chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

訂購EUV光刻機(jī)受阻? 中芯國際和ASML回應(yīng)了

jf_1689824270.4192 ? 來源:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 作者:jf_1689824270.4192 ? 2019-11-08 01:24 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

針對(duì)近幾日多家媒體報(bào)道的有關(guān)ASML公司對(duì)中芯國際訂購的EUV光刻機(jī)設(shè)備有意延遲的推測。二家公司今日均發(fā)表內(nèi)容回應(yīng)。

ASML回應(yīng)如下:

關(guān)于日經(jīng)新聞(NIKKEI)昨日報(bào)導(dǎo),其標(biāo)題和內(nèi)容呈現(xiàn)造成誤導(dǎo),本公司在此提出澄清。

我司不對(duì)任何客戶做comment。對(duì)于日經(jīng)新聞報(bào)道的關(guān)于交貨時(shí)程僅為其媒體推測,ASML從未評(píng)論或確認(rèn),因此,“延遲出貨”僅為媒體推測。對(duì)其將推測直接定性為事實(shí)作為新聞標(biāo)題并在文中闡述,表示抗議。

ASML一向在遵守相關(guān)國際法規(guī)的前提下一視同仁地服務(wù)全球客戶。根據(jù)瓦圣納協(xié)議,ASML出口EUV到中國需取得荷蘭政府的出口許可(export license)。該出口許可于今年到期,ASML已經(jīng)于到期前重新進(jìn)行申請,目前正在等待荷蘭政府核準(zhǔn)。因此,關(guān)于“ASML決定延遲/終止出貨”的說法是錯(cuò)誤的,ASML系遵循法規(guī)行事。

中芯國際也表示:

EUV還在紙面工作階段,未進(jìn)行相關(guān)活動(dòng)。公司先進(jìn)工藝研發(fā)進(jìn)展順利。目前,研發(fā)與生產(chǎn)的連結(jié)一切正常??蛻襞c設(shè)備導(dǎo)入正常運(yùn)作。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 中芯國際
    +關(guān)注

    關(guān)注

    27

    文章

    1442

    瀏覽量

    67244
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    613

    瀏覽量

    88174
  • ASML
    +關(guān)注

    關(guān)注

    7

    文章

    732

    瀏覽量

    43133
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機(jī)路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/吳子鵬)?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局,光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”,而極紫外(EUV光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來,荷蘭
    的頭像 發(fā)表于 10-04 03:18 ?8789次閱讀
    俄羅斯亮劍:公布<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>路線圖,挑戰(zhàn)<b class='flag-5'>ASML</b>霸主地位?

    國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠

    近日,深圳穩(wěn)頂聚技術(shù)有限公司(簡稱“穩(wěn)頂聚”)宣布,其自主研發(fā)的首臺(tái)國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠,標(biāo)志著我國在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚出廠的步進(jìn)式
    的頭像 發(fā)表于 10-10 17:36 ?401次閱讀

    ASML官宣:更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動(dòng)

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,日前,ASML 技術(shù)高級(jí)副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司,啟動(dòng)了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
    發(fā)表于 06-29 06:39 ?1670次閱讀

    ASML光刻 」勢力知識(shí)挑戰(zhàn)賽正式啟動(dòng)

    ASML光刻」勢力知識(shí)挑戰(zhàn)賽由全球半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)先供應(yīng)商ASML發(fā)起,是一項(xiàng)面向中國半導(dǎo)體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML
    的頭像 發(fā)表于 06-23 17:04 ?966次閱讀
    <b class='flag-5'>ASML</b>杯<b class='flag-5'>光刻</b>「<b class='flag-5'>芯</b> 」勢力知識(shí)挑戰(zhàn)賽正式啟動(dòng)

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    ? EUV光刻有多強(qiáng)?目前來看,沒有EUV光刻,業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 02-18 09:31 ?1478次閱讀
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
    的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?757次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    如何提高光刻機(jī)的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA,又名
    的頭像 發(fā)表于 01-20 09:44 ?1923次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的NA值

    光刻機(jī)的分類與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?4997次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    ? 本文介紹組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?3567次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    日本首臺(tái)EUV光刻機(jī)就位

    本月底完成。 Rapidus 計(jì)劃 2025 年春季使用最先進(jìn)的 2 納米工藝開發(fā)原型芯片,于 2027 年開始大規(guī)模生產(chǎn)芯片。 EUV 機(jī)器結(jié)合特殊光源、鏡頭和其他技術(shù),可形成超精細(xì)電路圖案。該系統(tǒng)體積小,不易受到振動(dòng)和其他干擾。
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?1259次閱讀
    日本首臺(tái)<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>就位

    用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹

    時(shí),摩爾定律開始面臨挑戰(zhàn)。一些光刻機(jī)巨頭選擇保守策略,寄希望于F2準(zhǔn)分子光源157nm波長的干式光刻技術(shù)。2002年,浸潤式光刻的構(gòu)想被提出,即利用水作為介質(zhì),通過光在液體
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?3794次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)介紹

    光刻機(jī)的工作原理和分類

    ? 本文介紹光刻機(jī)在芯片制造的角色和地位,并介紹光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?6712次閱讀

    光刻機(jī)巨頭拋出重磅信號(hào) 阿斯麥(ASML)股價(jià)大幅上漲

    在2024年投資者會(huì)議上,光刻機(jī)巨頭拋出重磅利好;緊接著ASML股價(jià)開始大幅拉升;一度上漲超5%。截止收盤上漲2.9%。 阿斯麥在會(huì)議上宣布,預(yù)計(jì)2030年的銷售額將在440億歐元至600億歐元之間
    的頭像 發(fā)表于 11-15 19:48 ?6109次閱讀

    今日看點(diǎn)丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉;三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機(jī)

    光刻機(jī)售價(jià)約3.5億美元(約合人民幣25億元),遠(yuǎn)高于ASML標(biāo)準(zhǔn)EUV系列的1.8億~2億美元。High NA系統(tǒng)具有8
    發(fā)表于 10-31 10:56 ?1384次閱讀