光刻膠不能太厚或太薄，需要按制程需求來定。比如對于需要長時(shí)間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場景，較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時(shí)間。
2024-03-04 10:49:16
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中圖儀器VT6000系列共聚焦高精度三維顯微鏡基于光學(xué)共軛共焦原理，結(jié)合精密縱向掃描，以在樣品表面進(jìn)行快速點(diǎn)掃描并逐層獲取不同高度處清晰焦點(diǎn)并重建出3D真彩圖像，從而進(jìn)行分析的精密光學(xué)儀器，一般用于
2024-02-21 13:55:40
光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中，光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:24359 
中圖儀器SuperViewW1白光干涉三維測量系統(tǒng)具有測量精度高、操作便捷、功能齊全、測量參數(shù)涵蓋面廣的優(yōu)點(diǎn)，測量單個(gè)精細(xì)器件的過程用時(shí)短，確保了高款率檢測?？蓽y各類從超光滑到粗糙、低反射率到高
2024-01-12 11:37:08
。它們主要包括晶體管(三極管)、存儲(chǔ)單元、二極管、電阻、連線、引腳等。
隨著電子產(chǎn)品越來越“小而精，微薄”，半導(dǎo)體芯片和器件尺寸也日益微小，越來越微細(xì)，因此對于分析微納芯片結(jié)構(gòu)的精度要求也越來越高，在芯片
2024-01-02 17:08:51
引言 近年來，硅/硅鍺異質(zhì)結(jié)構(gòu)已成為新型電子和光電器件的熱門課題。因此，人們對硅/硅鍺體系的結(jié)構(gòu)制造和輸運(yùn)研究有相當(dāng)大的興趣。在定義Si/SiGe中的不同器件時(shí)，反應(yīng)離子刻蝕法（RIE）在圖案轉(zhuǎn)移
2023-12-28 10:39:51131 
激光微納加工技術(shù)利用激光脈沖與材料的非線性作用，可以<100nm精度實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)方法難以實(shí)現(xiàn)的復(fù)雜功能結(jié)構(gòu)和器件的增材制造。而激光直寫（DLW）光刻是一項(xiàng)具有空間三維加工能力的微納加工技術(shù)，在微納集成器件制造中發(fā)揮著重要作用。
2023-12-22 10:34:20401 
在微電子制造領(lǐng)域，光刻機(jī)和蝕刻機(jī)是兩種不可或缺的重要設(shè)備。它們在制造半導(dǎo)體芯片、集成電路等微小器件的過程中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。然而，盡管它們在功能上有所相似，但在技術(shù)原理、應(yīng)用場景等方面卻存在著明顯的區(qū)別。本文將對光刻機(jī)和蝕刻機(jī)的差異進(jìn)行深入探討。
2023-12-16 11:00:09371 
基于GaN的高電子遷移率，晶體管，憑借其高擊穿電壓、大帶隙和高電子載流子速度，應(yīng)用于高頻放大器和高壓功率開關(guān)中。就器件制造而言，GaN的相關(guān)材料，如AlGaN，憑借其物理和化學(xué)穩(wěn)定性，為等離子體蝕刻
2023-12-13 09:51:24294 
現(xiàn)代激光加工，以超快激光加工為主，即使用高強(qiáng)度的超快激光進(jìn)行材料加工。具有峰值功率高、熱熔區(qū)域小、加工速度快和重復(fù)精度高的特點(diǎn)。 濱松LCOS-SLM則以其高精度的三維多點(diǎn)整形(通常使用CGH算法
2023-12-13 06:42:30169 
