chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

衍梓裝備:業(yè)內(nèi)首款改進(jìn)工藝SiC柵氧制備設(shè)備

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-12-08 14:46 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

新能源汽車、光伏、儲能等新興市場的強力推進(jìn)下,sic的igbt市場替代加快,但是成熟的sic比igbt技術(shù)仍在持續(xù)改善的過程中,為了加快sic的大規(guī)模市場上市企業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈條sic正在加快相關(guān)技術(shù)開發(fā)。

其中,成立于2020年的衍梓裝備是國內(nèi)領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)備公司,聚焦于硅基外延環(huán)節(jié)及SiC的晶圓制造環(huán)節(jié)。公司發(fā)展迅速,目前已形成制程段完整設(shè)備矩陣,實現(xiàn)主要客戶全覆蓋。創(chuàng)新國內(nèi)技術(shù)對半導(dǎo)體領(lǐng)域相關(guān)設(shè)備的替代和升級。

衍梓裝備擁有業(yè)界最好的研究開發(fā)組。核心技術(shù)團(tuán)隊來自國際知名的idm, foundry,設(shè)備和材料等大工廠,包括零部件,制作工程,材料,設(shè)備及模擬等領(lǐng)域,具有數(shù)十年的生產(chǎn)和研發(fā)經(jīng)驗。公司建設(shè)1000條以上測試生產(chǎn)線,瞄準(zhǔn)尖端薄膜研究開發(fā)中心、電力、射頻及先進(jìn)制程研究設(shè)備及技術(shù),與主要客戶形成良好的研究合作能力。

在硅基領(lǐng)域包括微分化和關(guān)注方向,產(chǎn)品差別化sto等離子表面處理設(shè)備,高可靠性的厚設(shè)備;碳化領(lǐng)域硅外延生長的有特色的技術(shù)創(chuàng)新為重點,產(chǎn)品有硅炭化硅基片處理設(shè)備、硅碳化缺點我電網(wǎng)氧氣制造設(shè)備,sic -硅碳化測量解決方案等。

衍梓裝備技術(shù)的自主研發(fā),產(chǎn)品是根據(jù)顧客的要求深入理解的基礎(chǔ)上進(jìn)行技術(shù)革新,可以為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品,為客戶提高收率和生產(chǎn)效率,提高產(chǎn)品的一貫性,降低客戶的生產(chǎn)費用。

在SiC制造領(lǐng)域,高溫離子注入機、金屬有機化合物化學(xué)氣相沉淀MOCVD以及柵氧制備設(shè)備是SiC領(lǐng)域的三大核心設(shè)備。在團(tuán)隊全力攻關(guān)下,衍梓裝備成功推出低缺陷SiC柵極氧化層制備設(shè)備。

在極端工作條件下,碳化硅器件的可靠性對保證系統(tǒng)的穩(wěn)定運行起著非常重要的作用,主要問題有雪崩失效、短路失效和浪涌失效等。器件的短路失效和浪涌失效除了熱失效原因外,高溫下場氧區(qū)斷裂或鋁熔化破壞柵氧導(dǎo)致柵源短路也是兩個原因,這對于沉積、熱氧化工藝也提出了更高的要求。

相較于競品所采用含一氧化氮高溫工藝,衍梓裝備設(shè)備采用改進(jìn)工藝,在各項指標(biāo)性能上均具備較強優(yōu)勢,切實有效解決產(chǎn)業(yè)痛點,其優(yōu)勢包括但不限于:

1、大幅提高晶體管的性能;

2、降低碳化硅氧化層生成成本;

3、大幅提高可靠性;

4、有助于碳化硅器件降低線寬;

5、有效降低對國外高溫零部件的依賴;

6、大幅降低碳化硅器件整體成本。

衍梓裝備由此也成為國內(nèi)第一家推出新一代低缺陷柵氧制備設(shè)備的設(shè)備企業(yè)。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 新能源汽車
    +關(guān)注

