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鎧俠斥資16.75億元研發(fā)下一代內(nèi)存,目標(biāo)2030年前實(shí)現(xiàn)商業(yè)化

CHANBAEK ? 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2024-11-11 15:36 ? 次閱讀
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近日,日本NAND Flash大廠鎧俠宣布了一項(xiàng)重大投資計(jì)劃。據(jù)日媒報(bào)道,該公司將在未來(lái)三年內(nèi)投資360億日元(約合人民幣16.75億元),用于研發(fā)面向AI的下一代更省電的內(nèi)存。這一舉措旨在滿足未來(lái)市場(chǎng)對(duì)高效能、低功耗內(nèi)存的需求,并計(jì)劃在2030年代前半段實(shí)現(xiàn)商業(yè)化。

鎧俠表示,將研發(fā)基于CXL(Compute Express Link)技術(shù)的內(nèi)存。相較于目前的DRAM,這種新型內(nèi)存具有更低的功耗;而與現(xiàn)有的NAND Flash相比,其讀取速度更快。更重要的是,與DRAM在電力中斷時(shí)數(shù)據(jù)會(huì)消失不同,CXL內(nèi)存能夠在斷電時(shí)保留大量數(shù)據(jù),這對(duì)于AI驅(qū)動(dòng)的應(yīng)用場(chǎng)景尤為重要,能夠顯著降低耗電量。

為了支持這一研發(fā)項(xiàng)目,日本政府將提供最高50%的補(bǔ)貼,以鼓勵(lì)企業(yè)在高科技領(lǐng)域進(jìn)行更多的創(chuàng)新和投資。這一舉措不僅有助于鎧俠在研發(fā)過(guò)程中減輕財(cái)務(wù)壓力,同時(shí)也為日本在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的競(jìng)爭(zhēng)中增添了新的動(dòng)力。

隨著AI技術(shù)的快速發(fā)展和普及,市場(chǎng)對(duì)高效能、低功耗內(nèi)存的需求日益迫切。鎧俠此次的投資計(jì)劃無(wú)疑將推動(dòng)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的進(jìn)一步發(fā)展和創(chuàng)新,為未來(lái)的科技應(yīng)用提供更加堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。

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