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標(biāo)簽 > 刻蝕
刻蝕,英文為Etch,它是半導(dǎo)體制造工藝,微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當(dāng)重要的步驟。是與光刻 [1] 相聯(lián)系的圖形化(pattern)處理的一種主要工藝。所謂刻蝕,實際上狹義理解就是光刻腐蝕,先通過光刻將光刻膠進行光刻曝光處理,然后通過其它方式實現(xiàn)腐蝕處理掉所需除去的部分。
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摘要 金剛石具有優(yōu)良的物理和電子性能,因此使用金剛石的各種應(yīng)用正在開發(fā)中。此外,通過蝕刻技術(shù)控制金剛石幾何形狀對于這類應(yīng)用至關(guān)重要。然而,用于蝕刻其他材...
關(guān)于AlN和GaN的刻蝕對比研究—江蘇華林科納半導(dǎo)體
引言 AlN、GaN及其合金因其寬帶隙和獨特的性能被廣泛應(yīng)用于光電子領(lǐng)域,例如基于AlGaN的紫外線發(fā)光二極管(UV-LEDs) ,激光二極管(LD),...
引言 隨著制造技術(shù)的不斷進步,特別是基于納米或微米結(jié)構(gòu)的制造,已經(jīng)研究出了具有強光學(xué)限制的各種制造工藝.兩種最廣泛使用的基于擴散的制造波導(dǎo)的方法已經(jīng)在超...
引言 鈮酸鋰是一種廣泛應(yīng)用于光學(xué)和聲表面波器件的鐵電材料。鈮酸鋰通常不用于微機電系統(tǒng)(MEMS)應(yīng)用,部分原因是鈮酸鋰的體微加工不如與其他材料的加工那樣...
表面增強拉曼散射(SERS)的相關(guān)應(yīng)用研究
自從發(fā)現(xiàn)表面增強拉曼散射(SERS)對于粗糙表面的影響以來,許多研究已經(jīng)開始對多樣化的、有發(fā)展的SERS基底進行了探索。目前,大多數(shù)的研究集中在各種納米...
memsstar在MEMS領(lǐng)域的技術(shù)實力,以及近期取得的進展
雖然我們提供的產(chǎn)品是MEMS設(shè)備,但那只是我們技術(shù)和工藝的載體。我們的MEMS設(shè)備中包含的先進MEMS工藝經(jīng)驗和知識,并且我們團隊還專注于可能在10~1...
半導(dǎo)體設(shè)備大廠Lam ResearchQ3營收創(chuàng)紀(jì)錄 三分之一營收來自中國
4月21日,半導(dǎo)體設(shè)備大廠Lam Research發(fā)布2021第三季度財報,營收創(chuàng)下新高,達到38.5億美元,高于此前37.2億美元的預(yù)期,達到單季的最...
2021-04-22 標(biāo)簽:刻蝕營收Lam Research 7k 1
【芯聞精選】八寸晶圓廠狂漲價,硅片單價突破 1000 美元創(chuàng)十年新高;中微公司刻蝕機已進入國際客戶5nm產(chǎn)線
產(chǎn)業(yè)新聞 ? 臻鼎科技控股高端集成電路封裝載板智能制造工廠項目昨日簽約 ? 4月6日,臻鼎科技控股高端集成電路封裝載板智能制造工廠項目簽約儀式在秦皇島經(jīng)...
2021-04-08 標(biāo)簽:晶圓物聯(lián)網(wǎng)刻蝕 4.6k 0
詳細(xì)分析碳化硅(SiC)器件制造工藝中的干法刻蝕技術(shù)
摘要:簡述了在SiC材料半導(dǎo)體器件制造工藝中,對SiC材料采用干法刻蝕工藝的必要性.總結(jié)了近年來SiC干法刻蝕技術(shù)的工藝發(fā)展?fàn)顩r. 半導(dǎo)體器件已廣泛應(yīng)用...
摘要:MEMS應(yīng)用領(lǐng)域的擴展要求開發(fā)硅材料之外其他新型材料的三維微細(xì)加工技術(shù).為此,對金屬鈦這一新型MEMS體材料的三維加工進行了探索.金屬鈦不僅延展性...
半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化機遇來臨,但半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)還是需要全球合作
目前,國內(nèi)半導(dǎo)體材料與設(shè)備的國產(chǎn)化率平均還不到20%,但經(jīng)過15~20多年的技術(shù)積累,以及企業(yè)和國家的大力投入,半導(dǎo)體材料與設(shè)備在2020年將會獲得實質(zhì)...
2020-05-28 標(biāo)簽:光刻機刻蝕半導(dǎo)體設(shè)備 1.4萬 0
我國芯片刻蝕機再獲技術(shù)突破,技術(shù)全球領(lǐng)先
眾所周知,我國芯片制造技術(shù)與國際先進水平有著不小的差距。芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備--光刻機,與國際領(lǐng)先水平差距更大:世界最先進水平已經(jīng)到了5nm水平,而我國才...
隨著MEMS研究的深入,電化學(xué)刻蝕研究顯得越來越重要
長期以來 ,微加工研究主要是針對微電子工業(yè)的應(yīng)用而開展的 ,其加工對象大都是半導(dǎo)體材料 ,如對 Si、Ge、GaAs 及各種金屬氧化物膜等材料的刻蝕 ,...
半導(dǎo)體先進制程加速,國內(nèi)刻蝕設(shè)備有望突破國際壟斷
在芯片制造中,“光刻”和“刻蝕”是兩個緊密相連的步驟,也是非常關(guān)鍵的步驟。“光刻”就相當(dāng)于用投影的方式把電路圖“畫”在晶圓上。注意,這個時候,電路圖其實...
近日,泛林集團發(fā)布了革新性的等離子刻蝕技術(shù)及系統(tǒng)解決方案Sense.i? 平臺,旨在為芯片制造商提供先進的功能和可擴展性,以滿足未來的創(chuàng)新需求。
泛林集團發(fā)布了一項等離子刻蝕技術(shù)及系統(tǒng)解決方案
近日,泛林集團發(fā)布了一項革新性的等離子刻蝕技術(shù)及系統(tǒng)解決方案,旨在為芯片制造商提供先進的功能和可擴展性,以滿足未來的創(chuàng)新需求。泛林集團開創(chuàng)性的Sense...
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