表于 04-21 16:49 ?1021次閱讀
    BGT24LTR11N16用于信號(hào)生成和接收的硅<b class='flag-5'>鍺</b>雷達(dá)MMIC技術(shù)手冊(cè)

    TechWiz LCD 3D應(yīng)用:微液晶分子摩擦排布

    在實(shí)際的摩擦過(guò)程中,液晶分子并不是按照摩擦方向均勻排布的,此軟件的微擾法選項(xiàng)(Perturbation Method)允許液晶分子以類似于實(shí)際摩擦過(guò)程的方式移動(dòng),當(dāng)使用了微擾方式時(shí),液晶分子在表面
    發(fā)表于 04-01 08:59

    電子技術(shù)基礎(chǔ)》(模電+數(shù)電)教材配套課件PPT

    ,半導(dǎo)體一般呈晶體結(jié)構(gòu)。 二、半導(dǎo)體的特性半導(dǎo)體的導(dǎo)電特性:1.摻雜性:在半導(dǎo)體中摻入微量雜質(zhì),可改變其電阻率和導(dǎo)電類型(可做成各種不同用途的半導(dǎo)體器件,如二極管和三極管等)。 2.溫度敏感性:半導(dǎo)體
    發(fā)表于 03-25 16:21

    導(dǎo)熱硅膠片科普指南:5個(gè)關(guān)鍵問(wèn)題一次說(shuō)清

    + 0.5mm) 四、硅膠墊會(huì)釋放硅油污染電路嗎? 結(jié)論:劣質(zhì)產(chǎn)品會(huì),優(yōu)質(zhì)硅膠片通過(guò)工藝控制可避免。硅油揮發(fā)機(jī)制:未完全交聯(lián)的硅橡膠在高溫下(>150℃)可能析出低分子硅氧
    發(fā)表于 03-11 13:39

    新型基紅外傳感器問(wèn)世,靈敏度提升 35%

    ? 1 月 5 日消息,芬蘭阿爾托大學(xué)的研究團(tuán)隊(duì)在紅外傳感器領(lǐng)域取得重大突破,成功開(kāi)發(fā)出一種基于材料的光電二極管(photodiode), 其靈敏度比目前廣泛使用的基傳感器高出 35% 。這一
    的頭像 發(fā)表于 01-22 16:56 ?595次閱讀

    TRCX:摻雜過(guò)程分析

    在 LTPS 制造過(guò)程中,使用自對(duì)準(zhǔn)掩模通過(guò)離子注入來(lái)金屬化有源層。當(dāng)通過(guò) TRCX 計(jì)算電容時(shí),應(yīng)用與實(shí)際工藝相同的原理。工程師可以根據(jù)真實(shí)的 3D 結(jié)構(gòu)提取準(zhǔn)確的電容,并分析有源層離子注入前后的電位分布,如下圖所示。 (a)FIB (b) 摻雜前后對(duì)比
    發(fā)表于 01-08 08:46

    清華大學(xué)深研院呂偉EES:聚二甲基硅氧涂層穩(wěn)定鋁金屬負(fù)極

    密度與極限電流密度的比值作為關(guān)鍵參數(shù),并開(kāi)發(fā)了一種具有精確調(diào)控厚度的聚二甲基硅氧(PDMS)涂層,以有效平衡界面反應(yīng)和質(zhì)量傳輸,實(shí)現(xiàn)了鋁的均勻電沉積。這項(xiàng)工作不僅為鋁電沉積提供了新的理解,還為構(gòu)建長(zhǎng)期穩(wěn)定性鋁基電池提供了
    的頭像 發(fā)表于 01-02 09:55 ?1325次閱讀
    清華大學(xué)深研院呂偉EES:聚二甲基硅氧<b class='flag-5'>烷</b>涂層穩(wěn)定鋁金屬負(fù)極

    材料、硅退火片和絕緣體上硅(SOI)的介紹

    本文介紹硅材料、硅退火片和絕緣體上硅(SOI) 硅(SiGe/Si)材料 硅(SiGe/Si)材料,作為近十年來(lái)硅基材料的新發(fā)展,通過(guò)在硅襯底上生長(zhǎng)硅合金外延層而制得。這種材料
    的頭像 發(fā)表于 12-24 09:44 ?2564次閱讀
    硅<b class='flag-5'>鍺</b>材料、硅退火片和絕緣體上硅(SOI)的介紹