光刻機(jī)制造巨頭阿斯麥（ASML）的首席執(zhí)行官克里斯托夫·富凱表示，盡管近年來中國(guó)在半導(dǎo)體領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)步，但與英特爾、臺(tái)積電和三星等行業(yè)巨頭相比，中國(guó)的一些公司仍落后10到15年。眾所周知，即使中國(guó)晶圓廠擁有一流的DUV（深紫外）設(shè)備，也難以在經(jīng)濟(jì)高效的方式上與臺(tái)積電的工藝技術(shù)相媲美，主要原因在于中國(guó)公司無法獲得尖端的EUV（極紫外）光刻設(shè)備。
“如果禁止出口EUV，中國(guó)將落后西方10到15年，”克里斯托夫·富凱在接受NRC采訪時(shí)表示，“這確實(shí)會(huì)產(chǎn)生影響。”
盡管有報(bào)道稱中國(guó)曾訂購(gòu)EUV機(jī)器，但由于《瓦森納協(xié)議》以及美國(guó)的制裁，ASML從未向中國(guó)運(yùn)送過其EUV工具。不過，ASML一直在向中國(guó)運(yùn)送先進(jìn)的DUV光刻工具，如Twinscan NXT:2000i，這些工具能夠生產(chǎn)5nm和7nm級(jí)工藝技術(shù)的芯片。
由于無法獲得EUV設(shè)備，中國(guó)的一些企業(yè)多年來一直采用其第一代和第二代7納米級(jí)工藝技術(shù)生產(chǎn)芯片。這無疑幫助中國(guó)在某些高科技領(lǐng)域抵御了外部壓力。
同時(shí)，一些企業(yè)和研究機(jī)構(gòu)意識(shí)到EUV工具不會(huì)進(jìn)入國(guó)內(nèi)，因此他們開始自己探索極紫外光刻技術(shù)，目的是建立自己的光刻芯片制造工具和生態(tài)系統(tǒng)。然而，這最多需要10到15年的時(shí)間。作為參考，ASML及其合作伙伴花了20多年的時(shí)間才從基礎(chǔ)工作完成到商用機(jī)器的EUV生態(tài)系統(tǒng)建立。盡管1990年代初期/中期開發(fā)的許多技術(shù)都是已知的，但中國(guó)公司仍需投入大量時(shí)間和資源來開發(fā)和完善自己的技術(shù)。然而，等到中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)開發(fā)出低NA EUV工具時(shí)，西方芯片行業(yè)可能已經(jīng)擁有了高NA EUV光刻甚至更先進(jìn)的設(shè)備。
美國(guó)政府正在向ASML施壓，要求其停止在中國(guó)維護(hù)和修理其先進(jìn)的DUV系統(tǒng)，以符合針對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的現(xiàn)有制裁。然而，荷蘭政府迄今尚未同意這一要求。ASML旨在保留其在中國(guó)的機(jī)器的控制權(quán)，以防止敏感信息泄露的風(fēng)險(xiǎn)，這種風(fēng)險(xiǎn)可能在中國(guó)公司接管維護(hù)工作以保持其芯片工廠正常運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)發(fā)生。
審核編輯 黃宇