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鰭式場效應(yīng)晶體管之父

IEEE電氣電子工程師 ? 來源:IEEE電氣電子工程師學(xué)會 ? 作者:Tekla S. Perry ? 2020-08-17 09:36 ? 次閱讀
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那是1995年。芯片技術(shù)一直遵循摩爾定律飛速發(fā)展,摩爾定律指出,由于晶體管的尺寸不斷縮小,芯片上晶體管的數(shù)量大約每兩年就會翻一番。

然而地平線似乎不再無限。的確,這是第一次,整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)都在悄然預(yù)言摩爾定律的終結(jié)。當(dāng)一個(gè)關(guān)鍵晶體管的尺寸從350納米縮小到不足100納米時(shí),這就暗示了黃金時(shí)代將結(jié)束。就連美國政府也憂心忡忡——美國國防部高級研究計(jì)劃局(DARPA)為此拉響了警報(bào),并啟動了一項(xiàng)尋找新芯片技術(shù)的計(jì)劃。 當(dāng)時(shí)就職于加州大學(xué)伯克利分校電氣工程與計(jì)算機(jī)科學(xué)的胡正明教授欣然接受了這一挑戰(zhàn)。他立即想到了一個(gè)方案(實(shí)際上是兩個(gè)解決方案),并在幾天后乘坐飛機(jī)的途中做出設(shè)計(jì)草圖。其中一個(gè)想法是,升高電流流過的通道,使其凸出芯片表面,成為鰭式場效應(yīng)晶體管(FinFET)。該技術(shù)為他贏得了今年的IEEE榮譽(yù)勛章,“在半導(dǎo)體模型開發(fā)和應(yīng)用方面成就卓越,特別是3D結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使摩爾定律又延續(xù)了幾十年?!?/p>

當(dāng)然,F(xiàn)inFET的故事并不是在胡正明在飛機(jī)折疊餐桌上畫草圖的時(shí)候開始的。 事情最早始于中國臺灣,當(dāng)時(shí)的胡正明還是個(gè)充滿好奇心的孩子,他會在爐臺上用海水做實(shí)驗(yàn),或是把鬧鐘拆卸開來又重新組裝上。臨近高中畢業(yè)時(shí),他依然對科學(xué)充滿興趣,尤其是化學(xué)。但他并未選擇化學(xué)專業(yè),而是申請了電氣工程專業(yè)。雖然當(dāng)時(shí)他并不真正了解電氣工程師實(shí)際上是做什么的,但是電氣工程專業(yè)的錄取分?jǐn)?shù)最高,這對他無疑是一個(gè)挑戰(zhàn)。

在大學(xué)的最后一年,胡正明發(fā)現(xiàn)了這個(gè)他后來將要撼動的行業(yè),這要?dú)w功于當(dāng)時(shí)來自美國的客座教授弗蘭克?方(Frank Fang)?!澳鞘?968年,”胡正明回憶道,“他告訴我們半導(dǎo)體將成為未來電視機(jī)的材料,電視機(jī)可以像照片一樣掛在墻上。”

在那個(gè)電子管電視機(jī)很笨重的年代,這句話引起了胡正明的注意。他決定將半導(dǎo)體作為自己未來的研究領(lǐng)域,并申請攻讀美國的研究生學(xué)位。1969年,他來到了伯克利,并在那里加入了一個(gè)研究小組,研究金屬氧化物半導(dǎo)體(MOS)晶體管。 根據(jù)他自己的回憶,由于半導(dǎo)體似乎太過簡單,他很快改變了研究方向,轉(zhuǎn)向研究光電路,在完成集成光學(xué)的博士論文之后去了麻省理工學(xué)院,繼續(xù)從事這一領(lǐng)域的研究。 直到發(fā)生1973年的“石油禁運(yùn)”?!拔矣X得我要做點(diǎn)事情,做一些有意義、重要的事情,而不僅僅是寫論文?!?于是他轉(zhuǎn)而致力于開發(fā)用于地面的低成本太陽能電池——在當(dāng)時(shí),太陽能電池僅用于衛(wèi)星。1976年,他以教授的身份回到伯克利,計(jì)劃進(jìn)行能源領(lǐng)域研究,包括混合動力汽車,這讓他重返半導(dǎo)體領(lǐng)域?!半妱悠囆枰唠妷?、大電流的半導(dǎo)體設(shè)備?!焙鹘忉屨f。

