在先進半導體工藝上,國內(nèi)最大的晶圓代工廠中芯國際SMIC的14nm工藝已經(jīng)量產(chǎn),改進版的 12nm工藝也在導入中,取得了優(yōu)秀的成績。考慮到國內(nèi)半導體工藝上的落后,光指望中芯國際一家也是不行的,上海華虹集團日前透露其14nm FinFET工藝也全線貫通,SRAM良率已達25%。
1月12日下午,,華虹集團在無錫新落成的華虹七廠研發(fā)大樓召開“開放、創(chuàng)新、合作—華虹集團2020年全球供應商迎新座談會”,邀請了國內(nèi)30多家、國外50多家供應商合作伙伴出席,華虹集團高管分享了該公司的最新進展。
華虹方面表示,2019年是華虹集團產(chǎn)能擴張、工藝提升的關鍵年,該公司多個項目都取得了重要進展:
·作為華虹集團在上海市域以外的第一個制造項目,華虹七廠于9月17日實現(xiàn)順利投產(chǎn),首期1萬片產(chǎn)能的機臺順利串線并完成一系列工藝驗證,進入正常生產(chǎn)階段,創(chuàng)造了業(yè)界同類產(chǎn)線建成投產(chǎn)的最快記錄,成為中國大陸第一條12英寸特色工藝產(chǎn)線,也是中國大陸第一條12英寸功率器件代工產(chǎn)線;
·華虹六廠自2018年10月18日投產(chǎn)以來,產(chǎn)能爬坡順利,目前已經(jīng)完成月產(chǎn)2萬片的裝機產(chǎn)能;
·華虹五廠實現(xiàn)連續(xù)兩年盈利,年度出貨量、單日作業(yè)量屢創(chuàng)新高;
·華虹宏力8英寸特色工藝制造平臺(華虹一、二、三廠)在產(chǎn)能規(guī)模、營運效率方面持續(xù)保持領先,并連續(xù)9年實現(xiàn)盈利。
華虹集團成為業(yè)界唯一一家連續(xù)兩年建設并投產(chǎn)運營兩條12英寸生產(chǎn)線的企業(yè)
除了產(chǎn)能建設之外,華虹集團在技術(shù)研發(fā)上也獲得了多項重要突破,新研發(fā)的65/55納米節(jié)點得射頻和BCD特色工藝平臺,處于國際先進水平;28納米工藝(28LP/28HK/28HKC+)均實現(xiàn)量產(chǎn);22納米研發(fā)快速推進;14納米研發(fā)或重大進展;更先進技術(shù)節(jié)點的先導工藝研發(fā)快速部署。
尤其是最新一代的工藝,華虹集團總工程師趙宇航指出其14nm FinFET工藝已經(jīng)全線貫通,SRAM良率25%,2020年將快速推進。
這也是華虹集團首次對外公布14nm工藝的具體良率情況,SRAM芯片的25%良率對生產(chǎn)來說肯定不行,但是對研發(fā)、實驗來說已經(jīng)是一大進步。
在總體進度上,華虹的14nm工藝肯定是不如中芯國際的14nm快的,后者的14nm工藝去年良率就達到了95%,并已經(jīng)開始進入量產(chǎn)階段,比國家預定目標提前一年,現(xiàn)在正在產(chǎn)能提升及新工藝導入階段。
責任編輯:wv
-
半導體
+關注
關注
336文章
30002瀏覽量
258477 -
中芯國際
+關注
關注
27文章
1447瀏覽量
67631 -
華虹
+關注
關注
1文章
51瀏覽量
11212
發(fā)布評論請先 登錄
南昌大學在高分辨率光聲顯微成像方面獲得突破
華大九天Vision平臺重塑晶圓制造良率優(yōu)化新標桿
廣立微DE-YMS系統(tǒng)助力紫光同芯良率管理
歐菲光三項技術(shù)研發(fā)成果獲得國家發(fā)明專利授權(quán)
Chiplet與3D封裝技術(shù):后摩爾時代的芯片革命與屹立芯創(chuàng)的良率保障
三星在4nm邏輯芯片上實現(xiàn)40%以上的測試良率
時擎科技向上海市浦東新區(qū)知識產(chǎn)權(quán)保護中心贈送錦旗,致謝專利預審高效支持
午芯芯科技國產(chǎn)電容式MEMS壓力傳感器芯片突破卡脖子技術(shù)
金融界稱:萬年芯取得提升薄芯片良率的貼片方式專利

上海華虹集團透露SRAM良率已達25% 在技術(shù)研發(fā)上獲得多項重要突破
評論