GaN作為寬禁帶III-V族化合物半導(dǎo)體最近被深入研究。為了實(shí)現(xiàn)GaN基器件的良好性能，GaN的處理技術(shù)至關(guān)重要。目前英思特已經(jīng)嘗試了許多GaN蝕刻方法，大部分GaN刻蝕是通過等離子體刻蝕來完成
2023-12-01 17:02:39259 
在工業(yè)應(yīng)用中，SuperViewW三維光學(xué)輪廓檢測儀超0.1nm的縱向分辨能力能夠高精度測量物體的表面形貌，可用于質(zhì)量控制、表面工程和納米制造等領(lǐng)域。與其它表面形貌測量方法相比，SuperViewW
2023-11-30 10:14:52
目前，大多數(shù)III族氮化物的加工都是通過干法等離子體蝕刻完成的。干法蝕刻有幾個(gè)缺點(diǎn)，包括產(chǎn)生離子誘導(dǎo)損傷和難以獲得激光器所需的光滑蝕刻側(cè)壁。干法蝕刻產(chǎn)生的側(cè)壁典型均方根(rms)粗糙度約為50納米
2023-11-24 14:10:30241 
中圖儀器GTS大尺寸三維空間測量儀激光跟蹤儀是高精度、便攜式的空間大尺寸坐標(biāo)測量機(jī)，同時(shí)具高精度（μm級(jí)）、大工作空間（百米級(jí)）的高性能，能夠解決大型、超大型工件和大型科學(xué)裝置、工業(yè)母機(jī)等全域高精度
2023-11-15 09:26:26
蝕刻設(shè)備的結(jié)構(gòu)及不同成分的蝕刻液都會(huì)對蝕刻因子或側(cè)蝕度產(chǎn)生影響，或者用樂觀的話來說，可以對其進(jìn)行控制。采用某些添加劑可以降低側(cè)蝕度。這些添加劑的化學(xué)成分一般屬于商業(yè)秘密，各自的研制者是不向外界透露的。至于蝕刻設(shè)備的結(jié)構(gòu)問題，后面的章節(jié)將專門討論。
2023-11-14 15:23:10217 以最清晰明了的方式，圖解直觀闡述MEMS傳感器芯片的制造過程和原理！ MEMS是Micro Electro Mechanical Systems（微機(jī)電系統(tǒng)）的縮寫，具有微小的立體結(jié)構(gòu)（三維結(jié)構(gòu)），是處理各種輸入、輸出信號(hào)的系統(tǒng)的統(tǒng)稱。 ? 是利用微細(xì)加工技術(shù)，將機(jī)械零零件、電子電路
2023-11-02 08:37:09772 
中圖儀器SuperViewW1白光干涉三維形貌測量儀用于對各種精密器件及材料表面進(jìn)行亞納米級(jí)測量，以白光干涉技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對器件表面進(jìn)行非接觸式掃描并建立表面3D
2023-11-01 09:39:26
SuperView W1光學(xué)三維輪廓測量儀是一款用于對各種精密器件及材料表面進(jìn)行亞納米級(jí)測量的檢測儀器。數(shù)秒內(nèi)可以獲得平面和曲面表面上測量所有常見的粗糙度參數(shù)。也可以選擇拼接功能軟件升級(jí)來組合多個(gè)
2023-10-30 09:24:38
光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān)，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271 
WD4000半導(dǎo)體晶圓表面三維形貌測量設(shè)備自動(dòng)測量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。可廣泛應(yīng)用于襯底制造、晶圓制造、及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)加工、顯示
2023-10-23 11:05:50
光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體。其利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工藝，將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上，是用于微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性電子化學(xué)品。
