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      電子發(fā)燒友網(wǎng)>電子資料下載>電子論文>機電一體化技術(shù)論文>離子注入摻雜銳鈦礦TiO2薄膜的光學(xué)性能

      離子注入摻雜銳鈦礦TiO2薄膜的光學(xué)性能

      2011-05-22 | pdf | 385 KB | 次下載 | 免費

      資料介紹

      在玻璃基體上,采用射頻磁控濺射方法在不同的基體溫度下制備了TiO2 薄膜,然后在薄膜中注入注量分別為5 ×1016 , 1 ×1017和5 ×1017 / cm2 的N離子以制備N摻雜的TiO2 薄膜。X射線衍射結(jié)果表明:制備出的TiO2 薄膜為銳鈦礦型。X 射線光電子能譜研究結(jié)果表明:注入的N 離子與TiO2 晶粒相互作用,形成了含氮的TiOxN22x化合物,從而改變了TiO2 薄膜的吸收邊;隨N 離子注量增加,吸收邊移動更明顯;同時,由于氮離子注入產(chǎn)生的輻照缺陷使TiO2 薄膜在紫外和可見光區(qū)的吸收也明顯增強。
      　　關(guān)鍵詞: 　TiO2 薄膜; 　銳鈦礦; 　氮摻雜; 　離子注入; 　吸收光譜; 　射頻磁控濺射
      　TiO2 由于其具有催化活性高、化學(xué)穩(wěn)定性高、持續(xù)時間長、安全無毒以及成本低廉等優(yōu)點被認為是最具開發(fā)前途的環(huán)保型光催化材料,有著廣闊的應(yīng)用前景[123 ] 。自1972 年日本Fujishima 和Honda[4 ] 發(fā)現(xiàn)TiO2 單晶電極光分解水以來,多相光催化反應(yīng)引起人們的濃厚興趣,科學(xué)家們對此進行大量的研究。盡管TiO2 具有如此多的優(yōu)越特性,但是光催化性能效率不高始終是TiO2 應(yīng)用過程中的一個難題,因此探索該過程的機理,致力提高光催化效率多年來一直是TiO2 研究的熱點。

      薄膜 TiO2 離子注入 光學(xué)性能 銳鈦礦
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