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標(biāo)簽 > asml
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我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)面臨的主要問(wèn)題
解決方案:技術(shù)難點(diǎn)的攻克可以通過(guò)國(guó)家重大專(zhuān)項(xiàng)的推進(jìn)完成,企業(yè)和政府共同承 擔(dān)高端設(shè)備的技術(shù)攻克,減輕企業(yè)端的研發(fā)投入壓力,同時(shí)繼續(xù)鼓勵(lì)國(guó)內(nèi)新建晶圓 廠推...
荷蘭巨頭1nm光刻機(jī)迎新突破,預(yù)計(jì)會(huì)在2022年實(shí)現(xiàn)商業(yè)化
? ? 11月30日最新報(bào)道,近日荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)又送來(lái)一則好消息,該司已經(jīng)與比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機(jī)的設(shè)計(jì)工...
據(jù)說(shuō)1nm光刻機(jī)已經(jīng)被設(shè)計(jì)出來(lái)了,預(yù)計(jì)2022年即可商用
據(jù)日媒近日消息,IMEC公司(比利時(shí)的一家微電子研究機(jī)構(gòu),總部在比利時(shí)魯汶,是一個(gè)專(zhuān)注于納米科技的世界級(jí)研究中心)在ITF Japan 2020大會(huì)上公...
ASML新動(dòng)態(tài):ASML已完成1nm芯片EUV光刻機(jī)設(shè)計(jì)
根據(jù)其所公布的內(nèi)容來(lái)看,ASML 對(duì)于 3 納米、2 納米、1.5 納米、1 納米,甚至是小于 1 納米的工藝都做了清楚的發(fā)展規(guī)劃,代表著 ASML 基...
三星希望能搶在臺(tái)積電之前,取得ASML下一代EUV設(shè)備供應(yīng)
業(yè)內(nèi)人士分析稱,三星積極追趕臺(tái)積電,不過(guò)臺(tái)積電在高良率與低功耗方面擁有優(yōu)勢(shì)。7nm 制程方面,臺(tái)積電先推出 FinFet 架構(gòu)的 7nm 技術(shù),再推出使...
為何只有荷蘭ASML才能制造頂尖EUV光刻機(jī)設(shè)備?
自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時(shí)代以后,需要用到一臺(tái)頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備,才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品,但就在近日,又有外媒...
傳臺(tái)積電已采購(gòu)35臺(tái)EUV光刻機(jī),占ASML過(guò)班產(chǎn)量
對(duì)于主攻代工芯片的臺(tái)積電來(lái)說(shuō),擁有越多先進(jìn)的光刻機(jī),優(yōu)勢(shì)就越大,當(dāng)然訂單也就越多。
2020-12-02 標(biāo)簽:臺(tái)積電asmleuv光刻機(jī) 1532 0
中科院回應(yīng)5nm光刻技術(shù)突破ASML壟斷:誤讀
近日,中國(guó)科學(xué)院官網(wǎng)上發(fā)布的一則研究進(jìn)展顯示,該團(tuán)隊(duì)研發(fā)的新型5nm超高精度激光光刻加工方法,隨后這被外界解讀為,已經(jīng)5nm ASML的壟斷,對(duì)此相關(guān)人...
臺(tái)積電現(xiàn)采購(gòu) 35 臺(tái) EUV 光刻機(jī),占 ASML 過(guò)半產(chǎn)量
據(jù)中國(guó)臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)報(bào)道,EUV 光刻機(jī)制造商 ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 帶領(lǐng)高管拜訪三星,雙方尋求技術(shù)與投資合作。三星希望能搶在...
2020-12-02 標(biāo)簽:臺(tái)積電ASMLEUV光刻機(jī) 1906 0
近日,《財(cái)經(jīng)》雜志發(fā)文澄清了一個(gè)關(guān)于中科院光刻技術(shù)突破ASML的誤讀傳言。 事情可以追溯至今年7月,中國(guó)科學(xué)院官網(wǎng)上發(fā)布了一則研究進(jìn)展相關(guān)消息,中科院蘇...
中國(guó)將突破ASML在極紫外光刻技術(shù)上的壟斷?
近日,中國(guó)科學(xué)院官網(wǎng)上發(fā)布的一則研究進(jìn)展顯示,該團(tuán)隊(duì)研發(fā)的新型5nm超高精度激光光刻加工方法,隨后這被外界解讀為,已經(jīng)5nm ASML的壟斷,對(duì)此相關(guān)人...
ASML高管訪問(wèn)三星討論EUV光刻設(shè)備供應(yīng)和開(kāi)發(fā)合作
據(jù)韓國(guó)媒體businesskorea報(bào)道,三星電子正在尋求加強(qiáng)與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML的技術(shù)和投資合作。 上周,包括首席執(zhí)行官Peter Burn...
中科院回應(yīng):5nm光刻技術(shù)突破ASML壟斷是誤讀
近日,中國(guó)科學(xué)院官網(wǎng)上發(fā)布的一則研究進(jìn)展顯示,該團(tuán)隊(duì)研發(fā)的新型5nm超高精度激光光刻加工方法,隨后這被外界解讀為,已經(jīng)5nm ASML的壟斷,對(duì)此相關(guān)人...
ASML公布1nm光刻機(jī)路線,應(yīng)用材料有望重回霸主地位
電子發(fā)燒友報(bào)道(文/周凱揚(yáng))對(duì)于半導(dǎo)體的生產(chǎn)與制造來(lái)說(shuō),設(shè)施設(shè)備同樣至關(guān)重要。設(shè)備決定了代工廠能否搶占更多的訂單份額,以及垂直整合制造企業(yè)的產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力與...
2020-12-02 標(biāo)簽:光刻機(jī)應(yīng)用材料ASML 3638 0
ASML已基本完成 1nm 光刻機(jī)設(shè)計(jì)
11月30日消息 摩爾定律還沒(méi)有結(jié)束。日媒報(bào)道,由于新型冠狀病毒的傳播,近期日本ITF于11月18日在日本東京舉行了網(wǎng)上發(fā)布會(huì)。
ASML已基本完成1nm光刻機(jī)設(shè)計(jì)
摩爾定律還沒(méi)有結(jié)束。日媒報(bào)道,由于新型冠狀病毒的傳播,近期日本ITF于11月18日在日本東京舉行了網(wǎng)上發(fā)布會(huì)。 IMEC公司首席執(zhí)行官兼總裁Luc Va...
IMEC公司首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove首先發(fā)表了主題演講,介紹了公司研究概況,他強(qiáng)調(diào)通過(guò)與ASML公司緊密合作,將下一代高分辨率...
ASML已完成制造1nm芯片的EUV光刻機(jī)的設(shè)計(jì)方案
本月中旬,在日本東京舉辦了ITF論壇。論壇上,與ASML(阿斯麥)合作研發(fā)光刻機(jī)的比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。
2020-11-30 標(biāo)簽:芯片ASMLEUV光刻機(jī) 2113 0
本月中旬,在日本東京舉辦了ITF論壇。 論壇上,與ASML(阿斯麥)合作研發(fā)光刻機(jī)的比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細(xì)...
2021年全球NAND存儲(chǔ)市場(chǎng)規(guī)模仍會(huì)呈增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)
據(jù)報(bào)道,市調(diào)機(jī)構(gòu)Yole Developpement的報(bào)告顯示,雖然存儲(chǔ)市場(chǎng)具有季節(jié)和周期性波動(dòng)的特性,但全球NAND存儲(chǔ)市場(chǎng)規(guī)模仍會(huì)呈增長(zhǎng)態(tài)勢(shì),預(yù)計(jì)2...
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