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標簽 > 寬禁帶半導體
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安森美解讀SiC制造都有哪些挑戰(zhàn)?粉末純度、SiC晶錠一致性
硅通常是半導體技術(shù)的基石。然而,硅也有局限性,尤其在電力電子領域,設計人員面臨著越來越多的新難題。解決硅局限性的一種方法是使用寬禁帶半導體。 本文為白皮...
寬禁帶半導體材料是指具有較寬的禁帶寬度(Eg>2.3eV)的半導體材料。這類材料具有許多獨特的物理和化學性質(zhì),使其在許多高科技領域具有廣泛的應用。 在現(xiàn)...
氮化鎵(GaN)是一種重要的寬禁帶半導體材料,其結(jié)構(gòu)具有許多獨特的性質(zhì)和應用。本文將詳細介紹氮化鎵的結(jié)構(gòu)、制備方法、物理性質(zhì)和應用領域。 結(jié)構(gòu): 氮化鎵...
在當今快速發(fā)展的電力電子領域,碳化硅(SiC)材料因其出色的物理性能而備受關注。作為一種寬禁帶半導體材料,碳化硅在制造高效、高溫和高速的電子器件方面具有...
碳化硅晶圓是晶體通過切割,粗磨,精磨,粗拋,精拋等工藝加工成型的單晶晶圓。由于其硬度和脆性,需要投入更多的能量、更高的溫度和更多的精力來加工和結(jié)晶。因此...
氮化鎵(GaN)技術(shù)創(chuàng)新概況 氮化鎵襯底技術(shù)是什么
氮化鎵(GaN)主要是由人工合成的一種半導體材料,禁帶寬度大于2.3eV,也稱為寬禁帶半導體材料 ?氮化鎵材料為第三代半導體材料的典型代表,是研制微電...
Nexperia推出行業(yè)領先的D2PAK-7封裝車規(guī)級1200 V碳化硅MOSFET
基礎半導體器件領域的高產(chǎn)能生產(chǎn)專家Nexperia(安世半導體)近日宣布推出一系列高效耐用的車規(guī)級碳化硅(SiC) MOSFET,其RDS(on)值分別...
是德科技在寬禁帶半導體裸片上實現(xiàn)動態(tài)測試而且無需焊接或探針
?無需焊接或探針,即可輕松準確地測量寬禁帶功率半導體裸片的動態(tài)特性 ?是德科技夾具可在不損壞裸片的情況下實現(xiàn)快速、重復測試 ?寄生功率回路電感小于10n...
深度分析與解讀功率半導體發(fā)展走向的“三個必然”及其產(chǎn)業(yè)影響
深度分析與解讀功率半導體發(fā)展走向的“三個必然”及其產(chǎn)業(yè)影響 ? 一、功率半導體發(fā)展的“三個必然”的技術(shù)內(nèi)涵與歷史性變革 分析與解讀功率半導體發(fā)展走向的“...
【DT半導體】獲悉,2月18日,南方科技大學舉行的高溫超導研究重大成果發(fā)布會上,由國家最高科學技術(shù)獎獲得者薛其坤院士領銜的南方科技大學、粵港澳大灣區(qū)量子...
杭州鎵仁半導體有限公司近日宣布成功完成近億元的Pre-A輪融資,同時與杭州銀行達成重要戰(zhàn)略合作。本輪融資由九智資本領投,普華資本鼎力參與,彰顯了資本市場...
開關損耗更低、效率更高,增速超越SiC,GaN開始進軍光儲、家電市場
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)隨著以SiC、GaN為主的寬禁帶半導體材料被推出以后,因其優(yōu)秀的特性,迅速在多種電力電子設備中應用。目前來看,GaN已經(jīng)在...
西安電子科技大學馬曉華團隊:蹚出寬禁帶半導體技術(shù)創(chuàng)新之路
來源:西安電子科技大學 6月24日,2023年度國家科學技術(shù)獎在京揭曉,共評選出250個項目和12名科技專家。其中,國家最高科學技術(shù)獎2人,國家自然科學...
2024-07-02 標簽:寬禁帶半導體 634 0
安世半導體斥資2億美元擴產(chǎn)德國基地,聚焦寬禁帶半導體技術(shù)
在全球半導體產(chǎn)業(yè)日新月異的今天,芯片制造商Nexperia(安世半導體)再次展現(xiàn)了其前瞻性的戰(zhàn)略布局。近日,該公司宣布將投資高達2億美元,用于在德國漢堡...
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