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光刻機(jī)

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光刻機(jī)資訊

國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠

近日,深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司(簡(jiǎn)稱“穩(wěn)頂聚芯”)宣布,其自主研發(fā)的首臺(tái)國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠,標(biāo)志著我國(guó)在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此...

2025-10-10 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻機(jī) 365 0

今日看點(diǎn)丨芯碁微裝直寫光刻設(shè)備批量導(dǎo)入國(guó)內(nèi)多家封測(cè)龍頭;英特爾首個(gè)機(jī)架級(jí) AI 芯片樣品曝光

芯碁微裝直寫光刻設(shè)備批量導(dǎo)入國(guó)內(nèi)多家封測(cè)龍頭 ? 8月19日,芯碁微裝宣布,其面向中道領(lǐng)域的晶圓級(jí)及板級(jí)直寫光刻設(shè)備系列已獲得重大市場(chǎng)突破。公司已與多家...

2025-08-21 標(biāo)簽:光刻機(jī)封測(cè)芯碁微裝 1.4k 0

今日看點(diǎn)丨全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問世;智元機(jī)器人發(fā)布行業(yè)首個(gè)機(jī)器人世界模型開源平臺(tái)

今日看點(diǎn)丨全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問世;智元機(jī)器人發(fā)布行業(yè)首個(gè)機(jī)器人世界模型開源平臺(tái)

全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問世,精度比肩國(guó)際主流 ? 近日,全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進(jìn)入...

2025-08-15 標(biāo)簽:光刻機(jī)大模型電子束光刻機(jī) 2.5k 0

全球市占率35%,國(guó)內(nèi)90%!芯上微裝第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)交付

全球市占率35%,國(guó)內(nèi)90%!芯上微裝第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)交付

? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,近日,上海芯上微裝科技股份有限公司(簡(jiǎn)稱:芯上微裝,英文簡(jiǎn)稱:AMIES)第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)成功交付,并舉辦了第500臺(tái) 步...

2025-08-13 標(biāo)簽:光刻機(jī)芯上微裝 1.5k 0

佳能9月啟用新光刻機(jī)工廠,主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用

7 月 31 日消息,據(jù)《日經(jīng)新聞》報(bào)道,日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn),...

2025-08-04 標(biāo)簽:封裝佳能光刻機(jī) 426 0

AI需求飆升!ASML新光刻機(jī)直擊2nm芯片制造,尼康新品獲重大突破

AI需求飆升!ASML新光刻機(jī)直擊2nm芯片制造,尼康新品獲重大突破

7月16日,全球三大光刻巨頭之一的日本尼康公司宣布,正式推出全球首款專為半導(dǎo)體后道工藝設(shè)計(jì)的無掩模光刻系統(tǒng)——DSP-100,這款設(shè)備為先進(jìn)封裝量身定制...

2025-07-24 標(biāo)簽:尼康AI光刻機(jī) 6.4k 0

奧松半導(dǎo)體8英寸MEMS項(xiàng)目迎重大進(jìn)展 首臺(tái)光刻機(jī)入駐

奧松半導(dǎo)體8英寸MEMS項(xiàng)目迎重大進(jìn)展 首臺(tái)光刻機(jī)入駐

奧松傳感傳來好消息,在7月14日11時(shí)38分,重慶奧松半導(dǎo)體特色芯片產(chǎn)業(yè)基地(下稱“奧松半導(dǎo)體項(xiàng)目”)迎來具有里程碑意義的時(shí)刻——8英寸生產(chǎn)線首臺(tái)光刻機(jī)...

2025-07-17 標(biāo)簽:mems光刻機(jī)奧松電子 1.2k 0

ASML Q2新增訂單額55億!客戶對(duì)貿(mào)易戰(zhàn)前景不明,CEO看淡2026年增長(zhǎng)

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ASML第二季度實(shí)現(xiàn)銷售額77億歐元,毛利率為53.7%,凈利潤(rùn)達(dá)23億歐元。第二季度的新增訂單金額為55億歐元,其中23億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。第二...

2025-07-17 標(biāo)簽:臺(tái)積電光刻機(jī)英偉達(dá) 5.3k 0

阿斯麥ASML第二財(cái)季訂單超預(yù)期 環(huán)比增長(zhǎng)41%

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半導(dǎo)體設(shè)備制造商阿斯麥(ASML)公布了其2025年第二季度財(cái)務(wù)報(bào)告,財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)顯示阿斯麥(ASML)在第二季度的營(yíng)收和利潤(rùn)均高于市場(chǎng)分析師此前預(yù)測(cè)。業(yè)績(jī)...

