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定向去除微污染物,可助力半導(dǎo)體制造高效除污,確保材料純度

Entegris應(yīng)特格微電子 ? 來源:Entegris應(yīng)特格微電子 ? 2023-09-25 16:50 ? 次閱讀
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半導(dǎo)體制程中,一系列復(fù)雜的先進(jìn)材料和環(huán)境控制的相互作用,致使每種材料和環(huán)境控制均須符合純度標(biāo)準(zhǔn)才能確保晶圓良率和器件可靠性。在不破壞材料成分的情況下,分析相互作用的影響因素,從而去除特定微污染物的過程,即稱為定向去除。

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Entegris 采用整體方法來保障每個(gè)制程和整個(gè)半導(dǎo)體供應(yīng)鏈中的準(zhǔn)確性,從而為您節(jié)省時(shí)間和資金。以下說明工作原理。

什么是定向去除?

幾乎所有進(jìn)入晶圓廠的物質(zhì),包括液體、氣體和環(huán)境空氣,都有可能攜帶污染物,會(huì)對(duì)晶圓和器件的性能造成不利影響。每個(gè)制程區(qū)域?qū)γ糠N污染物的敏感度各不相同。在不破壞成分的情況下,定向去除微污染物需要格外謹(jǐn)慎。定向去除模型可以識(shí)別各種微污染物的威脅,從而保持材料原有的平衡狀態(tài)。示例如下:

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左右滑動(dòng)圖片查看更多示例

構(gòu)建定向去除模型

要構(gòu)建用于執(zhí)行和測量純度的模型,全程需要半導(dǎo)體供應(yīng)鏈中的所有成員通力合作。

01

確定每個(gè)制程中的定向微污染物和敏感度水平以了解晶圓廠概況

02

識(shí)別并去除材料純度破壞的風(fēng)險(xiǎn)以保持材料性能

03

分析在指定制程中相互作用的所有材料以及對(duì)整個(gè)晶圓廠的影響

04

根據(jù)以往經(jīng)驗(yàn)推薦每個(gè)制程區(qū)域適用的過濾器和/或純化器

05

測試并驗(yàn)證解決方案的有效性

助力半導(dǎo)體制造高效除污

Entegris 提供廣泛的材料純度專業(yè)知識(shí)和系統(tǒng)化方法,可在整個(gè)晶圓廠生態(tài)系統(tǒng)中構(gòu)建高效的定向去除工藝。

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原文標(biāo)題:定向去除微污染物,可助力半導(dǎo)體制造高效除污,確保材料純度

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