chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

自蔓延法合成碳化硅的關(guān)鍵控制點

中科院半導(dǎo)體所 ? 來源:晶格半導(dǎo)體 ? 2024-12-20 10:20 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

本文主要介紹??????自蔓延法合成碳化硅的關(guān)鍵控制點。????

合成溫度:調(diào)控晶型、純度與粒徑的關(guān)鍵因素

在改進(jìn)的自蔓延合成法中,溫度起著決定性的作用。不同的反應(yīng)溫度,能夠精準(zhǔn)地控制 SiC 粉體的晶型。當(dāng)溫度處于 1800℃和 1950℃時,所合成的 SiC 粉體主要為β - SiC。然而,當(dāng)溫度升高至 2050℃和 2150℃,由于部分 C 粉剩余,SiC 粉體呈現(xiàn)黑色,并且經(jīng) XRD 測試發(fā)現(xiàn)有α - SiC 生成。這一奇妙的變化,為我們根據(jù)不同需求定制 SiC 晶型提供了可能。

392da9d6-bd29-11ef-8732-92fbcf53809c.png

不僅如此,反應(yīng)溫度還與 SiC 粉體的純度和粒徑緊密相連。在 1920℃至 1966℃這一區(qū)間內(nèi),隨著溫度的逐步升高,SiC 粉體的粒度會相應(yīng)增加。但當(dāng)溫度繼續(xù)攀升后,粒度又會逐漸減小,最終趨于 20μm。這就像是一場微觀世界里的“粒度舞蹈”,而溫度則是那位掌控節(jié)奏的“指揮家”。因此,在工業(yè)生產(chǎn)中,精確控制合成溫度,是獲取理想純度和粒徑 SiC 粉體的關(guān)鍵所在。

Si 源:粒度決定純度與產(chǎn)率

Si 源在高純碳化硅粉體的合成中同樣扮演著不可或缺的角色。不同粒度的 Si 粉,會對合成產(chǎn)物的組成及產(chǎn)率產(chǎn)生極為顯著的影響。當(dāng)使用粒度大于 500μm 的球狀 Si 粉時,合成產(chǎn)物中會出現(xiàn)堅硬固體,難以進(jìn)行研碎處理,這無疑給后續(xù)的生產(chǎn)工序帶來了巨大的困擾。而粒度大于 20μm 的 Si 粉體則截然不同,它能夠生成疏松的粉體,大大提高了合成產(chǎn)率。

選用合適粒度的 Si 粉,還有利于提升 SiC 粉體的純度。粒度較小的 Si 粉體在合成過程中能夠更加完全地參與反應(yīng),從而有效減少未反應(yīng)的 Si 殘留。這就好比是一場化學(xué)反應(yīng)中的“拼圖游戲”,合適粒度的 Si 粉能夠更加精準(zhǔn)地與其他原料契合,從而拼湊出純度更高的 SiC 粉體。

C 源:純度、粒徑與 N 含量的微妙平衡

C 源的純度和粒徑,對 SiC 的純度和粒徑有著直接的影響。當(dāng)以粒徑較大的活性炭作為 C 源時,合成產(chǎn)物中往往會有未反應(yīng)的 Si 粉剩余,這就如同一場未完成的化學(xué)反應(yīng)“盛宴”,留下了遺憾的“殘羹剩飯”。而粒徑較小的片狀石墨則能夠確保 Si 和 C 充分反應(yīng),成功生成純度較高的β - SiC。

此外,為了降低 SiC 粉體中 N 含量,我們還需要關(guān)注 C 源中吸附的空氣。初步研究表明,選擇粒徑較大的 C 粉可能有助于減少 N 雜質(zhì),不過其對 SiC 粉合成的具體影響,仍有待進(jìn)一步深入研究。這就像是在探索一個神秘的微觀化學(xué)世界,每一個細(xì)微的發(fā)現(xiàn)都可能為我們打開一扇全新的大門。

反應(yīng)時間:粒徑與晶型的演變之旅

反應(yīng)時間的長短,也在高純碳化硅粉體的合成中留下了深刻的印記。當(dāng)我們將合成時間延長至 15 小時,原料的顏色會逐漸變深,這一現(xiàn)象背后隱藏的秘密是粒徑在不斷變大。反應(yīng)時間對 SiC 原料的影響,主要就體現(xiàn)在粒徑這一關(guān)鍵指標(biāo)上。

同時,不同的反應(yīng)時間還會對合成產(chǎn)物的晶型產(chǎn)生影響。當(dāng)反應(yīng)時間為 4 小時時,產(chǎn)物主要為 6H - SiC;而當(dāng)反應(yīng)時間達(dá)到 12 小時后,15R - SiC 則會逐漸增多。這就像是在時間的長河中,SiC 粉體的晶型在悄然發(fā)生著“變身”,而反應(yīng)時間則是那把開啟“變身密碼”的神秘鑰匙。

