資料介紹
也稱沉積。就是在晶體表面生長膜物質(zhì)的方法。包括 和液相生長的方法,氣相生長又分為化學氣相淀積( CVD:chemicalvapour deposition)和物理氣相淀積(PVD:physical vapomdepositio),液相生長的典型方法是液相外延和電鍍(銅布線)。
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