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標(biāo)簽 > 光刻技術(shù)
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個數(shù)量級(從毫米級到亞微米級),已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù);使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃數(shù)量級范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細加工技術(shù)。
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英特爾:預(yù)計2027年末10A節(jié)點投產(chǎn),投資千億美元擴大晶圓制造
根據(jù)先前記載,10A將會是英特爾繼使用High-NA EUV光刻技術(shù)的首批主要節(jié)點之后的第二例,預(yù)計可呈現(xiàn)出超過10%的每瓦性能改善。
EUV光刻技術(shù)助力半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展
EUV光刻技術(shù)為半導(dǎo)體制造商提供一個前所未有的速度開發(fā)最強大芯片的機會。
來源: ASML阿斯麥光刻 人類每天都在推動技術(shù)進步,不斷拓展可到達的技術(shù)邊界,而這些新科技的實現(xiàn)背后離不開芯片技術(shù)的支持。如今風(fēng)靡全世界的人工智能、數(shù)...
光刻技術(shù)涉及操縱光線將特征精確蝕刻到表面上,通常用于制造計算機芯片和透鏡等光學(xué)器件。但是制造過程中的微小偏差往往導(dǎo)致這些器件達不到設(shè)計者的預(yù)期。
Samsung 宣佈開始量產(chǎn) 10nm DRAM
Samsung 5 日宣佈正式量產(chǎn)全球首款採用 10nm 制程生產(chǎn)的 DDR4 DRAM 顆粒,加快半導(dǎo)體市場邁向更精密的 10nm 制程工藝之路,...
阿斯麥(ASML)近日發(fā)布了其2024年第四季度及全年財報,數(shù)據(jù)顯示公司業(yè)績繼續(xù)保持強勁增長態(tài)勢。 在2024年第四季度,ASML實現(xiàn)了93億歐元的凈銷...
臺積電因部分制程設(shè)備可共享,加上部分遞延預(yù)算將在今年動用,2024年資本支出恐降至280億~300億美元,較今年減少約6.3%~12.5%。外界預(yù)期,一...
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