壓強:優(yōu)化合成條件與結(jié)晶性能

壓強也是影響高純碳化硅粉體合成的一個重要因素。在 100 至 300Torr 的壓強范圍內(nèi),合成的 SiC 原料呈現(xiàn)出較為疏松且一致性良好的狀態(tài)。然而,一旦壓強超過 300Torr,反應(yīng)就會變得不完全,合成料偏硬,這對于后續(xù)的處理工作極為不利。

中壓強(700Torr 或 6Torr)則對 SiC 的結(jié)晶性能有著積極的促進(jìn)作用。在高壓強下,Si 粉的升華會受到抑制,從而使得反應(yīng)更加充分;而在低壓強下,粉體的熱運動得到增強,進(jìn)而促進(jìn)了結(jié)晶性能的提升。這就像是在不同的壓強“舞臺”上,SiC 粉體的合成反應(yīng)在演繹著各具特色的“精彩劇目”。

改進(jìn)的自蔓延合成法在工業(yè)生產(chǎn)高純 SiC 粉體中展現(xiàn)出了巨大的潛力和顯著的優(yōu)勢。但我們必須清楚地認(rèn)識到,要想確保最終產(chǎn)品的質(zhì)量和性能,就必須對合成溫度、Si 源、C 源、反應(yīng)時間以及壓強等諸多條件進(jìn)行嚴(yán)格而精準(zhǔn)的控制。只有這樣,我們才能在高純碳化硅粉體的工業(yè)生產(chǎn)之路上不斷前行,為高科技產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供更加優(yōu)質(zhì)的原材料保障,推動材料科學(xué)領(lǐng)域邁向更加輝煌的未來。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • SiC
    SiC
    +關(guān)注

    關(guān)注

    32

    文章

    3465

    瀏覽量

    67963
  • 碳化硅
    +關(guān)注

    關(guān)注

    25

    文章

    3270

    瀏覽量

    51693

原文標(biāo)題:自蔓延法合成碳化硅的關(guān)鍵控制點

文章出處:【微信號:bdtdsj,微信公眾號:中科院半導(dǎo)體所】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    探索碳化硅如何改變能源系統(tǒng)

    作者:Michael Williams, Shawn Luke 碳化硅 (SiC) 已成為各行各業(yè)提高效率和推動脫碳的基石。碳化硅是高級電力系統(tǒng)的推動劑,可滿足全球?qū)稍偕茉?、電動汽?(EV
    的頭像 發(fā)表于 10-02 17:25 ?1385次閱讀

    Wolfspeed碳化硅技術(shù)實現(xiàn)大規(guī)模商用

    的專利申請量就增長了約 200%。Wolfspeed 強大的知識產(chǎn)權(quán)組合支撐著材料和器件方面的關(guān)鍵突破,這些突破使得碳化硅 (SiC) 技術(shù)得以實現(xiàn)大規(guī)模商用。
    的頭像 發(fā)表于 09-22 09:31 ?480次閱讀

    碳化硅 TTV 厚度在 CMP 工藝中的反饋控制機制研究

    一、引言 化學(xué)機械拋光(CMP)工藝是實現(xiàn)碳化硅(SiC)襯底全局平坦化的關(guān)鍵技術(shù),對提升襯底質(zhì)量、保障后續(xù)器件性能至關(guān)重要??偤穸绕睿═TV)作為衡量碳化硅襯底質(zhì)量的核心指標(biāo)之一,其精確
    的頭像 發(fā)表于 09-11 11:56 ?488次閱讀
    <b class='flag-5'>碳化硅</b> TTV 厚度在 CMP 工藝中的反饋<b class='flag-5'>控制</b>機制研究

    碳化硅器件的應(yīng)用優(yōu)勢

    碳化硅是第三代半導(dǎo)體典型材料,相比之前的硅材料,碳化硅有著高擊穿場強和高熱導(dǎo)率的優(yōu)勢,在高壓、高頻、大功率的場景下更適用。碳化硅的晶體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,哪怕是在超過300℃的高溫環(huán)境下,打破了傳統(tǒng)材料下器件的參數(shù)瓶頸,直接促進(jìn)了新能源等
    的頭像 發(fā)表于 08-27 16:17 ?1063次閱讀
    <b class='flag-5'>碳化硅</b>器件的應(yīng)用優(yōu)勢

    激光干涉碳化硅襯底 TTV 厚度測量中的精度提升策略

    摘要 本文針對激光干涉碳化硅襯底 TTV 厚度測量中存在的精度問題,深入分析影響測量精度的因素,從設(shè)備優(yōu)化、環(huán)境控制、數(shù)據(jù)處理等多個維度提出精度提升策略,旨在為提高碳化硅襯底 TT
    的頭像 發(fā)表于 08-12 13:20 ?665次閱讀
    激光干涉<b class='flag-5'>法</b>在<b class='flag-5'>碳化硅</b>襯底 TTV 厚度測量中的精度提升策略

    碳化硅晶圓特性及切割要點

    01襯底碳化硅襯底是第三代半導(dǎo)體材料中氮化鎵、碳化硅應(yīng)用的基石。碳化硅襯底以碳化硅粉末為主要原材料,經(jīng)過晶體生長、晶錠加工、切割、研磨、拋光、清洗等制造過程后形成的單片材料。按照電學(xué)性
    的頭像 發(fā)表于 07-15 15:00 ?833次閱讀
    <b class='flag-5'>碳化硅</b>晶圓特性及切割要點

