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也稱沉積。就是在晶體表面生長膜物質(zhì)的方法。包括 和液相生長的方法，氣相生長又分為化學(xué)氣相淀積（ CVD：chemicalvapour deposition）和物理氣相淀積（PVD：physical vapomdepositio），液相生長的典型方法是液相外延和電鍍（銅布線）。
集成電路
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