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半導(dǎo)體器件CV測(cè)量技術(shù)解析

漢通達(dá) ? 2025-06-01 10:02 ? 次閱讀
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前言:研究器件特性和器件建模都離不開(kāi)精確的電容電壓(CV)測(cè)量。精確的CV模型在仿真器件的開(kāi)關(guān)特性,延遲特性等方面尤為重要。目前,在寬禁帶器件(GaN/SiC)、納米器件、有機(jī)器件、MEMS等下一代材料和器件的研究和開(kāi)發(fā)中,CV測(cè)量的重要性越來(lái)越高。因此,必須要了解CV測(cè)量的基礎(chǔ)。今天就聊一聊CV測(cè)量的基礎(chǔ)和測(cè)量的小技巧。

一、CV測(cè)量原理精要

1. 自動(dòng)平衡橋式CV儀原理
通過(guò)公式Zx=Ix/Vx測(cè)量器件阻抗:

  • Hc/Hp端施加交流信號(hào)與直流偏置,實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)DUT兩端電壓
  • Lc端通過(guò)參考電阻Rr構(gòu)建虛擬地,精確計(jì)算電流Ix=Rr·Vr
  • 優(yōu)勢(shì)高頻段穩(wěn)定性強(qiáng),可覆蓋10MHz以下頻段

6b452aae-3e8c-11f0-986f-92fbcf53809c.png圖1:簡(jiǎn)化的自動(dòng)平衡橋式CV儀框圖

2. 主流連接方式對(duì)比

方式特點(diǎn)適用場(chǎng)景

4PT四線法

高精度,獨(dú)立電流/電壓檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室精密測(cè)量

S-2T屏蔽法

簡(jiǎn)化布線(2端口),誤差可補(bǔ)償量產(chǎn)測(cè)試,集成IV/CV聯(lián)測(cè)

6b5af0f0-3e8c-11f0-986f-92fbcf53809c.png圖2:采用Shielded two terminal(S-2T)連接方式

二、晶圓級(jí)測(cè)試避坑小技巧

On-Wafer CV測(cè)量三大干擾源:卡盤(pán)寄生電容、漏電流、環(huán)境噪聲
優(yōu)化方案

接線策略

  • 低阻抗端(CML)連接?xùn)艠O,隔離卡盤(pán)噪聲
  • 縮短S-2T線纜長(zhǎng)度(建議<30cm)

參數(shù)設(shè)置

  • 信號(hào)電平:≥100mV(提升信噪比)
  • 積分時(shí)間:中/長(zhǎng)模式(犧牲速度換精度)
  • 頻率選擇:1kHz-100kHz低頻段(規(guī)避寄生效應(yīng))

6b68f290-3e8c-11f0-986f-92fbcf53809c.png圖3:On-Wafer測(cè)試示意圖

三、Keysight B1500A CV模塊介紹

硬件方案

  • MFCMU模塊多頻電容測(cè)量單元(單插槽集成)
  • SMU模塊雙通道精密直流偏置源
  • SCUU+GSWU組合實(shí)現(xiàn)CV/IV測(cè)量無(wú)縫切換,布線誤差<0.1%

6b79055e-3e8c-11f0-986f-92fbcf53809c.png

圖4:SCUU模塊及電路示意圖

軟件流程
WaferPro Express操作三步法:

  1. 創(chuàng)建測(cè)試Routine(定義DUT引腳上施加的激勵(lì),有默認(rèn)Routine可選)
  2. 配置SMU偏置(Vgs/Vds/Vbs多參數(shù)聯(lián)動(dòng))
  3. 設(shè)置CV掃描參數(shù)(頻率/電平/積分時(shí)間等)

四、MOSFET電容表征實(shí)戰(zhàn)

關(guān)鍵電容分量解析

下圖顯示了MOSFET中的電容分布:

6b87e704-3e8c-11f0-986f-92fbcf53809c.png

圖5:MOSFET器件界面圖

  • Cgc(柵-溝道電容)C4+C1+C6(含交疊電容)
  • Cgb(柵-襯底電容)反向偏壓下主導(dǎo)器件特性
  • Cgg(總柵電容)全面評(píng)估器件開(kāi)關(guān)速度
  • Cgd, Cgs(柵極和漏極/源級(jí)電容)漏極和源級(jí)結(jié)電容

測(cè)試配置范例

測(cè)試類(lèi)型連接方式WaferPro Routine設(shè)置
Cgc_Vgs_Vbs

6b9240f0-3e8c-11f0-986f-92fbcf53809c.png

6b9e1880-3e8c-11f0-986f-92fbcf53809c.png
Cgb_Vgb_Vdb

6ba8d4aa-3e8c-11f0-986f-92fbcf53809c.png

6bb63c30-3e8c-11f0-986f-92fbcf53809c.png

Cgd_Vds_Vgs

6bc23bde-3e8c-11f0-986f-92fbcf53809c.png

6bd9b796-3e8c-11f0-986f-92fbcf53809c.png
Cgg_Vgs_Vds

6be39996-3e8c-11f0-986f-92fbcf53809c.png

6bef4fb6-3e8c-11f0-986f-92fbcf53809c.png

五、技術(shù)趨勢(shì)

隨著第三代半導(dǎo)體器件向高頻高壓演進(jìn),CV測(cè)量正面臨兩大升級(jí)方向:

  1. 寬頻測(cè)量擴(kuò)展至100MHz以上高頻段,引入S參數(shù)測(cè)試。
  2. 動(dòng)態(tài)CV分析研究開(kāi)關(guān)瞬態(tài)下的電容特性遷移

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