    低劣品質(zhì)碳化硅MOSFET的濫用將SiC逆變焊機直接推向“早衰”

    蔓延,國產(chǎn)碳化硅逆變焊機或重蹈光伏逆變器早期“價格戰(zhàn)毀”覆轍,最終淪為技術(shù)史上的失敗案例。唯有通過強制可靠性標(biāo)準(zhǔn)(如嚴(yán)格的TDDB和HTGB)、建立全生命周期質(zhì)量追溯體系,并引導(dǎo)資本投向已驗證技術(shù),才能挽救這一戰(zhàn)略產(chǎn)業(yè)。 1.
    的頭像 發(fā)表于 04-14 07:02 ?562次閱讀
    低劣品質(zhì)<b class='flag-5'>碳化硅</b>MOSFET的濫用將SiC逆變焊機直接推向“早衰”

    碳化硅薄膜沉積技術(shù)介紹

    多晶碳化硅和非晶碳化硅在薄膜沉積方面各具特色。多晶碳化硅以其廣泛的襯底適應(yīng)性、制造優(yōu)勢和多樣的沉積技術(shù)而著稱;而非晶碳化硅則以其極低的沉積溫度、良好的化學(xué)與機械性能以及廣泛的應(yīng)用前景而
    的頭像 發(fā)表于 02-05 13:49 ?1753次閱讀
    <b class='flag-5'>碳化硅</b>薄膜沉積技術(shù)介紹

    碳化硅在半導(dǎo)體中的作用

    碳化硅(SiC)在半導(dǎo)體中扮演著至關(guān)重要的角色,其獨特的物理和化學(xué)特性使其成為制作高性能半導(dǎo)體器件的理想材料。以下是碳化硅在半導(dǎo)體中的主要作用及優(yōu)勢: 一、碳化硅的物理特性 碳化硅具有
    的頭像 發(fā)表于 01-23 17:09 ?2384次閱讀

    產(chǎn)SiC碳化硅MOSFET功率模塊在工商業(yè)儲能變流器PCS中的應(yīng)用

    *附件:國產(chǎn)SiC碳化硅MOSFET功率模塊在工商業(yè)儲能變流器PCS中的應(yīng)用.pdf
    發(fā)表于 01-20 14:19

    什么是MOSFET柵極氧化層?如何測試SiC碳化硅MOSFET的柵氧可靠性?

    隨著電力電子技術(shù)的不斷進(jìn)步,碳化硅MOSFET因其高效的開關(guān)特性和低導(dǎo)通損耗而備受青睞,成為高功率、高頻應(yīng)用中的首選。作為碳化硅MOSFET器件的重要組成部分,柵極氧化層對器件的整體性能和使用壽命
    發(fā)表于 01-04 12:37

    用于切割碳化硅襯底TTV控制的硅棒安裝機構(gòu)

    一、碳化硅襯底TTV控制的重要性 碳化硅襯底的TTV是指襯底表面各厚度最高點與最低點之間的差值。TTV的大小直接影響后續(xù)研磨、拋光工序的效率和成本,以及最終產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。因此,在
    的頭像 發(fā)表于 12-26 09:51 ?465次閱讀
    用于切割<b class='flag-5'>碳化硅</b>襯底TTV<b class='flag-5'>控制</b>的硅棒安裝機構(gòu)

    碳化硅襯底修邊處理后,碳化硅襯底TTV變化管控

    一、碳化硅襯底修邊處理的作用與挑戰(zhàn) 修邊處理是碳化硅襯底加工中的一個關(guān)鍵步驟,主要用于去除襯底邊緣的毛刺、裂紋和不規(guī)則部分,以提高襯底的尺寸精度和邊緣質(zhì)量。然而,修邊過程中由于機械應(yīng)力、熱應(yīng)力以及
    的頭像 發(fā)表于 12-23 16:56 ?487次閱讀
    <b class='flag-5'>碳化硅</b>襯底修邊處理后,<b class='flag-5'>碳化硅</b>襯底TTV變化管控

    高純碳化硅粉體合成方法

    ? 本文介紹了半導(dǎo)體材料碳化硅的性能、碳化硅單晶生長以及高純碳化硅粉體的合成方式。 在科技飛速發(fā)展的今天,半導(dǎo)體材料領(lǐng)域正經(jīng)歷著一場深刻的變革。第三代寬禁帶半導(dǎo)體材料
    的頭像 發(fā)表于 12-17 13:55 ?1470次閱讀

    半導(dǎo)體與雷諾集團(tuán)簽署碳化硅長期供貨協(xié)議

    ????????意半導(dǎo)體與雷諾集團(tuán)簽署長期供貨協(xié)議,保證安培碳化硅功率模塊的供應(yīng)安全。
    的頭像 發(fā)表于 12-05 10:41 ?1013次閱讀