研磨液供液系統(tǒng)是半導(dǎo)體制造中化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）工藝的核心支持系統(tǒng)，其工作原理涉及流體力學(xué)、自動(dòng)化控制及材料科學(xué)等多學(xué)科技術(shù)融合。以下是系統(tǒng)的工作流程與關(guān)鍵技術(shù)解析：

一、核心組件與驅(qū)動(dòng)方式

動(dòng)力驅(qū)動(dòng)

泵力系統(tǒng)：采用計(jì)量泵或離心泵輸送研磨液，通過(guò)調(diào)節(jié)泵速控制流量。

重力供液：在緩沖槽設(shè)計(jì)中應(yīng)用，利用液位差實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定輸出，減少脈動(dòng)現(xiàn)象。

氣壓輔助：向儲(chǔ)液容器注入惰性氣體（如氮?dú)猓?，維持正壓環(huán)境以防止氧化并提升出液效率。

混合與儲(chǔ)存模塊

自動(dòng)配比裝置：按工藝配方精確混合原液與超純水，稱重精度達(dá)±50g。

防結(jié)晶設(shè)計(jì)：加濕裝置持續(xù)通入保濕氮?dú)猓穸?95%），避免干燥環(huán)境下的溶質(zhì)析出。

雙桶冗余系統(tǒng)：靈活兩桶式結(jié)構(gòu)支持混料/供應(yīng)模式切換，任一桶均可獨(dú)立完成混合、暫存或維護(hù)功能，保障連續(xù)生產(chǎn)。

二、智能控制與監(jiān)測(cè)體系

實(shí)時(shí)參數(shù)調(diào)控

傳感器網(wǎng)絡(luò)監(jiān)測(cè)壓力、溫度、電導(dǎo)率等關(guān)鍵指標(biāo)，結(jié)合PLC或工業(yè)計(jì)算機(jī)動(dòng)態(tài)調(diào)整閥門開度與泵頻。

預(yù)設(shè)多種化學(xué)配方組合（≥10組），適配不同制程需求。

安全防護(hù)機(jī)制

泄漏檢測(cè)：配置光電漏液傳感器，觸發(fā)時(shí)聯(lián)動(dòng)關(guān)閉閥門并啟動(dòng)警報(bào)。

空桶預(yù)警：通過(guò)重量變化預(yù)測(cè)原料耗盡時(shí)間，提前切換備用容器。

高壓清洗： Supply tank具備360°高壓噴淋自清潔功能，防止交叉污染。

總之，現(xiàn)代研磨液供液系統(tǒng)已從單一供液設(shè)備演進(jìn)為集成物聯(lián)網(wǎng)、大數(shù)據(jù)功能的智能平臺(tái)。未來(lái)隨著納米級(jí)芯片制造對(duì)表面質(zhì)量要求的提高，供液系統(tǒng)將在精度、穩(wěn)定性和環(huán)保維度持續(xù)突破，成為先進(jìn)半導(dǎo)體產(chǎn)線的關(guān)鍵使能技術(shù)。