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      標(biāo)簽　>　光刻機(jī)

      光刻機(jī)

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      文章：1107個(gè) 瀏覽：48187次 帖子：5個(gè)

      光刻機(jī)資訊

      掌握半導(dǎo)體核心技術(shù)，又一家公司折戟IPO

      來(lái)源：芯東西 編輯：感知芯視界 Link 芯東西7月4日?qǐng)?bào)道，近日，上交所官網(wǎng)披露終止半導(dǎo)體裝備企業(yè)北京華卓精科科技股份有限公司（簡(jiǎn)稱(chēng)“華卓精科”）的發(fā)...

      2024-07-05 標(biāo)簽：半導(dǎo)體ipo光刻機(jī) 844 0

      半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)競(jìng)速:Hyper-NA EUV光刻機(jī)挑戰(zhàn)與機(jī)遇并存

      在科技日新月異的今天，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)作為信息技術(shù)的基石，正以前所未有的速度向前躍進(jìn)。隨著人工智能、汽車(chē)電子等新興產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展，對(duì)芯片制造技術(shù)的要求也日益嚴(yán)...

      2024-07-03 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機(jī)EUV 2733 0

      突發(fā)！光刻機(jī)供應(yīng)商上交所IPO終止

      來(lái)源：芯榜 編輯：感知芯視界 Link 上交所網(wǎng)站昨日披露了關(guān)于終止對(duì)北京華卓精科科技股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“華卓精科”）首次公開(kāi)發(fā)行股票并在科創(chuàng)板上市...

      2024-07-01 標(biāo)簽：ipo光刻機(jī) 834 0

      ASML擬于2030年推出Hyper-NA EUV光刻機(jī)，將芯片密度限制再縮小

      ASML再度宣布新光刻機(jī)計(jì)劃。據(jù)報(bào)道，ASML預(yù)計(jì)2030年推出的Hyper-NA極紫外光機(jī)（EUV），將縮小最高電晶體密度芯片的設(shè)計(jì)限制。 ASML前...

      2024-06-18 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 858 0

      Hyper-NA光刻系統(tǒng)，價(jià)格會(huì)再次翻倍嗎？

      Hyper-NA光刻系統(tǒng)，價(jià)格會(huì)再次翻倍嗎？

      電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）隨著去年年底首臺(tái)高NA EUV光刻系統(tǒng)正式交貨給英特爾，ASML這條新的產(chǎn)品線似乎即將開(kāi)啟新一輪的先進(jìn)晶圓制造設(shè)備統(tǒng)治?？?..

      2024-06-18 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASML光刻系統(tǒng) 2891 0

      光刻巨人去世 阿斯麥(ASML)光刻機(jī)巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人去世

      圈內(nèi)突發(fā)噩耗，光刻巨人去世； 阿斯麥(ASML)光刻機(jī)巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人維姆?特羅斯特去世。 據(jù)外媒報(bào)道，在當(dāng)?shù)貢r(shí)間11日晚，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML...

      2024-06-13 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASML 7436 0

      俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)問(wèn)世

      據(jù)外媒報(bào)道，目前，俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測(cè)試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長(zhǎng)瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造...

      2024-05-28 標(biāo)簽：芯片光刻機(jī) 1087 0

      俄羅斯推出首臺(tái)光刻機(jī)：350nm

      來(lái)源：IT之家，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 據(jù)外媒報(bào)道，俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測(cè)試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長(zhǎng)Vasily Sh...

      2024-05-28 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機(jī) 970 0

      買(mǎi)臺(tái)積電都嫌貴的光刻機(jī)，大力推玻璃基板，英特爾代工的野心和危機(jī)

      電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/吳子鵬）此前，臺(tái)積電高級(jí)副總裁張曉強(qiáng)在技術(shù)研討會(huì)上表示，“ASML最新的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)（high-NA EUV）價(jià)格實(shí)在太...

      2024-05-27 標(biāo)簽：英特爾臺(tái)積電工藝 3086 0

      后門(mén)！ASML可遠(yuǎn)程鎖光刻機(jī)！

      來(lái)源：國(guó)芯網(wǎng)，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 5月22日消息，據(jù)外媒報(bào)道，臺(tái)積電從ASML購(gòu)買(mǎi)的EUV極紫外光刻機(jī)，暗藏后門(mén)，可以在必要的時(shí)候執(zhí)行遠(yuǎn)程...

