據(jù)韓媒Business Korea報道，三星電子已經(jīng)開始建設一條5納米生產(chǎn)線，新生產(chǎn)線預計設在京畿道華城工廠的V1生產(chǎn)線上。

據(jù)悉，V1 主要是基于極紫外線 (EUV) 工藝技術(shù)的生產(chǎn)線，于今年 2月開始運行。三星電子在去年4月份完成了基于 EUV 工藝的 5 納米制程技術(shù)的開發(fā)，有望在今年年底或明年年初建立一個完整的 5 納米量產(chǎn)系統(tǒng)，預計V1生產(chǎn)線將代工高通的驍龍X60芯片。

相較之下，臺積電已經(jīng)建立了一條5納米的生產(chǎn)線，并預計在下個月開始量產(chǎn)高通驍龍X60芯片。如果該消息屬實，臺積電將是第一家成功使用 5 納米EUV鑄造工藝大規(guī)模生產(chǎn)芯片的公司。

三星電子和臺積電不僅在5納米工藝領(lǐng)域競爭，而且競先開發(fā)3納米工藝。三星電子決心在全球代工領(lǐng)域中占據(jù)領(lǐng)先地位，該公司將在今年加快3納米工藝的研發(fā)，并為此投資約1.33萬億韓元，以便在2030年成為系統(tǒng)半導體領(lǐng)域的龍頭。

對此，臺積電也開始大規(guī)模投資研發(fā)3納米工藝。該公司宣布計劃投資150億美元進行研發(fā)，并招聘4000余名新員工。

一名產(chǎn)業(yè)高管表示：“各大廠商除了在半導體微制造工藝市場率先發(fā)展技術(shù)外，最先量產(chǎn)以獲得產(chǎn)品訂單的競爭也越來越激烈。”