    關(guān)注

    141

    文章

    11177

    瀏覽量

    104036
  • SiC
    SiC
    +關(guān)注

    關(guān)注

    32

    文章

    3390

    瀏覽量

    67210
  • 晶圓制造
    +關(guān)注

    關(guān)注

    7

    文章

    303

    瀏覽量

    25027
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    等效厚度的微縮

    為了有效抑制短溝道效應(yīng),提高控能力,隨著MOS結(jié)構(gòu)的尺寸不斷降低,就需要相對應(yīng)的提高電極電容。提高電容的一個辦法是通過降低氧化層的厚度來達(dá)到這一目的。
    的頭像 發(fā)表于 05-26 10:02 ?728次閱讀
    等效<b class='flag-5'>柵</b><b class='flag-5'>氧</b>厚度的微縮

    IPAC碳化硅直播季倒計時丨溝槽VS平面,孰是王者?

    設(shè)計與繁復(fù)工藝的碰撞,單元均勻性與底部電場聚焦的較量,溝槽緣何在可靠性領(lǐng)域持續(xù)“占鰲”,成為行業(yè)標(biāo)桿?高溫下溝槽SiC電阻漂移,真的會成為其可靠性路上的“絆腳石”?低
    的頭像 發(fā)表于 05-15 17:05 ?405次閱讀
    IPAC碳化硅直播季倒計時丨溝槽<b class='flag-5'>柵</b>VS平面<b class='flag-5'>柵</b>,孰是王者?

    晶圓制備工藝與清洗工藝介紹

    晶圓制備是材料科學(xué)、熱力學(xué)與精密控制的綜合體現(xiàn),每一環(huán)節(jié)均凝聚著工程技術(shù)的極致追求。而晶圓清洗本質(zhì)是半導(dǎo)體工業(yè)與污染物持續(xù)博弈的縮影,每一次工藝革新都在突破物理極限。
    的頭像 發(fā)表于 05-07 15:12 ?1732次閱讀
    晶圓<b class='flag-5'>制備</b><b class='flag-5'>工藝</b>與清洗<b class='flag-5'>工藝</b>介紹

    安森美SiC JFET共源共結(jié)構(gòu)詳解

    安森美 (onsemi)cascode FET (碳化硅共源共場效應(yīng)晶體管)在硬開關(guān)和軟開關(guān)應(yīng)用中有諸多優(yōu)勢,SiC JFET cascode應(yīng)用指南講解了共源共(cascode)結(jié)構(gòu)、關(guān)鍵參數(shù)、獨特功能和設(shè)計支持。本文為第
    的頭像 發(fā)表于 03-26 17:42 ?1654次閱讀
    安森美<b class='flag-5'>SiC</b> JFET共源共<b class='flag-5'>柵</b>結(jié)構(gòu)詳解

    如何測試SiC MOSFET可靠性

    MOSFET的可靠性問題一直是制約其廣泛應(yīng)用的關(guān)鍵因素之一。層的可靠性直接影響到器件的長期穩(wěn)定性和使用壽命,因此,如何有效驗證SiC
    的頭像 發(fā)表于 03-24 17:43 ?1739次閱讀
    如何測試<b class='flag-5'>SiC</b> MOSFET<b class='flag-5'>柵</b><b class='flag-5'>氧</b>可靠性

    N型單晶硅制備過程中拉晶工藝含量的影響

    本文介紹了N型單晶硅制備過程中拉晶工藝含量的影響。
    的頭像 發(fā)表于 03-18 16:46 ?883次閱讀
    N型單晶硅<b class='flag-5'>制備</b>過程中拉晶<b class='flag-5'>工藝</b>對<b class='flag-5'>氧</b>含量的影響

    CAB450M12XM3工業(yè)級SiC半橋功率模塊CREE

    CAB450M12XM3工業(yè)級SiC半橋功率模塊CREE CAB450M12XM3是Wolfspeed(原CREE)精心打造的一工業(yè)級全碳化硅(SiC)半橋功率模塊,專為高功率密度、極端高溫環(huán)境
    發(fā)表于 03-17 09:59

    集成電路制造工藝中的偽去除技術(shù)介紹

    本文介紹了集成電路制造工藝中的偽去除技術(shù),分別討論了高介電常數(shù)柵極工藝、先柵極工藝和后柵極工藝對比,并詳解了偽
    的頭像 發(fā)表于 02-20 10:16 ?987次閱讀
    集成電路制造<b class='flag-5'>工藝</b>中的偽<b class='flag-5'>柵</b>去除技術(shù)介紹

    什么是MOSFET柵極氧化層?如何測試SiC碳化硅MOSFET的可靠性?

