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幾種優(yōu)化EM的有效措施

牛牛牛 ? 來源:IC模擬版圖設計 ? 作者:IC模擬版圖設計 ? 2023-11-30 14:27 ? 次閱讀
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電遷移(EM)是一種分子位移,是由于導電電子和離子在一段時間內(nèi)的動量轉(zhuǎn)移而引起的。當電流密度較高時會發(fā)生這種現(xiàn)象,這會導致金屬離子向電子流方向漂移。EM通常發(fā)生在多年之后。

由于電遷移效應,金屬線可能會斷裂并短路。EM會增加導線電阻,這會導致電壓下降,從而導致設備降速。由于短路或開路,它還可能導致電路永久性故障。

隨著可靠性要求越來越高,EMIR問題也是必須的檢查項。目前流程一般都是根據(jù)代工廠提供的 EM 規(guī)則執(zhí)行 EM Checks,根據(jù)檢查的結(jié)果進行EM優(yōu)化。下面經(jīng)驗分享幾種優(yōu)化EM的有效措施,這些方法都經(jīng)過驗證非常有效。主要用圖示加說明來介紹。

1.增加金屬寬度以降低電流密度

這是最常用的解決EM的方法,增加到滿足電流的寬度或者通過疊層金屬實現(xiàn)電流能力。

2.合理分配大電流金屬走線

下圖是一個power mos 的EM問題示意圖,先看下左圖存在EM問題的連接方式,mos管源漏端使用橫向M1通過VIA1 連到縱向M2~M4的疊層通路上。產(chǎn)生EM問題的地方為圖中紅色閃電圖標位置M1層。

拿源端的VDD來分析,電流從上方M2~M4 到mos上對于VIA1區(qū)域電流從上到下豎直直接到源上沒有EM瓶頸,而對于左邊的源區(qū)域來說,電流需要通過橫向M1 向左流動,這樣M1就成了電流的瓶頸,所以會在這個區(qū)域產(chǎn)生M1上的EM問題。

如何改善?合理分配金屬走線,如右圖所示,原來縱向的M2~M4 足夠強壯,而到了橫向M1上時又非常弱。

我們可以把縱向M2~M4 減少成M3~M4,用M2 改成與原來M1疊層,這樣就能解決橫向電流能力。M1的EM問也就解決了。

640?wx_fmt=png

3.充分利用短金屬的強電流密度能力

有些場景可能會出現(xiàn)下圖一樣的連接方式類似魚骨型的連接,出現(xiàn)的EM問題是在較短的金屬上,這個時候我們可以借用短金屬的強電流能力來修改EM,如下圖當長度小于1u任意寬度的時候電流能力是長度大于3u寬度大于0.12的3倍能力??梢酝ㄟ^design rule中這些信息來修改EM。如下圖示意,當適當減短連線時,對電流能力的提升是成倍的。

640?wx_fmt=png

640?wx_fmt=png

4.分流,避免電流匯集瓶頸

版圖中連線對EM不合理導致在通路上存在電流瓶頸,如下左圖電流從右側(cè)到mos 管雖然版圖上做了兩條縱向M2均勻連到源端的橫向M1上,但是電流就近流入右側(cè)M2然后到下層M1,電流集中到了右側(cè)的M2到M1的通路上,反而左邊這根縱向M2上沒有EM問題。

如何改善?采用分流,盡可能讓電流分配均勻。我們采用類似星型連接讓電流分通路到mos上。這樣電流就不會匯集到同一位置上。這個方式在電源模塊功率器件到Bump連接上比較常見。

640?wx_fmt=png640?wx_fmt=png

5.大推力BUFFER 使用帶來的EM問題

對于一些使用大size的BUF,尤其是使用STD cell中的BUF,常常會遇到EM 問題,大BUF電流更大,而電源地連接強度非常弱。導致BUF的電源地區(qū)域EM嚴重。

如何優(yōu)化?找designer 討論將大size BUF改成多個小size的并聯(lián)如下示意圖。版圖上盡可能分散開,讓電源連到到每個buf上都能充分連接上。另外在周圍空的區(qū)域盡可能添加電源地的decap。Decap對EM是有非常大的幫助的,decap能夠消除電源上高頻噪聲,同時儲存能量,在buf的抽拉電流時能及時補充(個人理解)。

640?wx_fmt=png

6.高頻信號的EM 問題

高頻信號需要快速抽拉電流,所以 產(chǎn)生EM的問題也是非常明顯。對這塊的解決辦法首先要增強電源地的走線強度。對高頻信號要盡可能換到高層后金屬走線。高頻信號的BUF也是采用第五條的方式盡可能拆分并聯(lián)均勻分布。

同時周圍盡可能添加電源地decap。高反轉(zhuǎn)的cell 周圍預留足夠空間。

7.大面積功率MOS的接法

對于大面積功率管,它的連接方式還是比較講究的,很多人應該看到過下圖這種寶塔型寬度漸變的連接方式。

這種方式根據(jù)電流走向,走線寬度變化根據(jù)逐步匯總電流強度同步。比較推薦的一種走線方式。

640?wx_fmt=png

8.仿真場景與環(huán)境確認

遇到過這種情況:EM情況異常,最終排查到是testbench設置仿真時間不合理,仿真時間段也是非常重要的。選取正常工作階段的一到兩周期。仿真溫度是否合理,105°下的EM能力是150°兩倍以上。

所以確保電流信息的來源要是正確的合理的。

設計過程中及時EM檢查方式

為了避免在sign off 階段EMIR的檢查帶來的設計修改風險,上面每種方式都需要對設計較大改動。我們可以使用 Custom compiler 的Indesign EM功能。Indesign EM可以實現(xiàn)在設計過程中時時EM檢查,避免signoff時EM風險帶來的設計迭代。In Design EM的優(yōu)點是無需版圖完成,只需要連接了對于net,就可對此net進行EM check.

Check的速度是非???,使用也是非常方便一次性配置,后續(xù)只需要選對應net 進行reporting。

首先第一步需要把仿真結(jié)果中保存的電流信息反標到對應net節(jié)點上。我們知道不同的仿真corner對應的電流也是不同的,這里我看選的多個corner的仿真結(jié)果,選擇最差的電流情況進行反標,以避免個別場景下電流不是最worst的情況。

640?wx_fmt=png

電流標注成功后,隨便選擇一個mos查看對應terminal信息可以看到對應的電流信息已經(jīng)標注成功了同時Avg Peak Rms對應電流,下圖演示操作效果和debug優(yōu)化的過程。

1688558222630333.gif

1688558239723132.png

關于EM的準確性,從下面setting可以得到EM計算有兩種方式,使用Built-in是快速的方式。使用StarRC PrimeSimEMIR方式高精度方式。

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審核編輯:黃飛

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