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標(biāo)簽 > 晶圓

晶圓

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晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。

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晶圓技術(shù)

先進(jìn)封裝之芯片熱壓鍵合技術(shù)

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回顧過去五六十年,先進(jìn)邏輯芯片性能基本按照摩爾定律來提升。提升的主要?jiǎng)恿碜匀龢O管數(shù)量的增加來實(shí)現(xiàn),而單個(gè)三極管性能的提高對(duì)維護(hù)摩爾定律只是起到輔佐的作...

2023-05-11 標(biāo)簽:芯片三極管晶圓 1389 0

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2023-05-09 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓硅晶圓 1456 0

簡述晶圓減薄的幾種方法

減薄晶片有四種主要方法,(1)機(jī)械研磨,(2)化學(xué)機(jī)械平面化,(3)濕法蝕刻(4)等離子體干法化學(xué)蝕刻(ADP DCE)。四種晶片減薄技術(shù)由兩組組成:研...

2023-05-09 標(biāo)簽:等離子體晶圓蝕刻 2005 0

晶圓測(cè)試設(shè)備的“指尖”——探針卡

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探針卡是半導(dǎo)體晶圓測(cè)試過程中需要使用的重要零部件,被認(rèn)為是測(cè)試設(shè)備的“指尖”。由于每一種芯片的引腳排列、尺寸、間距變化、頻率變化、測(cè)試電流、測(cè)試機(jī)臺(tái)有所...

2023-05-08 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓自動(dòng)測(cè)試 7548 0

集成電路IC封裝的術(shù)語解析

EDA設(shè)計(jì)中經(jīng)常會(huì)用到各種各樣的芯片,這些芯片通過一個(gè)外殼支架上引腳連接線路板上的導(dǎo)線和其他器件相連,這種外殼支架就稱為集成電路的封裝形式,芯片的晶圓通...

2023-05-06 標(biāo)簽:芯片集成電路晶圓 2862 0

晶圓生產(chǎn)的目標(biāo)及術(shù)語介紹

芯片的制造分為原料制作、單晶生長和晶圓的制造、集成電路晶圓的生產(chǎn)和集成電路的封裝階段。本節(jié)主要講解集成電路封裝階段的部分。 集成電路晶圓生產(chǎn)是在晶...

2023-05-06 標(biāo)簽:芯片集成電路晶圓 1870 0

掩模場(chǎng)利用率MFU簡介

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掃描儀(scanner)是一種在wafer上創(chuàng)建die images的機(jī)器。它首先通過刻線(有時(shí)稱為掩模)將光照射到涂有保護(hù)性光刻膠的wafer上,以刻...

2023-05-06 標(biāo)簽:晶圓掃描儀計(jì)算器 1.3萬 0

先進(jìn)封裝之熱壓鍵合工藝的基本原理

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熱壓鍵合工藝的基本原理與傳統(tǒng)擴(kuò)散焊工藝相同,即上下芯片的Cu 凸點(diǎn)對(duì)中后直接接觸,其實(shí)現(xiàn)原子擴(kuò)散鍵合的主要影響參數(shù)是溫度、壓力、時(shí)間. 由于電鍍后的Cu...

2023-05-05 標(biāo)簽:晶圓服務(wù)器芯片先進(jìn)封裝 4258 0

重新制作硅能解決全球芯片短缺問題嗎

隨著芯片短缺的持續(xù)存在,我們無法回避這樣一個(gè)事實(shí),即在不久的將來,更多的行業(yè)將使用硅技術(shù),而那些已經(jīng)使用它的行業(yè),如汽車,將需要更多。這意味著公司將不得...

2023-05-05 標(biāo)簽:芯片晶圓人工智能 600 0

電解液中晶圓的兆聲波清洗

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在當(dāng)今的器件中,最小結(jié)構(gòu)的尺寸接近于需要從晶片表面移除的粒子的尺寸。在不破壞脆弱設(shè)備的情況下,在工藝步驟之間去除納米顆粒的清洗過程的重要性正在不斷增長。...

