俄勒岡州WILSONVILLE - Mentor Graphics Corp.和KLA-Tencor公司今天宣布擴大合作用于使用亞波長光掩模改善晶圓廠產(chǎn)量的產(chǎn)品。兩家公司表示，Mentor網(wǎng)站將提供用于KLA-Tencor關(guān)鍵尺寸（CD）掃描電子顯微鏡（SEM）工具的新計量模板，以減少設置時間并幫助在過程監(jiān)控應用中收集數(shù)據(jù)。

Calibre Optical＆amp;過程校正測試模式可從Mentor下載，用于KLA-Tencor的每個8100XP系列CD-SEM測量系統(tǒng)。模板和CD-SEM系統(tǒng)協(xié)同工作，直接測量掩模誤差增強功能（MEEF），它表征了從光罩上印刷在硅上的誤差的影響。

“當將Mentor模板與能力結(jié)合起來時在同一張CD SEM中快速測量光罩和印刷晶圓，工藝學習率呈指數(shù)級增長，“KLA-Tencor電子束計量部門營銷總監(jiān)Rich Quattrini說。 “這為我們的客戶在快速將新的光刻技術(shù)引入批量生產(chǎn)方面提供了強大的優(yōu)勢。”

在今天宣布之前，威爾遜維爾的Mentor與KLA-Tencor的光柵和光掩模部門合作調(diào)整OPC算法以增加檢查能力。 Mentor和Finle Technologies最近收購了幾篇關(guān)于MEEF和模擬問題理論方面的技術(shù)論文，最近被San Jose KLA-Tencor收購。

“展望未來，IC設計的驗證和可制造性工具必須考慮到大量的掩模和芯片問題，當事情變小時會變得更加困難，“Mentor的Calibre業(yè)務部門主管Joe Sawicki說。 “確保電子設計自動化工具可以使用來自合作伙伴（如KLA-Tencor）的高質(zhì)量數(shù)據(jù)來設計產(chǎn)量，這是確保亞波長設計產(chǎn)量更高的必要途徑?！?/p>

光刻中的OPC策略KLA-Tencor公司光刻解決方案部副總裁斯科特·阿什肯納茲表示，現(xiàn)在需要保持先進的制造產(chǎn)量不會崩潰。 “成功實施OPC的一個關(guān)鍵是對MEEF的理解，這只會變得越來越重要，”他說。 “導師一直非常積極地量化這些現(xiàn)象并調(diào)整他們的軟件以正確地考慮它們?！?/p>