      2024-05-24 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 924 0

      ASML考慮推出通用EUV光刻平臺(tái)

      范登布林克指出，更高的數(shù)值孔徑能提高光刻分辨率。他進(jìn)一步解釋說(shuō)，Hyper NA 光刻機(jī)將簡(jiǎn)化先進(jìn)制程生產(chǎn)流程，避免因使用 High NA 光刻機(jī)進(jìn)行雙...

      2024-05-23 標(biāo)簽：分辨率光刻機(jī)EUV 756 0

      荷蘭阿斯麥稱(chēng)可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī)

      阿斯麥稱(chēng)可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī) 據(jù)彭博社爆料稱(chēng)，有美國(guó)官員就大陸攻臺(tái)的后果私下向荷蘭和中國(guó)臺(tái)灣官員表達(dá)擔(dān)憂(yōu)。對(duì)此，光刻機(jī)制造商阿斯麥（ASML）向荷蘭官...

      2024-05-22 標(biāo)簽：臺(tái)積電光刻機(jī)ASML 6101 0

      今日看點(diǎn)丨臺(tái)積電稱(chēng)無(wú)需ASML新光刻機(jī)即可制造下一代A16芯片；傳比亞迪進(jìn)軍越南受阻

      1. 本田裁減中國(guó)員工1700 人 或?qū)p少6 月工廠運(yùn)營(yíng)天數(shù) ? 由于銷(xiāo)量下滑，本田汽車(chē)正在縮減其在中國(guó)的全職生產(chǎn)員工隊(duì)伍，目前已有約1700名員工同...

      2024-05-15 標(biāo)簽：比亞迪臺(tái)積電光刻機(jī) 1194 0

      EUV光刻機(jī)機(jī)密文件被盜！

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      4月22日消息，據(jù)法國(guó)媒體LeMagIT報(bào)道，日本光學(xué)技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商 Hoya Corporation（豪雅）最近遭遇了勒索軟件的攻擊，其總部和多個(gè)業(yè)務(wù)部...

      2024-04-22 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV 689 0

      英特爾突破技術(shù)壁壘：首臺(tái)商用High NA EUV光刻機(jī)成功組裝

      英特爾的研發(fā)團(tuán)隊(duì)正致力于對(duì)這臺(tái)先進(jìn)的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行細(xì)致的校準(zhǔn)工作，以確保其能夠順利融入未...

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      光刻33%法則是什么意思

      光刻膠的性能：光刻膠的性能對(duì)套刻精度有顯著影響。它決定了圖形的套刻分辨率和邊緣清晰度，光刻膠的收縮和厚度不均勻性都可能導(dǎo)致實(shí)際圖案尺寸與設(shè)計(jì)尺寸之間的偏差。

      2024-04-22 標(biāo)簽：光刻機(jī)光刻膠ASML 1374 0

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      2024-04-19 標(biāo)簽：光刻機(jī)半導(dǎo)體制造EUV 1011 0

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      今日看點(diǎn)丨英特爾完成首臺(tái)商用高數(shù)值孔徑 EUV 光刻機(jī)組裝；聯(lián)發(fā)科發(fā)布天璣 6300 處理器

      1. 臺(tái)積電估將在第 2 季認(rèn)列相關(guān)地震損失 30 億元新臺(tái)幣 ? 403地震讓臺(tái)灣半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)受創(chuàng)，臺(tái)積電稍早公告，臺(tái)灣廠區(qū)在地震后的第三日結(jié)束前完全復(fù)...

      2024-04-19 標(biāo)簽：聯(lián)發(fā)科英特爾光刻機(jī) 935 0

      阿斯麥(ASML)公司首臺(tái)高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)突破性成果

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      在半導(dǎo)體領(lǐng)域，技術(shù)創(chuàng)新是推動(dòng)整個(gè)行業(yè)向前發(fā)展的重要?jiǎng)恿?。近日，荷蘭阿斯麥(ASML)公司宣布，成功打造了首臺(tái)采用0.55數(shù)值孔徑(NA)投影光學(xué)系統(tǒng)的高...

      2024-04-18 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機(jī)EUV 1300 0

      光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績(jī)爆雷 ASML公司一季度訂單下滑

      光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績(jī)爆雷 ASML公司一季度訂單下滑 光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績(jī)爆雷了，阿斯麥（ASML）在4月17日披露的一季度訂單遠(yuǎn)低于市場(chǎng)預(yù)期，這使得阿...

      2024-04-18 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASML 1623 0

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