憑借豐富的iPDK 庫，新思科技定制設計平臺可適于各種不同的先進和傳統(tǒng)工藝技術

· 完整的iPDK 可讓用戶解鎖高級功能，從而加速和拓寬開發(fā)者對新工藝節(jié)點的使用，促進設計復用并實現(xiàn)進一步創(chuàng)新

· 三星認證了新思科技定制設計參考流程能夠帶來高效設計和驗證最佳實踐

新思科技近日宣布與三星晶圓廠合作開發(fā)、驗證了30 多款全新的可互操作工藝設計套件(iPDK) ，并可支持新思科技定制設計平臺。這些iPDK 廣泛覆蓋了三星的先進和傳統(tǒng)節(jié)點組合。新思科技定制設計平臺是速度和效率更佳卓越的設計和驗證解決方案，可使版圖速度提高5 倍、設計收斂速度提高2 倍，從而為使用各種三星工藝技術的客戶提供最高生產(chǎn)效率。

新思科技與三星的合作范圍包括一整套三星iPDK組合、方法學和設計流程的開發(fā)和驗證。新思科技還與三星合作，基于新思科技定制設計平臺，利用Custom Compiler?設計和版圖環(huán)境，實施了一套全面的iPDK 開發(fā)和驗證解決方案。所利用的環(huán)境包括HSPICE?電路仿真器、FineSim?電路仿真器、CustomSim?FastSPICE 電路仿真器、Custom WaveView?波形顯示、StarRC?參數(shù)提取以及IC Validator 物理驗證。

三星晶圓廠設計實現(xiàn)團隊副總裁Jongwook Kye 表示：“我們致力于滿足客戶在技術和復雜定制設計方面對于深厚專業(yè)知識的需求。我們發(fā)現(xiàn)，市場對于新思科技定制設計平臺及其設計和驗證解決方案的需求越來越高。通過與新思科技這一全面定制設計和創(chuàng)新EDA 解決方案的行業(yè)領導者緊密合作，我們?yōu)樾袠I(yè)樹立了基于三星工藝技術的優(yōu)化流程和iPDK 新標桿。對于新思科技的差異化設計和驗證流程與解決方案，三星認證其有助于提高開發(fā)者在不同節(jié)點的效率?！?/p>

三星和新思科技的iPDK 庫多達30多種，涵蓋先進全環(huán)繞柵極或FinFET 節(jié)點（包括3nm 到14nm）、以及65nm 到130nm 的傳統(tǒng)節(jié)點，從而允許不同節(jié)點的開發(fā)者都可以使用高級功能，并可通過最新的新思科技定制實施解決方案套件，利用模擬和混合信號集成電路和IP。每一款iPDK 均包含文檔和設計基礎架構元素，例如：用于不同器件的仿真模型、圖層和技術文件、用于物理和電氣設計規(guī)則驗證的設計規(guī)則檢查（DRC）和版圖與電路圖運行設置文件（LVS）、寄生參數(shù)提取設置文件、電路符號庫和參數(shù)化器件、以及用于幫助客戶達成最佳芯片的功率和性能優(yōu)化。

新思科技工程副總裁Aveek Sarkar 表示：“如今的IP 和模擬設計領域面臨的挑戰(zhàn)倍增，如復雜的版圖規(guī)則、嚴格的仿真收斂要求以及緊迫的設計時間表。為了提高生產(chǎn)效率，開發(fā)者需要一套集成簽核技術和仿真工作流程的強大定制設計平臺，而非一套點工具。通過與三星等行業(yè)領導者深入合作，我們正在推動方法學、參考流程和iPDK 方面的重大創(chuàng)新。我們期待與三星繼續(xù)保持合作，共同追求卓越，為快速增長的市場和客戶生態(tài)系統(tǒng)提供進一步的技術創(chuàng)新?！?/p>

新思科技應用工程團隊總監(jiān)Ravi Rao 于10 月28 日出席了三星先進晶圓廠生態(tài)系統(tǒng) (SAFE) 論壇，詳細介紹了高效設計和驗證所需的最佳方法，以及利用為三星工藝技術而優(yōu)化的豐富強大的iPDK 支持、設計流程方法和實現(xiàn)成果。
編輯：hfy