20世紀(jì)80年代初,重返半導(dǎo)體研究領(lǐng)域被證明是件好事。當(dāng)時(shí)政府對能源研究的資助已近枯竭,但舊金山灣區(qū)的許多企業(yè)都支持半導(dǎo)體研究。胡正明認(rèn)為,獲得轉(zhuǎn)讓合作經(jīng)費(fèi)“并不困難”。他開始在距離伯克利不遠(yuǎn)的硅谷投入時(shí)間,受一些企業(yè)的邀請,講授半導(dǎo)體設(shè)備的短期課程。1982年,他整個(gè)學(xué)術(shù)假期都在硅谷中心的圣克拉拉國家半導(dǎo)體公司度過。

“在工業(yè)界的工作對我產(chǎn)生了深遠(yuǎn)的影響?!焙鞲锌?,“在學(xué)術(shù)界,我們只是彼此學(xué)習(xí)什么是重要的,感興趣的事情僅來自讀了一篇別人論文,覺得‘嘿,我可以做得比這更好’。而放眼工業(yè)界,我發(fā)現(xiàn)到處都是有趣的問題?!边@樣的頓悟讓胡正明更加努力地研究晶體管的3D結(jié)構(gòu)。━━━━場效應(yīng)晶體管有4個(gè)部分——1個(gè)源極、1個(gè)漏極、一個(gè)連接這兩者的導(dǎo)電通道和一個(gè)控制沿通道電流的柵極。由于這些器件被做得更小,人們開始注意到晶體管的性能隨著長期使用在改變。這一改變在短期測試中無法顯現(xiàn),企業(yè)也很難預(yù)測。

1983年,胡正明讀到了IBM研究人員發(fā)表的一篇論文,其中就描述了這一挑戰(zhàn)。在美國國家半導(dǎo)體公司工作了一段時(shí)間后,他意識到缺乏長期可靠性可能會給行業(yè)帶來各種問題。如果沒有在基層一線的工作經(jīng)歷,他說:“我就不會知道這個(gè)問題的重要性,也就不會花費(fèi)近10年的時(shí)間來研究它。”