2023-10-09 14:34:491674 
Novator系列三維全自動(dòng)影像測量儀將傳統(tǒng)影像測量與激光測量掃描技術(shù)相結(jié)合，采用高精度光學(xué)成像技術(shù)和計(jì)算機(jī)數(shù)字處理技術(shù)，能夠快速、準(zhǔn)確地獲取三維物體表面形態(tài)信息，并進(jìn)行精密的尺寸、角度等多項(xiàng)測量
2023-10-08 09:17:18
提 出 了一 種 微 小 爬 壁 機(jī) 器 人 三 維 位 置 測 量 的新方 法 。筆 者 通 過 深 入 分 析 研 究各 種 位 置 測 控 方 法 與 系統(tǒng) ，提 出采 用單 目視 覺方 法
2023-09-20 07:25:43
SuperViewW1三維白光干涉表面形貌儀采用光學(xué)干涉技術(shù)、精密Z向掃描模塊和3D重建算法組成測量系統(tǒng)，高精度測量；隔振系統(tǒng)能夠有效隔離頻率2Hz以上絕大部分振動(dòng)，消除地面振動(dòng)噪聲和空氣中聲波振動(dòng)
2023-09-13 10:30:22
SuperViewW1國產(chǎn)三維白光干涉儀以白光干涉技術(shù)原理，結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對各種精密器件表面進(jìn)行納米級(jí)測量，通過測量干涉條紋的變化來測量表面三維形貌，專用于精密零部件之
2023-09-13 10:25:07
編輯：鐳拓激光因三維激光切割設(shè)備作為一種切割具有復(fù)雜曲面三維件的激光加工設(shè)備，解決了具有復(fù)雜輪廓的高強(qiáng)度鋼結(jié)構(gòu)部件，不管是技術(shù)角度還是經(jīng)濟(jì)角度，三維激光切割是不可或缺的切割機(jī)設(shè)備，激光加工技術(shù)憑借
2023-09-12 16:31:36947 
SuperViewW1白光干涉儀三維輪廓儀具有測量精度高、操作便捷、功能齊全、測量參數(shù)涵蓋面廣的優(yōu)點(diǎn)，測量單個(gè)精細(xì)器件的過程用時(shí)2分鐘以內(nèi)，確保了高款率檢測。白光干涉儀的特殊光源模式，可以廣泛適用于
2023-09-07 09:25:42
在印制板外層電路的加工工藝中，還有另外一種方法，就是用感光膜代替金屬鍍層做抗蝕層。這種方法非常近似于內(nèi)層蝕刻工藝，可以參閱內(nèi)層制作工藝中的蝕刻。
2023-09-06 09:36:57811 
、光學(xué)加工、微納材料及制造、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業(yè)及航空航天、科研院所等領(lǐng)域中，測量各類從超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面，從納米到微米級(jí)
2023-09-04 11:44:34
眾所周知，微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)嚴(yán)重依賴于集成電路制造中使用的材料，例如單晶硅。然而，由于金屬、玻璃和壓電陶瓷的特殊性質(zhì)，這些材料在MEMS中的使用正在迅速增加。
2023-09-01 10:19:20204 
Mars系列三坐標(biāo)三維測量儀是移動(dòng)橋式的三坐標(biāo)測量機(jī)。能夠?qū)Ω鞣N零件和部件的尺寸、形狀及相互位置關(guān)系進(jìn)行檢測，也可以對軟材質(zhì)或復(fù)雜零件進(jìn)行光學(xué)掃描測量。可用于機(jī)械制造、汽車工業(yè)、電子工業(yè)、航空航天
2023-08-25 15:05:36
