從全球電子產(chǎn)業(yè)遷移狀況，看上游標(biāo)準(zhǔn)物料掩膜版的發(fā)展與需求

掩膜版（Photomask），又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過(guò)程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。掩膜版用于下游電子元器件制造業(yè)批量生產(chǎn)，是下游行業(yè)生產(chǎn)流程銜接的關(guān)鍵部分，是下游產(chǎn)品精度和質(zhì)量的決定因素之一。

產(chǎn)品主要應(yīng)用于平板顯示、半導(dǎo)體芯片、觸控、電路板等行業(yè)，是下游行業(yè)產(chǎn)品制程中的關(guān)鍵工具。中國(guó)市場(chǎng)上客戶包括面板領(lǐng)域的京東方、天馬、華星光電、群創(chuàng)光電、瀚宇彩晶、龍騰光電、信利、中電熊貓、維信諾等；在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域，發(fā)行人已開發(fā)中芯國(guó)際、英特爾、艾克爾、頎邦科技、長(zhǎng)電科技、士蘭微等。

工作原理：

掩膜版的功能類似于傳統(tǒng)照相機(jī)的“底片”。生產(chǎn)加工時(shí)根據(jù)客戶所需要的圖形，用光刻機(jī)在原材料上光刻出相應(yīng)的圖形，將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版產(chǎn)成品。

掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細(xì)光掩膜圖形的感光空白板。通過(guò)光刻制版工藝，將微米級(jí)和納米級(jí)的精細(xì)圖案刻制于掩膜版基板上制作成掩膜版。掩膜版對(duì)下游行業(yè)生產(chǎn)線的作用主要體現(xiàn)為利用掩膜版上已設(shè)計(jì)好的圖案，通過(guò)透光與非透光的方式進(jìn)行圖像（電路圖形）復(fù)制，從而實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。

掩膜版產(chǎn)品根據(jù)基板材質(zhì)的不同主要可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）。

行業(yè)應(yīng)用：

生產(chǎn)工藝流程：

生產(chǎn)制造的核心工序包括光刻、清洗、顯影、蝕刻、檢查、修補(bǔ)、貼

膜等環(huán)節(jié)，其技術(shù)水平主要體現(xiàn)在：圖形設(shè)計(jì)處理、光刻工序工藝、顯影蝕刻工序工藝、測(cè)量和檢查分析技術(shù)、缺陷控制與修補(bǔ)、潔凈室建設(shè)等方面。

（1）圖形設(shè)計(jì)：收到客戶圖形后，通過(guò)專業(yè)設(shè)計(jì)軟件對(duì)客戶的圖形做二次編輯處理與檢查。

（2）圖形轉(zhuǎn)換：將客戶要求的版圖設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)分層，運(yùn)算。再按照相應(yīng)的工藝參數(shù)將文件格式轉(zhuǎn)換為光刻設(shè)備專用的數(shù)據(jù)形式。

（3）圖形光刻：通過(guò)光刻機(jī)進(jìn)行激光光束直寫完成客戶圖形曝光。掩膜版制造都是采用正性光刻膠，通過(guò)激光作用使需要曝光區(qū)域的光刻膠內(nèi)部發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)，從而產(chǎn)生性能改變。

（4）顯影：將曝光完成后的掩膜版顯影，以便進(jìn)行蝕刻。在顯影液的作用下，經(jīng)過(guò)激光曝光區(qū)域的光刻膠會(huì)溶解，而未曝光區(qū)域則會(huì)保留并繼續(xù)保護(hù)鉻膜。

（5）蝕刻：對(duì)鉻層進(jìn)行蝕刻，保留圖形。在蝕刻液的作用下，沒(méi)有光刻膠保護(hù)的區(qū)域會(huì)被腐蝕溶解，而有光刻膠保護(hù)的區(qū)域的鉻膜則會(huì)保留。

（6）脫膜：光刻膠的保護(hù)功能已經(jīng)完成，脫膜工序通過(guò)脫膜液去除多余光刻膠。

（7）清洗：將掩膜版正、反面的污染物清洗干凈，為缺陷檢驗(yàn)做準(zhǔn)備。

（8）尺寸測(cè)量：按照品質(zhì)協(xié)議對(duì)掩膜版關(guān)鍵尺寸（CD 精度）和圖形位置

（TP 精度）進(jìn)行測(cè)量，判定尺寸的準(zhǔn)確程度。

（9）缺陷檢查：對(duì)照客戶技術(shù)/品質(zhì)指標(biāo)檢測(cè)掩膜版制版過(guò)程產(chǎn)生的缺陷并記錄坐標(biāo)及相關(guān)信息。掩膜版的基本檢查主要有：基板、名稱、版別、圖形、排列、膜層關(guān)系、傷痕、圖形邊緣、微小尺寸、絕對(duì)尺寸、缺陷檢查等。