胡正明決定接受這個(gè)挑戰(zhàn),并和一群學(xué)生投入研究,開發(fā)出了熱載流子注入理論,用以預(yù)測MOS的可靠性。這是一個(gè)定量模型,描述設(shè)備在電子遷移時(shí)是如何退化的。隨后,他開始研究另一個(gè)可靠性問題,即氧化物隨時(shí)間分解的方式。隨著制造商將半導(dǎo)體的氧化物層越做越薄,這個(gè)問題也越來越受到關(guān)注。 胡正明告訴我們,這些研究需要他對晶體管內(nèi)部發(fā)生的情況有深入的了解。他的研究成果變成了后來的伯克利可靠性工具(BERT)和晶體管模型(BSIM)。BSIM成為了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)并一直沿用至今,現(xiàn)在胡正明仍在領(lǐng)導(dǎo)著模型定期更新的工作。 胡正明和他的學(xué)生們一直在研究晶體管的基本特性:它是如何工作、如何失效,以及如何隨時(shí)間變化的。直到20世紀(jì)90年代,當(dāng)時(shí),商用芯片還在繼續(xù)沿著摩爾定律預(yù)測的路徑發(fā)展。但是到了20世紀(jì)90年代中期,晶體管平均特征尺寸仍在350納米左右,進(jìn)一步縮小尺寸的前景開始令人擔(dān)憂。據(jù)當(dāng)時(shí)在IBM 研發(fā)部門工作的劉易斯?泰曼(Lewis Terman)回憶道:“當(dāng)時(shí)覺得摩爾定律的終結(jié)就在眼前。” 主要問題是功率。隨著晶體管越來越小,它處于“關(guān)閉”狀態(tài)的漏電卻成為一個(gè)大問題。這種漏電會非常嚴(yán)重,增加甚至主導(dǎo)了芯片功耗。胡正明回憶說:“有些論文開始預(yù)測互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)的摩爾定律將在100納米以下的時(shí)候終結(jié),因?yàn)樵谀骋粫r(shí)刻,每平方厘米的功耗甚至高過了火箭噴管。”胡正明強(qiáng)調(diào):“業(yè)內(nèi)認(rèn)定那場戰(zhàn)役注定失敗?!?但DARPA 并不打算放棄摩爾定律,希望資助有望突破這一障礙的研究,1995年中期,啟動了一項(xiàng)稱為“開啟25納米”計(jì)劃。胡正明表示:“我喜歡25納米的想法,它遠(yuǎn)遠(yuǎn)超出了業(yè)界的想象?!暴ォォォズ髡J(rèn)為根本問題非常清晰——把通道做得非常窄,就可以阻止電子從柵極溜過。迄今為止,解決方案一直包括做薄柵極的氧化層,使柵極可以更好地控制通道,減少電流的泄漏。但胡正明在可靠性方面的研究表明,這種方法也可能接近極限:如果氧化層太薄,電子便會跳過氧化層進(jìn)入硅襯底,形成另一個(gè)泄漏源。 胡正明馬上想到另外兩種解決方法。其中一個(gè)是在晶體管下面的硅中埋入一絕緣層,使電荷難以溜過柵極。這種設(shè)計(jì)后來被稱為全耗盡絕緣體上硅(FDSOI)。另一種方法是將窄通道像鯊魚鰭一樣在基片上方垂直延伸,柵極可以三面環(huán)繞通道,而不是僅在通道上方,從而讓柵極更好地控制電荷的流動。這種結(jié)構(gòu)被稱為FinFET,它另外一個(gè)優(yōu)勢是垂直利用空間,緩解2D平面上的擁塞,從而開啟了3D晶體管時(shí)代。 然而,沒有太多的時(shí)間向DARPA提交方案。他從加州大學(xué)伯克利分校的杰弗里?博科爾(Jeffrey Bokor)教授那里聽到了DARPA的資助計(jì)劃,博科爾教授是在與DARPA的一位項(xiàng)目主管一起沖浪時(shí)獲知這一消息的。胡正明很快會見了博科爾和另一位同事金智杰(Tsu Jae King),并表明團(tuán)隊(duì)將在一周內(nèi)拿出一份方案。在一兩天后前往日本的途中,他畫出了這兩個(gè)設(shè)計(jì)的草圖,在下榻日本酒店后,胡正明將技術(shù)草圖連同說明一起傳真到了伯克利。研究小組提交了這份方案,DARPA隨后撥付了他們長達(dá)4年的研究經(jīng)費(fèi)。 在以前的理論論文中也提及過類似于FinFET的概念。然而,胡正明及其團(tuán)隊(duì)真實(shí)地做出了可生產(chǎn)的器件,并展示了如何設(shè)計(jì)將晶體管縮小至25納米甚至更小?!捌渌x過論文的人不認(rèn)為這是一個(gè)解決方案,因?yàn)橹谱鞯碾y度非常大,也許可行,也許行不通。甚至就連論文作者也不再深究。但我的看法不同,我們說,我們要做這件事,不是為了多寫一篇論文,或多得一筆撥款,而是我們想幫助這個(gè)行業(yè)。我們覺得必須要延續(xù)摩爾定律?!?“作為一名技術(shù)專家,”胡正明繼續(xù)說,“我們有責(zé)任確保這件事不會停止,因?yàn)橐坏┩V?,我們就失去了最大的希望,沒有更大的能力來解決世界難題?!?“胡正明團(tuán)隊(duì)沉著自信地開發(fā)出FinFET,源于他教授學(xué)生研究器件的方法?!彼^去的學(xué)生、現(xiàn)在伊利諾伊大學(xué)香檳分校的副教授愛麗斯?羅森鮑姆(Elyse Rosenbaum)說道,“他強(qiáng)調(diào)宏觀、定性的理解。在研究半導(dǎo)體器件時(shí),有人把注意力集中在建立模型上,然后對3D網(wǎng)格中的所有的點(diǎn)進(jìn)行數(shù)值求解。他教我們退一步,嘗試想象電場在器件的分布、潛在障礙的位置,當(dāng)我們改變一個(gè)特定的維度時(shí),電流會如何變化?!?/p>

