文章來源：睞芯科技LightSense

原文作者：LIG

分辨率增強及技術(shù)(Resolution Enhancement Technique, RET)實際上就是根據(jù)已有的掩膜版設(shè)計圖形，通過模擬計算確定最佳光照條件，以實現(xiàn)最大共同工藝窗口(Common Process Window)，這部分工作一般是在新光刻工藝研發(fā)的早期進行 。

在IC技術(shù)中，具有更分辨率、更大景深和更大的曝光容許度一直是光學(xué)曝光系統(tǒng)發(fā)展的挑戰(zhàn)，這些需求一直用縮短曝光波長和發(fā)展新型光阻來應(yīng)對。同時許多分辨率增強技術(shù)也發(fā)展出來，使得光刻技術(shù)能夠適應(yīng)更小的尺寸。

不管是相移技術(shù)、還是光學(xué)鄰近修正，計算部分過于復(fù)雜，都是由計算光刻軟件完成的。

相移技術(shù)Phase-Shift Technology

相移光罩(phase-shift mask,PSM)是一項重要的分辨率增強技術(shù)，如圖所示。對于傳統(tǒng)的光罩，光透過每個縫隙處的電場強度都是同相，如圖(a)所示，由于光的衍射——衍射是光經(jīng)過邊緣時所產(chǎn)生的彎曲現(xiàn)象，光的分布范圍比縫隙寬，一個縫隙在晶圓上的電場強度分布如虛線所示，相鄰縫隙的繞射光因重疊增強了縫隙間的電場強度，光強度正比于電場強度的平方，因此兩個光投影的影像彼此太接近就很難區(qū)分出來，限制了分辨率。

將相移層復(fù)蓋于相鄰的縫隙上，將使其電場反相，如圖(b)所示，相鄰縫隙的電場會因相位相差180°而互相抵消。因此，影像可以分辨出來。要得到180°的相位差，可用一透明材料，其厚度為d=λ/2(n-1)，其中n為相移材料的折射率，λ為波長。

光學(xué)鄰近修正Optical Proximity Correction

衍射效應(yīng)會嚴重影響光學(xué)投影成像，各自的圖案會與鄰近的圖案相互作用衍射相交疊的結(jié)果即所謂的光學(xué)鄰近效應(yīng)，這種效應(yīng)在制程尺寸和其間距達到光學(xué)系統(tǒng)的分辨極限時變得越來越突顯。光學(xué)鄰近修正(optical proimity correction-OPC)是一種用來減小這種影響增強解析度的技術(shù)，該方法利用光罩上幾何圖形的修正來補償因衍射效應(yīng)所產(chǎn)生的成像誤差，例如:一條寬度接近解析度極限的線，由于兩個角的繞射效應(yīng)，出來的是一條帶有圓角的線，如左圖所示。右圖所示，為在線上的邊角上加一些額外的幾何圖案修正，將印出一條更精確的線。

計算光刻軟件包

計算光刻是依靠專用軟件包來實施的，這些軟件包都是由專門的供應(yīng)商提供的。軟件包都是要在GPU上運算，于是，計算光刻技術(shù)軟件庫應(yīng)運而生。