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      電子發(fā)燒友網>電子資料下載>電子資料>碳化硅薄膜的選擇性刻蝕

      碳化硅薄膜的選擇性刻蝕

      2023-02-20 | pdf | 0.22 MB | 次下載 | 2積分

      資料介紹

      摘要 一種用非金屬掩模層蝕刻碳化硅的方法。該方法包括提供碳化硅基底；通過在基底上施加一層材料來形成非金屬掩模層；形成掩模層以暴露基底的底層區(qū)域；并以第一速率用等離子體蝕刻基底的底層區(qū)域，同時以低于第一速率蝕刻掩模層。 介紹 本文涉及半導體處理方法，特別是涉及碳化硅半導體的處理技術。碳化硅）由于其較大的能帶隙和高擊穿場，是高溫度、高功率電子器件的重要材料。
      半導體 薄膜 碳化硅
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