光刻蝕（Photolithography）是一種在微電子和光電子制造中常用的加工技術(shù)，用于制造微細(xì)結(jié)構(gòu)和芯片元件。它的基本原理是利用光的化學(xué)和物理作用，通過光罩的設(shè)計(jì)和控制，將光影投射到光敏材料上，形成所需的圖案。
2023-08-24 15:57:422270 結(jié)構(gòu)的相互作用，金屬納米結(jié)構(gòu)可以設(shè)計(jì)成對特定波長的光表現(xiàn)出強(qiáng)烈的反應(yīng)。對于動(dòng)態(tài)、可變的顯示器，必須通過向設(shè)備施加電壓來理想地控制這些共振波長的位置。來自德國的研究人員正在創(chuàng)建基于銅薄膜的設(shè)備，其中蝕刻有納米結(jié)構(gòu)，浸入電解質(zhì)溶液中
2023-08-23 06:33:33215 
傳感新品 【中山大學(xué)：基于三維組裝微針離子傳感器的生理離子波動(dòng)透皮監(jiān)測可穿戴系統(tǒng)】 新品亮點(diǎn) 1、降維加工法將片狀微針組裝成三維微針陣列； 2、基于三維微針陣列的離子傳感微針陣列系統(tǒng)包含離子傳感陣列
2023-08-21 17:19:49568 
CHOTEST中圖儀器SuperViewW1三維白光形貌干涉儀集成X、Y、Z三個(gè)方向位移調(diào)整功能的操縱手柄，可快速完成載物臺(tái)平移、Z向聚焦、找條紋等測量前工作。主要應(yīng)用于半導(dǎo)體制造及封裝工藝檢測
2023-08-08 11:27:05
和共聚焦3D顯微形貌檢測技術(shù)，廣泛應(yīng)用于涉足超精密加工領(lǐng)域的三維形貌檢測與表面質(zhì)量檢測方案。其中，VT6000系列共聚焦顯微鏡，在結(jié)構(gòu)復(fù)雜且反射率低的表面3D微觀形貌重構(gòu)與檢測方面具有不俗的表現(xiàn)。
一
2023-08-04 16:12:06
、高等數(shù)據(jù)的具體化，還可以精確測量工件的表面平面度。 CHOTEST中圖儀器Novator系列三維光學(xué)影像測量儀是全自動(dòng)影像測量儀，將傳統(tǒng)影像測量與激光測
2023-07-31 09:05:19
CHOTEST中圖儀器SuperViewW1白光干涉表面三維輪廓儀通過測量干涉條紋的變化來測量表面三維形貌，是一款對各種精密器件表面進(jìn)行納米級(jí)測量的儀器，專用于精密零部件之重點(diǎn)部位表面粗糙度、微小
2023-07-20 13:55:55
蔡司用于亞10納米級(jí)應(yīng)用的離子束顯微鏡ORION NanoFab,集 3 種聚焦離子束于一身的顯微鏡，可以實(shí)現(xiàn)亞 10 nm 結(jié)構(gòu)的超高精度加工快速、精準(zhǔn)的亞 10 納米結(jié)構(gòu)加工。借助 ORION
2023-07-19 15:45:07244 
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
激光跟蹤三維測量儀在大尺度空間測量工業(yè)科學(xué)儀器中具有高精度和重要性，是同時(shí)具有μm級(jí)別精度、百米工作空間的高性能光電儀器。 在大尺寸精密測量領(lǐng)域，激光跟蹤儀具有測量范圍大、精度高、功能多
2023-06-29 14:26:42
都使用Cl基蝕刻化學(xué)物質(zhì)。當(dāng)在等離子體放電中分解時(shí)，CCl為還原物質(zhì)提供了來源，并用于去除表面氧化物和Cl，與下面的Al反應(yīng)。
2023-06-27 13:24:11318 
CMOS和MEMS制造技術(shù)，允許相對于其他薄膜選擇性地去除薄膜，在器件集成中一直具有很高的實(shí)用性。這種化學(xué)性質(zhì)非常有用，但是當(dāng)存在其他材料并且也已知在HF中蝕刻時(shí)，這就成了問題。由于器件的靜摩擦、緩慢的蝕刻速率以及橫向或分層膜的蝕刻速率降低，濕法化學(xué)也會(huì)有問題。
2023-06-26 13:32:441053 
的尺寸、形狀及相互位置關(guān)系進(jìn)行檢測，也可以對軟材質(zhì)或復(fù)雜零件進(jìn)行光學(xué)掃描測量。 中圖儀器MarsClassic系列三維掃描儀移動(dòng)橋架三坐標(biāo)測量儀結(jié)構(gòu)特點(diǎn)是開
