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本文簡要介紹了一款基于 IML 工藝制程天線的高效設計方法。由于基于這種工藝的天線無法用傳統(tǒng)的方法調試，所以本文采用了一種新的設計調試方法——用電磁仿真軟件 EMPro 設計、優(yōu)化天線。通過仿真找到天線的敏感區(qū)，通過設計控制、減少甚至避免在 IML 工藝流程中由于拉伸變形而產生的天線性能的變化。我們比對了仿真設計后生產出的 IML 天線樣品，得到天線的 RL、效率、SAR、HAC 等參數(shù)與仿真結果相符，性能達到了設計要求?；?IML 天線目前業(yè)界設計的難度，采用仿真設計優(yōu)化可以大量縮短設計周期，減少風險，降低成本，縮短開發(fā)時間。
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