雙色調(diào)顯影（DTD）最早是由Asano提出的。DTD通過兩次單獨(dú)的顯影去除最高和最低曝光劑量區(qū)域的光刻膠，實(shí)現(xiàn)了兩倍小的間距。DTD的基本原理如圖5-11所示，光刻膠以線空圖形曝光，所得酸濃度在低（藍(lán)色）和高（紅色）值之間變化。第一次曝光后烘焙（PEB，圖5-11 中未顯示）觸發(fā)脫保護(hù)反應(yīng)，使光刻膠可溶于水性顯影劑。第一步為正色調(diào)顯影，以掩模圖形給定的周期創(chuàng)建溝槽；然后，使用有機(jī)溶劑進(jìn)行第二步負(fù)色調(diào)顯影以創(chuàng)建交錯溝槽，刻蝕步驟將產(chǎn)生的倍頻光刻膠圖形轉(zhuǎn)移到下層；最后，去除光刻膠。

DTD是另一種自對準(zhǔn)雙重成形技術(shù)，其只涉及了一個曝光步驟。DTD為雙重成形技術(shù)提供了一個非常有吸引力的選擇，因?yàn)樗梢酝耆诰A軌道機(jī)上完成。但是，它也受到與SADP/SDDP類似的設(shè)計(jì)限制。一個成功的DTD工藝流程在很大程度上取決于特定調(diào)整的光刻膠材料，以及在第一次正性顯影后通過第二個 PEB 步驟對脫保護(hù)輪廓的控制。第一個顯影步驟后的額外泛曝光可用來增加可用光酸的量并優(yōu)化第二次顯影的脫保護(hù)輪廓。盡管有這些吸引人的特點(diǎn)，雙色調(diào)顯影仍然只是一個實(shí)驗(yàn)研究課題，目前尚未用于商業(yè)半導(dǎo)體制造。