    氧化層?如何測試碳化硅MOSFET的可靠性?”讓我們一起跟隨基本半導(dǎo)體市場部總監(jiān)魏煒老師的講解,揭開這一技術(shù)領(lǐng)域的神秘面紗。
    發(fā)表于 01-04 12:37

    基于石英玻璃外延GaN的工藝改進(jìn)方法有哪些?

    基于石英玻璃外延GaN的工藝改進(jìn)方法主要包括以下幾個方面: 一、晶圓片制備優(yōu)化 多次減薄處理: 采用不同材料的漿液和磨盤對石英玻璃進(jìn)行多次減薄處理,可以制備出預(yù)設(shè)厚度小于70μm且厚
    的頭像 發(fā)表于 12-06 14:11 ?521次閱讀
    基于石英玻璃外延GaN的<b class='flag-5'>工藝</b><b class='flag-5'>改進(jìn)</b>方法有哪些?

    碳化硅SiC制造工藝詳解 碳化硅SiC與傳統(tǒng)半導(dǎo)體對比

    的硅砂和碳素材料(例如石油焦)作為主要原料。 這些原料通過精細(xì)磨粉、混合和成型步驟,制備成合適的反應(yīng)物。 高溫?zé)崽幚?將原料置于高溫爐中進(jìn)行熱處理。熱處理溫度一般在2000°C以上,這個高溫環(huán)境下,硅和碳反應(yīng)生成SiC。 常用的熱處理
    的頭像 發(fā)表于 11-25 16:32 ?5494次閱讀

    一文詳解SiC柵極絕緣層加工工藝

    柵極氧化層可靠性是SiC器件應(yīng)用的一個關(guān)注點。本節(jié)介紹SiC柵極絕緣層加工工藝,重點介紹其與Si的不同之處。
    的頭像 發(fā)表于 11-20 17:38 ?1324次閱讀
    一文詳解<b class='flag-5'>SiC</b>柵極絕緣層加工<b class='flag-5'>工藝</b>

    SiC單晶襯底加工技術(shù)的工藝流程

    SiC單晶是一種硬而脆的材料,切片加工難度大,磨削精度要求高,因此晶圓制造是一個長時間且難度較高的過程。本文介紹了幾種SiC單晶的切割加工技術(shù)以及近年來新出現(xiàn)的晶圓制備方法。
    的頭像 發(fā)表于 11-14 14:49 ?1724次閱讀
    <b class='flag-5'>SiC</b>單晶襯底加工技術(shù)的<b class='flag-5'>工藝</b>流程

    氧化層工藝的制造流程

    與亞微米工藝類似,氧化層工藝是通過熱氧化形成高質(zhì)量的氧化層,它的熱穩(wěn)定性和界面態(tài)都非常好。
    的頭像 發(fā)表于 11-05 15:37 ?1935次閱讀
    <b class='flag-5'>柵</b>氧化層<b class='flag-5'>工藝</b>的制造流程

    IGBT和SiC封裝用的環(huán)材料

    IGBT和SiC功率模塊封裝用的環(huán)材料在現(xiàn)代電子器件中起著至關(guān)重要的作用。以下是從多個角度對這些環(huán)材料的詳細(xì)分析:1.熱管理導(dǎo)熱性能:環(huán)氧樹脂需要具備良好的導(dǎo)熱性能,以有效散熱,防止器件過熱
    的頭像 發(fā)表于 10-18 08:03 ?1969次閱讀
    IGBT和<b class='flag-5'>SiC</b>封裝用的環(huán)<b class='flag-5'>氧</b>材料