北方華創(chuàng)“半導體晶片處理腔室及半導體處理設備”專利獲授權
北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司的“半導體晶片處理腔室及半導體處理設備”專利獲批。許可公告日為11月14日，許可公告號為cn111799191b。
根據(jù)發(fā)明專利要點，該公司提供的一種半導體晶片處理腔室及半導體處理設備；半導體晶片處理腔室包括腔體、設置在該腔體內(nèi)可沿豎直方向移動的片盒和設置在腔體內(nèi)的加熱組件，還包括溫度檢測組件，該溫度檢測組件的檢測部為溫度檢測板，該溫度檢測板設置在腔體內(nèi)，且與腔體固定連接，用于檢測腔體的內(nèi)部溫度。
本發(fā)明提供的半導體晶片處理腔室可以解決現(xiàn)有熱電偶的導線連接安全問題。
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