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MOCVD前驅體三種常見的氣化方式

中科院半導體所 ? 來源:Tom聊芯片智造 ? 2023-11-20 18:22 ? 次閱讀
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MOCVD的沉積過程是在氣相中進行,前驅體必須處于氣態(tài),才能在反應室內(nèi)與其他氣體反應生成所需的薄膜。大多數(shù)前驅體是液態(tài)或固態(tài),那么怎么讓這些前驅體實現(xiàn)相的轉化呢? 今天我們就以三種常見的氣化方式為例進行講解:氣泡法(Bubbler),液體注射法(Liquid Injection),固態(tài)升華法(Sublimation)。其中前兩種方法用于液態(tài)前驅體,最后一種方法用在粉末前驅體中。

氣泡法(Bubbler)

氣泡法原理

氫氣,氮氣或惰性氣體,被引入一個裝有液態(tài)前驅體的氣泡瓶。載氣通過液態(tài)前驅體時,它會產(chǎn)生氣泡,這些氣泡在通過液體上升的過程中帶走前驅體分子。載氣與前驅體分子混合,被傳送到反應腔室中??梢钥刂茪馀萜康臏囟扰c壓力,來控制前驅體的氣化率和混合氣中的前驅體濃度。

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氣泡瓶長什么樣?

氣泡瓶類似于我們在初中做化學實驗的集氣瓶,一般是電解拋光的不銹鋼材質。有進口管與出口管,進口管較低,出口管較高。而氣泡瓶的容量根據(jù)MOCVD的類型從 150 毫升到 3000 毫升不等。為了避免氣泡瓶或管道中出現(xiàn)前驅體冷凝,一般會有加熱裝置。

液體注射法(Liquid Injection) 原理 液態(tài)前驅體存儲在一個容器中,通過精確控制的注射泵定量推送到蒸發(fā)器中。注入的液態(tài)前驅體在蒸發(fā)器中被加熱,迅速被蒸發(fā)為氣體。蒸發(fā)后的前驅體以氣態(tài)形式進入反應室,在那里發(fā)生化學反應,形成所需的薄膜。

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優(yōu)點

1,通過控制注射泵的流速和注射時間,可以精確控制送入反應室的前驅體量。 2,適用于各種液態(tài)前驅體,包括那些在常溫下不易蒸發(fā)的前驅體。

固態(tài)升華法(Sublimation) 固態(tài)前驅體在加熱容器中被加熱至其升華點,從固態(tài)直接轉化為氣態(tài)。升華后的前驅體以氣態(tài)形式通過載氣輸送到反應室即可參與反應。

優(yōu)點

1,由于前驅體直接從固態(tài)轉化為氣態(tài),使其具有高純度。 2,通過調節(jié)加熱溫度和載氣流量,可以精確控制前驅體的供應量。

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反應腔室的前驅體濃度怎么檢測?

前驅體濃度的監(jiān)控對于薄膜質量十分關鍵。MOCVD可以集成基于非色散紅外(NDIR)技術的氣體濃度監(jiān)測器,在線測量前驅體濃度,再根據(jù)總壓力和氣體的摩爾分數(shù),可以計算出前驅體的分壓。

非色散紅外(NDIR)技術,全稱Non-Dispersive Infrared。原理是紅外光源發(fā)射的紅外光,穿過含有被測氣態(tài)前驅體的反應室,被測氣體分子吸收特定波長的紅外光,再檢測通過反應室后未被吸收的紅外光,最后根據(jù)被吸收的光強度計算氣體濃度。

編輯:黃飛

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:MOCVD前驅體常見氣化方式

文章出處:【微信號:bdtdsj,微信公眾號:中科院半導體所】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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