2023-05-02 標(biāo)簽:晶圓電解液 1396 0

半導(dǎo)體圖案化工藝流程之刻蝕簡析

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2023-04-28 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓刻蝕工藝 2085 0

金屬布線的工藝為半導(dǎo)體注入生命的連接

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經(jīng)過氧化、光刻、刻蝕、沉積等工藝,晶圓表面會(huì)形成各種半導(dǎo)體元件。半導(dǎo)體制造商會(huì)讓晶圓表面布滿晶體管和電容(Capacitor);

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三維異構(gòu)集成技術(shù)發(fā)展的競爭態(tài)勢(shì)分析

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一是將芯片封裝架構(gòu)由平面拓展至2.5D 或3D,可實(shí)現(xiàn)更小更緊湊的芯片系統(tǒng);二是可以融合不同的半導(dǎo)體材料、工藝、器件的優(yōu)點(diǎn),實(shí)現(xiàn)更復(fù)雜的功能和更優(yōu)異的性能;

2023-04-27 標(biāo)簽:晶圓封裝技術(shù)芯片封裝 3810 0

機(jī)器視覺在工業(yè)檢測(cè)中的應(yīng)用歷史與發(fā)展

機(jī)器視覺在工業(yè)上應(yīng)用領(lǐng)域廣闊,核心功能包括:測(cè)量、檢測(cè)、識(shí)別、定位等。產(chǎn)業(yè)鏈可以分為上游部件級(jí)市場(chǎng)、中游系統(tǒng)集成/整機(jī)裝備市場(chǎng)和下游應(yīng)用市場(chǎng)。機(jī)器視覺上...

2023-04-26 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓機(jī)器視覺 1264 0

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異質(zhì)集成技術(shù)開發(fā)與整合的關(guān)鍵在于融合實(shí)現(xiàn)多尺度、多維度的芯片互連,通過 三維互連技術(shù)配合,將不同功能的芯粒異質(zhì)集成到一個(gè)封裝體中,從而提高帶寬和電源效率...

2023-04-26 標(biāo)簽:芯片存儲(chǔ)器晶圓 1367 0

化學(xué)金沉積過程的研究綜述

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化學(xué)鍍鎳和銅工藝的應(yīng)用對(duì)導(dǎo)體和絕緣體的金屬化技術(shù)產(chǎn)生了深遠(yuǎn)的影響。印刷電路工業(yè)實(shí)際上是建立在無電鍍銅以不均勻的金屬厚度覆蓋絕緣體和導(dǎo)體的能力上的;同時(shí),...

2023-04-21 標(biāo)簽:電流半導(dǎo)體晶圓 1181 0

從制造端來聊聊——芯片是如何誕生的

光刻膠層透過掩模被曝光在紫外線之下,變得可溶,掩模上印著預(yù)先設(shè)計(jì)好得電路圖案,紫外線透過它照在光刻膠層上,就會(huì)形成每一層電路圖形。這個(gè)原理和老式膠片曝光類似。

2023-04-20 標(biāo)簽:芯片晶圓光刻 3157 0

3D晶圓鍵合裝備的工藝過程及研發(fā)現(xiàn)狀

設(shè)備由MEMS領(lǐng)域應(yīng)用轉(zhuǎn)化到3D集成技術(shù)領(lǐng)域,表現(xiàn)出高對(duì)準(zhǔn)精度特點(diǎn)。大多數(shù)對(duì)準(zhǔn)、鍵合工藝都源于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)制造技術(shù),但應(yīng)用于3D集成的對(duì)準(zhǔn)精度...

2023-04-20 標(biāo)簽:集成電路晶圓光刻 6294 0

晶圓鍵合類型介紹

這是一種晶圓鍵合方法,其中兩個(gè)表面之間的粘附是由于兩個(gè)表面的分子之間建立的化學(xué)鍵而發(fā)生的。

2023-04-20 標(biāo)簽:CMOS晶圓TLP 5019 0

p+硅上的鍍鎳:接觸的表征

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為了提高鍍鎳層的粘附性,從而降低接觸電阻率,介紹了兩種分離的鍍鎳工藝,即“兩步鍍鎳”。在這個(gè)過程中,證明了接觸電阻率約為0.6 mΩcm2的窄而銳利的譜...

2023-04-19 標(biāo)簽:太陽能半導(dǎo)體晶圓 2179 0

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