近日，日本NAND Flash大廠鎧俠宣布了一項(xiàng)重大投資計(jì)劃。據(jù)日媒報(bào)道，該公司將在未來三年內(nèi)投資360億日元（約合人民幣16.75億元），用于研發(fā)面向AI的下一代更省電的內(nèi)存。這一舉措旨在滿足未來市場(chǎng)對(duì)高效能、低功耗內(nèi)存的需求，并計(jì)劃在2030年代前半段實(shí)現(xiàn)商業(yè)化。

鎧俠表示，將研發(fā)基于CXL（Compute Express Link）技術(shù)的內(nèi)存。相較于目前的DRAM，這種新型內(nèi)存具有更低的功耗；而與現(xiàn)有的NAND Flash相比，其讀取速度更快。更重要的是，與DRAM在電力中斷時(shí)數(shù)據(jù)會(huì)消失不同，CXL內(nèi)存能夠在斷電時(shí)保留大量數(shù)據(jù)，這對(duì)于AI驅(qū)動(dòng)的應(yīng)用場(chǎng)景尤為重要，能夠顯著降低耗電量。

為了支持這一研發(fā)項(xiàng)目，日本政府將提供最高50%的補(bǔ)貼，以鼓勵(lì)企業(yè)在高科技領(lǐng)域進(jìn)行更多的創(chuàng)新和投資。這一舉措不僅有助于鎧俠在研發(fā)過程中減輕財(cái)務(wù)壓力，同時(shí)也為日本在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的競(jìng)爭(zhēng)中增添了新的動(dòng)力。

隨著AI技術(shù)的快速發(fā)展和普及，市場(chǎng)對(duì)高效能、低功耗內(nèi)存的需求日益迫切。鎧俠此次的投資計(jì)劃無疑將推動(dòng)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的進(jìn)一步發(fā)展和創(chuàng)新，為未來的科技應(yīng)用提供更加堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。