（10）缺陷修補(bǔ)：對(duì)檢驗(yàn)發(fā)現(xiàn)缺陷進(jìn)行修補(bǔ)。修補(bǔ)包括對(duì)丟失的細(xì)微鉻膜進(jìn)行 LCVD 沉積補(bǔ)正以及對(duì)多余的鉻膜進(jìn)行激光切除等。

（11）清洗：再次清洗為貼合掩膜版 Pellicle 做準(zhǔn)備。

（12）貼膜：將 Pellicle 貼合在掩膜版之上，降低下游客戶制造過(guò)程中灰塵造成的不良率。

（13）檢查：對(duì)掩膜版作最后檢測(cè)工作，以確保掩膜版符合品質(zhì)指標(biāo)。

（14）出貨：對(duì)掩膜版進(jìn)行包裝，然后發(fā)貨。

工藝難點(diǎn)：

（1）CAM 圖形處理技術(shù)

CAM 圖形圖層自動(dòng)轉(zhuǎn)換軟件十分關(guān)鍵，要能解決文字轉(zhuǎn)換、多義線轉(zhuǎn)換、多義線聚合、自動(dòng)分層、短路/斷路檢查等難題。

（2）光刻技術(shù)

光刻工序是決定掩膜版質(zhì)量的最重要的環(huán)節(jié)，光刻機(jī)是光刻技術(shù)的集中載體。生產(chǎn)過(guò)程中特別要注意相關(guān)精細(xì)圖形 bias 補(bǔ)正、斜線補(bǔ)正、MURA 控制、PPO、坐標(biāo)變形控制、平整度補(bǔ)償、二次對(duì)位、精密坐標(biāo)校正等技術(shù)與經(jīng)驗(yàn)積累。

（3）顯影蝕刻技術(shù)

CD 精度是掩膜版圖形中特征線條制作寬度與設(shè)計(jì)值的偏差，顯影/蝕刻技術(shù)能力主要體現(xiàn)在 CD 精度控制水平，是掩膜版廠家的核心技術(shù)之一。主要體現(xiàn)在工藝參數(shù)和調(diào)試公式上。行業(yè)目前 CD 控制精度在 800×960mm 面積范圍內(nèi)應(yīng)達(dá)到 80nm 控制指標(biāo)。

（4）CD 測(cè)量技術(shù)

CD（Critical Dimension）測(cè)量是指掩膜版生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)設(shè)計(jì)圖紙的特征尺寸進(jìn)行測(cè)量，平板顯示用 CD 測(cè)量精度要求重復(fù)性和再現(xiàn)性均小于 10nm。

（5）TP 測(cè)量技術(shù)

當(dāng)前全球掩膜版最好的TP測(cè)量設(shè)備是瑞典Mycronic公司生產(chǎn)的MMS系列

設(shè)備。

（6）AOI 檢查分析技術(shù)

產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節(jié)不可避免的產(chǎn)生缺陷，降低缺陷密度和提高 AOI（Auto Optic Inspection）檢查效率是掩膜版企業(yè)提升產(chǎn)品品質(zhì)和交貨速度的重要環(huán)節(jié)。

（7）LCVD 修補(bǔ)技術(shù)

LCVD（Laser Chemical Vapor Deposition）是在常溫常壓下通過(guò)激光作用下的微細(xì)面積的金屬薄膜化學(xué)沉積技術(shù)。

（8）大面積掩膜版貼膜技術(shù)

貼膜機(jī)是指掩膜版制造的最后一個(gè)環(huán)節(jié)需要貼 Pellicle 工序所使用的設(shè)備。

（9）無(wú)塵凈化技術(shù)

掩膜版生產(chǎn)過(guò)程需要建設(shè)專用的潔凈室，將一定空間范圍內(nèi)的空氣中的微粒、有機(jī)物、金屬離子、微生物等污染物排除，并將室內(nèi)的溫度、濕度、潔凈度、壓力、氣流速度與氣流流向、噪音振動(dòng)及照明、靜電控制在某一需求范圍內(nèi)。

潔凈室等級(jí)整體要達(dá)到十級(jí)標(biāo)準(zhǔn)（ISO 14644 Class4），局部要達(dá)到

一級(jí)標(biāo)準(zhǔn)（ISO 14644 Class 3）的超高等級(jí)潔凈室。溫度波動(dòng)15 分鐘內(nèi)溫度變化小于 0.1℃。