2025-07-16 標(biāo)簽:光刻機(jī)ASML 1.4k 0

ASML官宣:更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動(dòng)

電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,日前,ASML 技術(shù)高級(jí)副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司,啟動(dòng)了 5nm 分辨率的...

2025-06-29 標(biāo)簽:光刻機(jī)ASML 1.6k 0

關(guān)稅的影響:蘋果成特朗普關(guān)稅最大受害者之一 阿斯麥:對(duì)美出口光刻機(jī)或面臨關(guān)稅

2025年美國(guó)特朗普政府的“對(duì)等關(guān)稅”影響究竟有多大?未來還不確定,只有等待時(shí)間的檢驗(yàn)。這里我們看到已經(jīng)有很多的科技巨頭受損嚴(yán)重,比如蘋果公司、光刻機(jī)巨...

2025-04-17 標(biāo)簽:蘋果光刻機(jī) 926 0

阿斯麥(ASML)第一季度凈銷售額77.4億歐元 毛利率54.0%

根據(jù)阿斯麥(ASML)發(fā)布的2025年第一季度業(yè)績(jī)數(shù)據(jù)顯示,在2025年第一季度ASML的總凈銷售額達(dá)到77億歐元,毛利率達(dá)到54.0%,凈利潤(rùn)高達(dá)24...

2025-04-16 標(biāo)簽:光刻機(jī)ASML 1.3k 0

成都匯陽(yáng)投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲,后市迎來機(jī)會(huì)

【2025年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一,其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前,全...

2025-04-07 標(biāo)簽:光刻機(jī) 972 0

光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

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2025-02-06 標(biāo)簽:光刻機(jī) 746 0

飛利浦將旗下MEMS代工廠Xiver出售,該廠為ASML光刻機(jī)提供組件

近日,飛利浦已將其位于荷蘭埃因霍溫的 MEMS 晶圓廠和代工廠出售給一個(gè)荷蘭投資者財(cái)團(tuán),交易金額不詳。該代工廠為 ASML 光刻機(jī)等公司提供產(chǎn)品,并已更...

2025-01-16 標(biāo)簽:mems飛利浦光刻機(jī) 2.1k 0

納米壓印光刻技術(shù)旨在與極紫外光刻(EUV)競(jìng)爭(zhēng)

來源:John Boyd IEEE電氣電子工程師學(xué)會(huì) 9月,佳能交付了一種技術(shù)的首個(gè)商業(yè)版本,該技術(shù)有朝一日可能顛覆最先進(jìn)硅芯片的制造方式。這種技術(shù)被稱...

2025-01-09 標(biāo)簽:光刻機(jī)納米壓印 942 0

矽萬半導(dǎo)體獲ISO9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證

近日,賀矽萬(上海)半導(dǎo)體科技有限公司成功通過了ISO9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證,標(biāo)志著公司在無掩模激光直寫光刻機(jī)領(lǐng)域的質(zhì)量管理和服務(wù)能力邁上了新的臺(tái)階。...

2025-01-07 標(biāo)簽:光刻機(jī)矽萬半導(dǎo)體 783 0

半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座在 LCD 面板制造曝光機(jī)中的成功應(yīng)用案例

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在 LCD(Liquid Crystal Display)面板制造領(lǐng)域,曝光機(jī)是核心設(shè)備之一。它的作用是通過高精度的光刻技術(shù),將設(shè)計(jì)好的電路圖案精確地轉(zhuǎn)...

2024-12-20 標(biāo)簽:半導(dǎo)體lcd光刻機(jī) 951 0

日本首臺(tái)EUV光刻機(jī)就位

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據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日?qǐng)?bào)道,Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司,已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻...

2024-12-20 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUV 1.2k 0

一文看懂光刻技術(shù)的演進(jìn)

一文看懂光刻技術(shù)的演進(jìn)

光刻機(jī)的分辨率受光源波長(zhǎng)(λ)、工藝因子(k1)和數(shù)值孔徑(NA)三個(gè)主要參數(shù)的影響。根據(jù)瑞利第一公式(CD = k1*λ/NA),這三個(gè)參數(shù)共同決定了...

2024-11-28 標(biāo)簽:芯片制造光刻機(jī) 2.9k 0

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