胡正明認(rèn)為對半導(dǎo)體器件特性的可視化是相當(dāng)重要的,羅森鮑姆回憶起有一次,為了讓學(xué)生弄懂一個(gè)過程,他用自己孩子的培樂多玩具搭建了一個(gè)MOS晶體管特性的模型。

“這些東西看起來像是突如其來的發(fā)明,”他過去的學(xué)生、現(xiàn)任恩智浦半導(dǎo)體公司創(chuàng)新和先進(jìn)技術(shù)部高級副總裁法里?阿薩達(dá)拉吉(Fari Assaderaghi)感嘆道,“但是他的團(tuán)隊(duì)一直在研究理想設(shè)備的基本概念,從物理學(xué)的基本原理開始,由此構(gòu)建這種結(jié)構(gòu)?!暴ォォォ?000年,在為期4年的資助結(jié)束時(shí),胡正明及其團(tuán)隊(duì)研制出可工作的器件并發(fā)表了他們的研究成果,立即引起了業(yè)界廣泛的關(guān)注。然而,又經(jīng)過了漫長的10年,2011年英特爾公司才首次將FinFET的芯片投入生產(chǎn)線。為什么會這么久? “它還沒有被打破,”胡正明解釋道,他指的是使半導(dǎo)體電路越來越緊湊的行業(yè)生產(chǎn)能力,“人們想象它很快會被打破,但你永遠(yuǎn)無法修復(fù)還沒壞的東西?!?事實(shí)證明,DARPA的項(xiàng)目經(jīng)理很有先見之明,他們稱該項(xiàng)目為“開啟25納米”,而當(dāng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展到亞25納米幾何尺寸時(shí),F(xiàn)inFET便開始發(fā)揮作用了。 與此同時(shí),F(xiàn)DSOI技術(shù)也在不斷進(jìn)步,今天還在行業(yè)中應(yīng)用,尤其是光學(xué)和射頻設(shè)備。而FinFET在處理器行業(yè)中仍占主導(dǎo)地位。胡正明表示,他從不提倡用一種方法替代另一種方法。 在FinFET沉寂的幾年里,胡正明從伯克利離職3年,擔(dān)任臺灣積體電路制造股份有限公司(TSMC)的首席技術(shù)官。他認(rèn)為這是一個(gè)回報(bào)他啟蒙教育的機(jī)會。2004年他重新回到伯克利,繼續(xù)從事教學(xué)工作,研究新的節(jié)能半導(dǎo)體器件,全力支持BSIM。2009年,胡正明不再教授常規(guī)課程,但仍然以名譽(yù)退休教授的身份和研究生一起工作。

自從胡正明回到伯克利后,F(xiàn)inFET技術(shù)席卷了整個(gè)行業(yè)。盡管人們依舊還在預(yù)言摩爾定律的終結(jié),但它并未止步于25納米。

“它的發(fā)展將逐漸放緩,但100年內(nèi)我們很難找到MOS半導(dǎo)體的替代品?!焙髡f。但這并沒有讓他感到悲觀?!案倪M(jìn)電路密度、功耗和速度的方法有很多,我們可以期待半導(dǎo)體行業(yè)不斷地給人們提供越來越多有用、方便和便攜的設(shè)備。我們要有更多的創(chuàng)造力和足夠的信心?!?

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原文標(biāo)題:鰭式場效應(yīng)晶體管之父

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    N通道和P通道<b class='flag-5'>場效應(yīng)晶體管</b>(FET)之間的區(qū)別是什么?