chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

中芯國(guó)際表示深圳工廠進(jìn)口光刻機(jī)不是EUV光刻機(jī)

汽車玩家 ? 來(lái)源:IT之家 ? 作者:遠(yuǎn)洋 ? 2020-03-07 10:55 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

IT之家3月6日消息 據(jù)中國(guó)證券報(bào)報(bào)道,3月6日下午從中芯國(guó)際獲悉,日前中芯國(guó)際深圳工廠從荷蘭進(jìn)口了一臺(tái)大型光刻機(jī),但這是設(shè)備正常導(dǎo)入,用于產(chǎn)能擴(kuò)充,并非外界所稱的EUV光刻機(jī)。

IT之家今天早些時(shí)候報(bào)道,3月4日早上8點(diǎn)不到,中芯國(guó)際集成電路制造(深圳)有限公司從從荷蘭進(jìn)口的一臺(tái)大型光刻機(jī)順利通過(guò)出口加工區(qū)場(chǎng)站兩道閘口進(jìn)入廠區(qū),這臺(tái)機(jī)器主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線擴(kuò)容。

據(jù)IT之家獲悉,EUV光刻機(jī)主要用于7nm及以下制程。中芯國(guó)際目前量產(chǎn)的最先進(jìn)制程為第一代FinFET 14nm,已貢獻(xiàn)2019年第四季度1%營(yíng)收。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 中芯國(guó)際
    +關(guān)注

    關(guān)注

    27

    文章

    1438

    瀏覽量

    66327
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1164

    瀏覽量

    48187
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    609

    瀏覽量

    87224
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績(jī)暴雷,芯片迎來(lái)新一輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過(guò)程的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?3391次閱讀

    電子直寫(xiě)光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫(xiě)光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來(lái)越高。電子直寫(xiě)光刻機(jī)的精度與電子波長(zhǎng)和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長(zhǎng)可通過(guò)增加加速電極電壓來(lái)減小波長(zhǎng),而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    成都匯陽(yáng)投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲,后市迎來(lái)機(jī)會(huì)

    【2025年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過(guò)程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一,其在半導(dǎo)體制造的重要性不言而喻。 目前,全球市場(chǎng)對(duì)光刻機(jī)的需求持續(xù)增長(zhǎng),尤
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?608次閱讀

    不只依賴光刻機(jī)!芯片制造的五大工藝大起底!

    在科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”,其制造過(guò)程復(fù)雜而精密,涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備,但實(shí)際上,芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝,揭示這些工藝如何協(xié)同工作,共同鑄就了
    的頭像 發(fā)表于 03-24 11:27 ?1176次閱讀
    不只依賴<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>!芯片制造的五大工藝大起底!

    EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    ? EUV光刻有多強(qiáng)?目前來(lái)看,沒(méi)有EUV光刻,業(yè)界就無(wú)法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 02-18 09:31 ?1017次閱讀
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    什么是光刻機(jī)的套刻精度

    在芯片制造的復(fù)雜流程光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),它就像
    的頭像 發(fā)表于 02-17 14:09 ?2240次閱讀
    什么是<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的套刻精度

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
    的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?481次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    如何提高光刻機(jī)的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA,又名
    的頭像 發(fā)表于 01-20 09:44 ?1336次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的NA值

    光刻機(jī)的分類與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?2505次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影的曝光過(guò)程,但精度要求極高
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?2197次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    日本首臺(tái)EUV光刻機(jī)就位

    據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日?qǐng)?bào)道,Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司,已經(jīng)開(kāi)始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個(gè)階段進(jìn)行安裝,設(shè)備安裝預(yù)計(jì)在
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?902次閱讀
    日本首臺(tái)<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>就位

    用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹

    時(shí),摩爾定律開(kāi)始面臨挑戰(zhàn)。一些光刻機(jī)巨頭選擇了保守策略,寄希望于F2準(zhǔn)分子光源157nm波長(zhǎng)的干式光刻技術(shù)。2002年,浸潤(rùn)式光刻的構(gòu)想被提出,即利用水作為介質(zhì),通過(guò)光在液體的折射特
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?2422次閱讀
    用來(lái)提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤(rùn)式<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)介紹

    光刻機(jī)的工作原理和分類

    ? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造的角色和地位,并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī):芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?5827次閱讀

    一文看懂光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)及雙工件臺(tái)技術(shù)

    ,光刻機(jī)作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機(jī)的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺(tái)技術(shù)展開(kāi)介紹。 一、光刻機(jī)發(fā)展歷程 光刻機(jī)的發(fā)展歷程
    的頭像 發(fā)表于 11-22 09:09 ?4572次閱讀
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的結(jié)構(gòu)及雙工件臺(tái)技術(shù)

    一文了解光刻機(jī)成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)

    精密機(jī)械方面涉及到納米精度的位移控制技術(shù)等,這些技術(shù)發(fā)展涉及的加工和檢測(cè)設(shè)備也都是各時(shí)代最尖端的設(shè)備,因此高精度光刻機(jī)也被稱為“人類歷史上最精密”的機(jī)器之一。?? 光刻機(jī)發(fā)展歷程 半導(dǎo)體集成電路制造的工藝流程由美
    的頭像 發(fā)表于 11-21 13:43 ?1415次閱讀
    一文了解<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)