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標簽 > 光刻機
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一文看懂a(chǎn)sml光刻機工作原理及基本構(gòu)造
在半導體芯片制造設(shè)備中,投資最大、也是最為關(guān)鍵的是光刻機,光刻機同時也是精度與難度最高、技術(shù)最為密集、進步最快的一種系統(tǒng)性工程設(shè)備。光學光刻技術(shù)與其它光...
國產(chǎn)光刻機達到幾納米_中國光刻機的發(fā)展史
從2009年開始算起,中國研究團隊一路攻堅克難,國產(chǎn)首套90納米高端光刻機已于近期第一次成功曝光。2022年左右有望完成驗收。這意味著,中國半導體材料和...
2018-04-10 標簽:光刻機 24.6萬 0
光刻機是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的核心設(shè)備, 技術(shù)含量、價值含量極高。 光刻機涉及系統(tǒng)集成、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項先進技術(shù),...
2018-04-10 標簽:光刻機 3.7萬 0
光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、...
2018-04-10 標簽:光刻機 13.4萬 0
光刻是半導體芯片生產(chǎn)流程中最復雜、最關(guān)鍵的工藝步驟,耗時長、成本高。半導體芯片生產(chǎn)的難點和關(guān)鍵點在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上,這一過程通過光刻來實現(xiàn)...
套刻誤差的含義、產(chǎn)生原因以及和對準誤差的區(qū)別
光刻機的工作過程是這樣的:逐一曝光完硅片上所有的場(field),亦即分步,然后更換硅片,直至曝光完所有的硅片;當對硅片進行工藝處理結(jié)束后,更換掩模,接...
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