（10）防微震技術(shù)

防微震是高精細(xì)化微電子加工的一個(gè)重要的基礎(chǔ)建設(shè)參數(shù)。好的防微震條件，可以隔離、大幅度降低和衰減外部各類震動(dòng)波，減少周邊環(huán)境對(duì)精密加工的影響。

由于掩膜版制造過(guò)程中具有單工序工藝周期長(zhǎng)、精度要求高的技術(shù)特點(diǎn)，對(duì)設(shè)備基礎(chǔ)平臺(tái)的防微震能力要求很高。

高等級(jí)防微震平臺(tái)，實(shí)際測(cè)量已達(dá)到 VC-D 級(jí)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（納米生產(chǎn)技術(shù)要求），保障光刻機(jī)、檢查機(jī)、修補(bǔ)機(jī)、TP 測(cè)量機(jī)、CD 測(cè)量機(jī)等設(shè)備處于精準(zhǔn)的運(yùn)行狀態(tài)。

顯示產(chǎn)品代際標(biāo)準(zhǔn)：

行業(yè)主要基板供應(yīng)商：

新技術(shù)應(yīng)用：

隨著下游行業(yè)的技術(shù)更新升級(jí)，掩膜版行業(yè)也涌現(xiàn)出諸多新技術(shù)，用以支持更高端產(chǎn)品生產(chǎn)，例如 AMOLED/LTPS 用掩膜版生產(chǎn)技術(shù)、FMM 用掩膜版生產(chǎn)技術(shù)、3D 厚膠生產(chǎn)技術(shù)、4K/8K 高分辨率顯示屏掩膜版生產(chǎn)技術(shù)以及平板顯示用 HTM、PSM 等先進(jìn)的掩膜版工藝技術(shù)。

根據(jù) IHS 預(yù)測(cè)，未來(lái)顯示屏的顯示精度將從 450PPI（Pixel Per Inch，即每英寸像素）逐步提高到 650PPI 以上，對(duì)平板顯示掩膜版的半導(dǎo)體層、光刻分辨率、最小過(guò)孔、CD 均勻性、套合精度、缺陷大小、潔凈度均提出了更高的技術(shù)要求。

所屬行業(yè)管理：

根據(jù)證監(jiān)會(huì)頒布的《上市公司行業(yè)分類指引》（2012 年修訂），掩膜版行業(yè)屬于“計(jì)算機(jī)、通信和其他電子設(shè)備制造業(yè)（C39）”。根據(jù)中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局和中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)發(fā)布的《國(guó)民經(jīng)濟(jì)行業(yè)分類與代碼》（GB/T4754-2017），掩膜版行業(yè)屬于“C39計(jì)算機(jī)、通信和其他電子設(shè)備制造業(yè)”，細(xì)分行業(yè)為“C3976 光電子器件制造”。

掩膜版行業(yè)實(shí)行國(guó)家行政管理及行業(yè)協(xié)會(huì)自律管理的體制， 行政管理部門為工業(yè)和信息化部。

環(huán)評(píng)管理：

根據(jù)《中華人民共和國(guó)環(huán)境保護(hù)法》、《排污許可管理辦法（試行）》（環(huán)境保護(hù)部令第 48 號(hào)）相關(guān)規(guī)定，納入固定污染源排污許可分類管理名錄的企業(yè)事業(yè)單位和其他生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)者應(yīng)當(dāng)按照規(guī)定的時(shí)限申請(qǐng)并取得排污許可證。

生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)中涉及的主要環(huán)境污染物有：

1、廢液：主要包括脫膜液、顯影液、蝕刻液、硫酸清洗液等。處理資質(zhì)需擁有省級(jí)危險(xiǎn)廢物經(jīng)營(yíng)許可證、國(guó)家環(huán)境保護(hù)設(shè)施運(yùn)營(yíng)資質(zhì)證書、市危險(xiǎn)廢物經(jīng)營(yíng)技術(shù)資格證書、市環(huán)境保護(hù)工程技術(shù)資格證書、市道路危險(xiǎn)貨物運(yùn)輸許可證等多項(xiàng)危險(xiǎn)廢物經(jīng)營(yíng)相關(guān)資質(zhì)，具備處理公司污染物合法有效的資質(zhì)。

