近日，日本對韓國進行出口限制，光刻膠材料赫然在列。據(jù)了解日本作為光刻膠材料大國，占據(jù)了全球9成左右的光刻膠市場份額。而目前在高端芯片制造過程中KrF、ArF光源下使用的光刻膠也基本被美日企業(yè)所壟斷。此后，日本銷往韓國的光刻膠將有三個月的審核期，而韓國半導(dǎo)體企業(yè)的材料庫存不夠三個月的使用量。在這期間，美系光刻膠產(chǎn)品能否解決韓國半導(dǎo)體廠商的燃眉之急？

投入研發(fā)短期內(nèi)難以出成果

韓媒3日報道，韓國政府就日本限制對韓出口的應(yīng)對方案作出回應(yīng)，將計劃每年投入1萬億韓元(約合人民幣58.8億元)，推進對半導(dǎo)體材料、零部件和設(shè)備的研發(fā)，正在對此進行可行性調(diào)查。

不過，光刻膠是國際上技術(shù)門檻最高的微電子化學(xué)品之一。其行業(yè)集中度高，龍頭企業(yè)市場份額高，行業(yè)利潤水平高，且暫無潛在替代產(chǎn)品。又因為，作為半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的上游產(chǎn)品部分，光刻膠產(chǎn)品的質(zhì)量直接影響下游芯片產(chǎn)品的質(zhì)量，因此下游行業(yè)企業(yè)對光刻膠產(chǎn)品的質(zhì)量和供貨能力十分重視，上下游的合作模式比較穩(wěn)固，新的供應(yīng)商較難加入供應(yīng)鏈。

另外，隨著半導(dǎo)體IC的集成度日漸提升，對光刻技術(shù)的精密性要求也不斷嚴(yán)格，半導(dǎo)體光刻膠也通過不斷縮短曝光波長的方式來提高極限分辨率。據(jù)了解，光刻膠的曝光波長由寬譜紫外向g線-i線-KrF-ArF-EUV(13.5nm)的方向移動。當(dāng)前，半導(dǎo)體芯片市場對于g線和i線光刻膠使用量最大，KrF和ArF光刻膠技術(shù)被日本和美國企業(yè)壟斷，韓國和中國作為追趕者正在積極研發(fā)ArF193nm光刻膠技術(shù)。

美系光刻膠是否能解救韓系半導(dǎo)體廠的危機？

在全球光刻膠市場，日本占有非常重要的位置。全球?qū)＠植记笆墓?，?成是日本企業(yè)。其中，日本JSR和東京日化可量產(chǎn)市面上幾乎所有的光刻膠產(chǎn)品（EUV光源用光刻膠正在研發(fā)中），信越化工、富士電子、住友化工在當(dāng)下主流的半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域也有較突出的表現(xiàn)。

在韓國，東進化學(xué)、LG化學(xué)、錦湖化學(xué)、COTEM等也生產(chǎn)光刻膠材料，錦湖化學(xué)為SK海力士半導(dǎo)體供應(yīng)ArFDry產(chǎn)品以及部分ArF Immersion產(chǎn)品，東進化學(xué)在半導(dǎo)體領(lǐng)域仍只供應(yīng)KrF以下等級部分產(chǎn)品。實際上，韓國本土光刻膠企業(yè)目前暫不具備量產(chǎn)KrF以上的光刻膠的能力。而韓國的半導(dǎo)體制造工廠的技術(shù)最高已經(jīng)達(dá)到7nm，三星電子和SK海力士均有ArF和EUV***設(shè)備。目前，在全球范圍內(nèi)能生產(chǎn)ArF光刻膠的企業(yè)主要以日美兩國企業(yè)為主，Euv光刻膠還在研發(fā)階段。如果日韓兩國的關(guān)系沒有及時得到修復(fù)，庫存的材料用盡，新的材料又尚未走完審核流程的這段時間里，三星電子和SK海力士的一些產(chǎn)線將面臨停擺的風(fēng)險。

日前，SK海力士發(fā)言人對媒體表示，如果兩國之間的問題得不到妥善的解決，且不能追加半導(dǎo)體材料采購，未來或?qū)⒊霈F(xiàn)停產(chǎn)的情況。而在這個空缺期，美系光刻膠企業(yè)是否能成為韓系半導(dǎo)體廠商的“續(xù)命丹”？

美國陶氏化學(xué)具備量產(chǎn)市面上全線光刻膠產(chǎn)品的能力，韓國半導(dǎo)體企業(yè)在被日本限制出口之后，它或?qū)⒊蔀樽罴堰x擇。不過，與眾多日系光刻膠企業(yè)相比，陶氏化學(xué)的產(chǎn)能能否滿足韓國半導(dǎo)體企業(yè)的需求，還是個問題。

值得注意的是，韓國在日本宣布對其限制進口之后才明確表示加大對半導(dǎo)體材料的研發(fā)力度，相信在韓方有所成績之前，該國的半導(dǎo)體廠商依舊需要購買日方的材料。此前三星電子和SK海力士的光刻膠材料主要有日本企業(yè)供應(yīng)，如果在這個節(jié)點轉(zhuǎn)向美系企業(yè)是否會順利？國際電子商情將持續(xù)關(guān)注。