目前上市的5G處理器還是7nm的，前不久紫光展銳發(fā)布了虎賁T7520，全球首發(fā)6nm EUV工藝，展銳表示沒有2億美元就別想做6nm芯片。

虎賁T7520則是基于馬卡魯2.0平臺，單芯片集成5G基帶。這也是繼華為、高通、三星、聯(lián)發(fā)科之后的5G SoC新勢力，并且在技術(shù)工藝、通信能力、AI、視覺能力、續(xù)航能力、安全性等六大方面都具有突出的優(yōu)勢。

考慮到紫光展銳第一代5G芯片還是12nm工藝的，現(xiàn)在直接進(jìn)入到了6nm EUV工藝，進(jìn)步值得表揚(yáng)，但在這背后勢必也付出了極大的努力，資金、人員、時間投入不低。

那虎賁T7520處理器到底有多強(qiáng)大？尤其是6nm EUV工藝先進(jìn)在哪里？紫光展銳剛剛發(fā)了一篇科普文章，介紹了6nm EUV工藝的先進(jìn)特性。

根據(jù)紫光展銳所說，EUV工藝的難點(diǎn)主要在光源、發(fā)光、轉(zhuǎn)化率、成本等問題上，其中最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)售價高達(dá)1億歐元一臺，是DUV光刻機(jī)價格2倍多，采購以后還需要多臺747飛機(jī)才能運(yùn)輸整套系統(tǒng)。

詳細(xì)內(nèi)容可以參考下面的全文：

只有引入EUV技術(shù)的6nm才是真正的6nm，而這項技術(shù)也將伴隨未來可能的5nm、4nm、3nm、2nm、1nm一路前行。

自1965年英特爾創(chuàng)始人之一的戈登·摩爾提出摩爾定律以來，半導(dǎo)體領(lǐng)域就一直在遵循著“當(dāng)價格不變時，集成電路上可容納的元器件的數(shù)目，約每隔18個~24個月便會增加一倍，性能也將提升一倍”的規(guī)律前行。

技術(shù)人員一直在研究開發(fā)新的IC制造技術(shù)，以縮小線寬、增大芯片的容量。

EUV光刻機(jī)的出現(xiàn)，就是一個重大突破。它實現(xiàn)了高速，低功耗和高集成的芯片生產(chǎn)工藝，滿足了5G高性能、超帶寬、低時延和海量連接的需求。

圖片來源：臺積電陳平在紫光展銳2020春季線上發(fā)布會演講

這么厲害的EUV，原理是什么？

光刻技術(shù)基本上是一個投影系統(tǒng)，將光線投射并穿透印有電路的光罩，利用光學(xué)原理將圖形打在已涂布感光劑的硅晶片上，進(jìn)行曝光，當(dāng)未曝光的部分被蝕刻移除后，圖樣就會顯露出來。

在光刻技術(shù)中，提升分辨率的途徑主要有三個：一是增加光學(xué)系統(tǒng)數(shù)值孔徑；二是減小曝光光源波長；三是優(yōu)化系統(tǒng)。

EUV相較于DUV，把193nm波長的短波紫外線替換成了13.5nm的“極紫外線”，在光刻精密圖案方面自然更具優(yōu)勢，能夠減少工藝步驟，提升良率。

EUV技術(shù)的究竟難在哪兒？

光源產(chǎn)生難：

193nm紫外線的光子能量為6.4eV（電子伏特，能量單位），EUV的光子能量高達(dá)為91~93eV！

這種能量的光子用一般的方法是射不出來的，激光器或燈泡都不行，它的生成方法光是聽起來就非常變態(tài)，這需要將錫熔化成液態(tài)，然后一滴一滴地滴落，在滴落過程中用激光轟擊錫珠，讓其化為等離子態(tài)，才能釋放“極紫外光”。

這樣的光源用久了就會在里面濺很多錫微粒，必須要定時清潔才行。

圖片來源：Cymer： Extreme Ultraviolet（EUV） Lithography Light Sources

發(fā)光過程難：

EUV不僅能量高，對物質(zhì)的影響也極其強(qiáng)大，它們可以被幾乎任何原子吸收，所以傳播路徑必須是完全的真空。

要想讓EUV聚焦到合適的形狀，只能用這種用6面凹面鏡子組成的系統(tǒng)——EUV/X射線變焦系統(tǒng)（EUV /X-Ray focusing systems）。

有效功率轉(zhuǎn)化率低：

可是就算是鏡子，每一面鏡子都會吸收30%的EUV，整個系統(tǒng)里有4個鏡子用于發(fā)光系統(tǒng)，6個鏡子用于聚焦系統(tǒng)。EUV光罩本身也是一個額外的鏡子，形成了11次反射。

這個過程中，只有大約2％的EUV來到了晶圓上。因為效率低，所以需要的功率也大輻上漲。ArF光源平均的功率為45W，而EUV的平均光源功率為500w！

成本太高：

最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)售價高達(dá)1億歐元一臺，是DUV光刻機(jī)價格2倍多，采購以后還需要多臺747飛機(jī)才能運(yùn)輸整套系統(tǒng)。

此外，EUV光刻機(jī)必須在超潔凈環(huán)境中才能運(yùn)行，一小點(diǎn)灰塵落到光罩上就會帶來嚴(yán)重的良品率問題，并對材料技術(shù)、流程控制、缺陷檢驗等環(huán)節(jié)都提出了更高的要求。

最關(guān)鍵的是，EUV光刻機(jī)還極度耗電，它需要消耗電力把整個環(huán)境都抽成真空（避免灰塵），通過更高的功率也彌補(bǔ)自身能源轉(zhuǎn)換效率低下的問題，設(shè)備運(yùn)行后每小時就需要耗費(fèi)至少150度的電力。

除此之外，次級電子對光刻膠的曝光、光化學(xué)反應(yīng)釋放氣體、EUV對光罩的侵蝕等種種難題都要一一解決。

這就導(dǎo)致很長時間里EUV的產(chǎn)量極低，在之前公開的資料里，EUV的產(chǎn)量只有日均1500片。

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