盡管2019年Intel已經(jīng)量產(chǎn)了10nm工藝，但是因為多年延期，導致10nm工藝進度沒跟上，目前還處于產(chǎn)能爬坡階段，以致于Intel的處理器出現(xiàn)供應短缺的問題。為了徹底解決這些問題，Intel還在努力推進7nm工藝，最快2021年量產(chǎn)。

7nm是Intel下一代工藝的重要節(jié)點，而且是高性能工藝，其地位堪比現(xiàn)在的14nm工藝，而且它還是Intel首次使用EUV光刻的制程工藝，意義重大。

根據(jù)Intel之前公布的信息，其7nm EUV工藝相比10nm工藝晶體管密度翻倍，每瓦性能提升20%，設計復雜度降低了4倍。

7nm工藝的首款產(chǎn)品就是Xe架構的GPU加速芯片，主要應用于數(shù)據(jù)中心AI及高性能計算，最快2021年量產(chǎn)，也就是2年后7nm EUV就能擔大梁了。

目前Intel正在加速7nm EUV工藝的步伐，今年8月份就訂購用于7nm EUV工藝節(jié)點的材料和設備，比預期速度更快。