2023-06-25 10:54:11
在數(shù)字化的大背景下，電池結(jié)構(gòu)的數(shù)字化建模和管控成為研究熱點(diǎn)。過去二十年中，層析成像工具的快速發(fā)展為研究人員提供了常規(guī)表征電池電極微結(jié)構(gòu)的工具。鋰離子電池材料的電化學(xué)和機(jī)械性能很大程度上取決于其三維微觀結(jié)構(gòu)特性，了解隨機(jī)微觀結(jié)構(gòu)的定量影響對于預(yù)測材料特性和指導(dǎo)合成過程以及結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)至關(guān)重要。
2023-06-21 15:29:33500 
激光跟蹤儀是建立在激光和自動(dòng)控制技術(shù)基礎(chǔ)上的一種高精度三維測量系統(tǒng)，主要用于大尺寸空間坐標(biāo)測量領(lǐng)域。它集中了激光干涉測距、角度測量等先進(jìn)技術(shù)，基于球坐標(biāo)法測量原理，通過測角、測距實(shí)現(xiàn)三維坐標(biāo)的精密
2023-06-20 10:16:46
Mars系列三維坐標(biāo)測量機(jī)是移動(dòng)橋式的三坐標(biāo)測量機(jī)。采用中圖儀器自主研發(fā)的設(shè)計(jì)與測量系統(tǒng)，提供了測量機(jī)的高精度性能，測量行程500*700*500mm延伸到900*1200*600mm，結(jié)合多樣化
2023-06-20 10:12:21
上海伯東美國?KRi?考夫曼公司大口徑射頻離子源?RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸?IBE 離子束蝕刻機(jī), 實(shí)現(xiàn) 300mm 和 200mm 硅片蝕刻, 刻蝕
2023-06-15 14:58:47665 
器件尺寸的不斷縮小促使半導(dǎo)體工業(yè)開發(fā)先進(jìn)的工藝技術(shù)。近年來，原子層沉積(ALD)和原子層蝕刻(ALE)已經(jīng)成為小型化的重要加工技術(shù)。ALD是一種沉積技術(shù)，它基于連續(xù)的、自限性的表面反應(yīng)。ALE是一種蝕刻技術(shù)，允許以逐層的方式從表面去除材料。ALE可以基于利用表面改性和去除步驟的等離子體或熱連續(xù)反應(yīng)。
2023-06-15 11:05:05526 
顯重要。通過對三維形貌的測量可以比較全面地評(píng)定表面質(zhì)量的優(yōu)劣，進(jìn)而確認(rèn)加工方法的好壞及設(shè)計(jì)要求的合理性，這樣就可以反過來通過指導(dǎo)加工、優(yōu)化加工工藝以加工出高質(zhì)量的
2023-06-14 14:09:27
為了提供更優(yōu)良的靜電完整性，三維(3D)設(shè)計(jì)（如全圍柵(GAA)場電子晶體管(FET )）預(yù)計(jì)將在互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體技術(shù)中被采用。3D MOS架構(gòu)為蝕刻應(yīng)用帶來了一系列挑戰(zhàn)。雖然平面設(shè)備更多地依賴于各向異性蝕刻，但是3D設(shè)備在不同材料之間具有高選擇性，需要更多的各向異性蝕刻能力。
2023-06-14 11:03:531779 
在材料生產(chǎn)檢測領(lǐng)域中，共聚焦顯微鏡主要測量表面物理形貌，進(jìn)行微納米尺度的三維形貌分析，如3D表面形貌、2D的縱深形貌、輪廓（縱深、寬度、曲率、角度）、表面粗糙度等。與傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡相比，它具有更高
2023-05-25 11:27:02
