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高壓放大器在液晶顯示圖像殘留研究中的應用

測試技術分享 ? 來源:測試技術分享 ? 作者:測試技術分享 ? 2025-03-25 10:44 ? 次閱讀
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實驗名稱:納米粒子摻雜對響應時間的影響

測試設備:高壓放大器、信號發(fā)生器、示波器、熱臺控制器、衰減器、探測器等。

實驗過程:

wKgZPGfiGJmAU2DtAAC65kUZcWc896.png

圖1:VAN盒響應時間的測量裝置

響應時間也是影響液晶顯示圖像殘留的重要參數(shù),響應時間越短越不容易產生圖像殘留。實驗中測量響應時間的裝置如圖1所示,光源為632.8nm的紅色激光,光源經過衰減器、可調光闌、偏振片和λ/4波片后成圓偏振光,經過起偏器后成線偏振光,起偏器與檢偏器的光軸方向成90°,熱臺控制液晶盒的溫度為28°C。信號發(fā)生器輸出1kHzAC方波信號和DC信號的組合波形,組合波形的周期為2s,經高壓放大器放大后施加在液晶盒上。當電壓超過液晶盒閾值電壓后,探測器會檢測到光強的變化并傳輸?shù)绞静ㄆ魃?,通過示波器可以觀察到液晶的動態(tài)響應過程。

實驗結果:

wKgZO2fiGJmAL3ilAABYqBL_4J4814.png

圖2:不同摻雜濃度γ-Fe2O3納米粒子與負性LC混合物在VAN盒中的下降和上升時間

wKgZPGfiGJqAGi7VAAFTe3NmOjc110.png

圖3:不同摻雜濃度與響應時間的關系(a)歸一化透過率與下降時間的關系;(b)歸一化透過率與上升時間的關系;(c)下降時間與摻雜濃度的關系;(d)上升時間與摻雜濃度的關系

實驗測得的不同摻雜γ-Fe2O3納米粒子濃度對響應時間的影響如圖2所示,由圖可知納米粒子摻雜對響應時間有一定的影響。圖3(a)和圖3(b)分別給出了下降時間和上升時間的放大圖,其中下降時間為去電壓過程,上升時間為加電壓過程;由圖3(c)和圖3(d)可以看出上升時間和下降時間均隨摻雜濃度的增加先降低后升高,并在摻雜濃度為0.034wt%時達到最低值,在摻雜濃度為0.034wt%時,下降時間可以縮短8.11%,上升時間可以縮短15.49%。SRDCV與響應時間隨γ-Fe2O3納米粒子摻雜變化規(guī)律一致,說明γ-Fe2O3納米粒子的摻雜有效改善了VAN顯示模式的圖像殘留現(xiàn)象。

?高壓放大器推薦:ATA-7015

wKgZomc6tFKAb08xAACRiWYZ_tM684.png

圖:ATA-7015高壓放大器指標參數(shù)

本資料由Aigtek安泰電子整理發(fā)布,更多案例及產品詳情請持續(xù)關注我們。西安安泰電子Aigtek已經成為在業(yè)界擁有廣泛產品線,且具有相當規(guī)模的儀器設備供應商,樣機都支持免費試用。高壓放大器https://www.aigtek.com/products/bk-gyfdq.html

審核編輯 黃宇

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