蝕刻是微結(jié)構(gòu)制造中采用的主要工藝之一。它分為兩類：濕法蝕刻和干法蝕刻，濕法蝕刻進(jìn)一步細(xì)分為兩部分，即各向異性和各向同性蝕刻。硅濕法各向異性蝕刻廣泛用于制造微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)的硅體微加工和太陽能電池應(yīng)用的表面紋理化。
2023-05-18 09:13:12700 
中圖儀器GTS激光三維跟蹤測量儀集激光干涉測距技術(shù)、光電檢測技術(shù)、精密機(jī)械技術(shù)、計(jì)算機(jī)及控制技術(shù)、現(xiàn)代數(shù)值計(jì)算理論于一體，主要用于百米大尺度空間三維坐標(biāo)的精密測量。功能強(qiáng)的主機(jī)測量系統(tǒng)1.集成化控制
2023-05-16 16:34:32
。 中圖儀器Novator二次元三維影像測量儀將傳統(tǒng)影像測量與激光測量掃描技術(shù)相結(jié)合，還支持頻閃照明和飛拍功能，可進(jìn)行高速測量，大幅提升測量效率；具有可獨(dú)立升降和
2023-05-15 11:29:26
光刻膠可以通過光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。
2023-05-11 16:10:492775 
晶圓廠通常使用光刻膠來圖案化抗蝕刻硬掩模，然后依靠硬掩模來保護(hù)晶圓。但是，如果光刻膠太薄，它可能會(huì)在第一個(gè)轉(zhuǎn)移步驟完成之前被侵蝕掉。隨著光刻膠厚度的減小，底層厚度也應(yīng)該減小。
2023-04-27 16:25:00689 
以共聚焦技術(shù)為原理的共聚焦顯微鏡，是用于對各種精密器件及材料表面進(jìn)行微納米級(jí)測量的檢測儀器。 中圖儀器VT6000系列三維光學(xué)輪廓共聚焦材料顯微鏡基于共聚焦顯微技術(shù)，結(jié)合精密Z向掃描模塊
2023-04-20 10:52:25
反應(yīng)離子蝕刻 (RIE)是一種干法蝕刻工藝，與半導(dǎo)體工業(yè)中使用的互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)方法兼容。
2023-04-14 14:26:161253 
4月10日，創(chuàng)想三維2023年度戰(zhàn)略供應(yīng)商大會(huì)在惠州成功舉辦，高可靠多層板制造商華秋出席了本次活動(dòng)并取得了《優(yōu)秀質(zhì)量獎(jiǎng)》一獎(jiǎng)項(xiàng)。大會(huì)現(xiàn)場，創(chuàng)想三維董事長陳春指出公司的持續(xù)發(fā)展與供應(yīng)鏈高質(zhì)量的交付
2023-04-14 11:29:30
4月10日，創(chuàng)想三維2023年度戰(zhàn)略供應(yīng)商大會(huì)在惠州成功舉辦，高可靠多層板制造商華秋出席了本次活動(dòng)并取得了《優(yōu)秀質(zhì)量獎(jiǎng)》一獎(jiǎng)項(xiàng)。大會(huì)現(xiàn)場，創(chuàng)想三維董事長陳春指出公司的持續(xù)發(fā)展與供應(yīng)鏈高質(zhì)量的交付
2023-04-14 11:27:20
干法蝕刻與濕法蝕刻之間的爭論是微電子制造商在項(xiàng)目開始時(shí)必須解決的首要問題之一。必須考慮許多因素來決定應(yīng)在晶圓上使用哪種類型的蝕刻劑來制作電子芯片，是液體（濕法蝕刻）還是氣體（干法蝕刻）
2023-04-12 14:54:331004 因項(xiàng)目需求，需外包Labview 三維云圖程序編寫，做過類似項(xiàng)目的請回復(fù)，我聯(lián)系您。
2023-03-31 09:36:47
印刷線路板從光板到顯出線路圖形的過程是一個(gè)比較復(fù)雜的物理和化學(xué)反應(yīng)的過程，本文就對其最后的一步--蝕刻進(jìn)行解析。目前,印刷電路板(PCB)加工的典型工藝采用"圖形電鍍法"。即先在
2023-03-29 10:04:07886
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