2、廢水：包括含鉻廢水和酸堿廢水。含鉻廢水采用微電解、試劑氧化、PH調(diào)整和加藥反應(yīng)沉淀等工藝處理，酸堿廢水采用調(diào)勻池 PH 調(diào)整、加藥反應(yīng)沉淀等工藝處理。處理達(dá)標(biāo)的廢水排入市政管道，沉淀物全部移交至市政府指定有資質(zhì)環(huán)保科技公司處理。建設(shè)污水在線檢測(cè)系統(tǒng)，與市環(huán)境監(jiān)測(cè)中心實(shí)時(shí)在線連通，每天 24 小時(shí)對(duì)公司污水排放進(jìn)行監(jiān)控。

3、固體廢棄物：包含無(wú)塵布、手套、污泥、燈管、廢玻璃、樹脂邊角料、膠桶等，固體廢棄物交由市指定有資質(zhì)環(huán)?？萍脊咎幚怼?/p>

4、廢氣：主要為酸堿廢氣，分為堿排和酸排兩種，采用噴淋水洗過(guò)濾的方法處理后排放。

5、噪聲：主要為機(jī)器設(shè)備運(yùn)行產(chǎn)生，通過(guò)加裝隔音墻，采用低噪聲的

設(shè)備（如冷卻塔、冰水機(jī)等）等方式，降低噪音對(duì)員工及環(huán)境的影響。

行業(yè)主要企業(yè)：

掩膜版的主要原材料為掩膜版基板。同時(shí)，隨著掩膜版行業(yè)下游客戶對(duì)其最終產(chǎn)品的品質(zhì)要求不斷提高，促使掩膜版企業(yè)不斷追求產(chǎn)品品質(zhì)上的突破，而掩膜版基板的質(zhì)量，對(duì)掩膜版產(chǎn)品最終品質(zhì)具有重大影響。

因此，從降低原材料采購(gòu)成本和控制終端產(chǎn)品質(zhì)量出發(fā)，掩膜版行業(yè)中主產(chǎn)廠家陸續(xù)向上游行業(yè)延伸，部分企業(yè)已經(jīng)具備了研磨、拋光、鍍鉻、涂膠等掩膜版基板全產(chǎn)業(yè)鏈的生產(chǎn)能力，這不僅可以有效降低原材料的采購(gòu)成本，而且能夠有效提升掩膜版產(chǎn)品質(zhì)量。未來(lái)掩膜版行業(yè)內(nèi)具有一定實(shí)力的企業(yè)，將逐步向上游產(chǎn)業(yè)鏈拓展。

下表為平板顯示掩膜版行業(yè)中主要企業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈基本情況：

（1）SKE

SKE 是 2001 年由日本 SHASHIN KAGAKU 公司電子部剝離而成，主要生產(chǎn)平板顯示掩膜版，是全球第一家生產(chǎn) 10 代 TFT-LCD 掩膜版的廠商，生產(chǎn)基地在日本、中國(guó)臺(tái)灣等地。

（2）HOYA

HOYA 成立于 1941 年，主要產(chǎn)品有光學(xué)玻璃、光學(xué)鏡片、存儲(chǔ)光盤、印刷電路板、激光醫(yī)療器械、鏡架、人造晶體、助聽(tīng)器、隱形眼鏡、水晶玻璃器皿、掩膜版（半導(dǎo)體和平板顯示用掩膜版）等，生產(chǎn)基地在日本、韓國(guó)、中國(guó)臺(tái)灣等地。

（3）LG-IT

LG-IT 是 LG 集團(tuán)旗下的子公司，其業(yè)務(wù)涉及通訊、半導(dǎo)體、汽車電子、印刷電路板、顯示等，平板顯示掩膜版是 LG Innotek 眾多業(yè)務(wù)中的一部分，生產(chǎn)基地在韓國(guó)。

（4）福尼克斯

福尼克斯為半導(dǎo)體和微電子行業(yè)提供光掩膜設(shè)計(jì)、研發(fā)和生產(chǎn)服務(wù)，于 1987年在納斯達(dá)克上市，主要在北美、英國(guó)、德國(guó)、日本、中國(guó)臺(tái)灣、韓國(guó)（PKL）、新加坡、廈門都設(shè)有制造或銷售中心，主要生產(chǎn)半導(dǎo)體和平板顯示用掩膜版。

（5）DNP

DNP 成立于 1876 年，總部位于東京，生產(chǎn)基地在日本、中國(guó)臺(tái)灣、廈門等，所生產(chǎn)的平板顯示用掩膜版主要自用，半導(dǎo)體用掩膜版主要對(duì)外銷售。

（6）Toppan

Toppan 成立于 1900 年，主要生產(chǎn)半導(dǎo)體和平板顯示用掩膜版，生產(chǎn)基地在日本、中國(guó)臺(tái)灣、上海等。

（7）臺(tái)灣光罩

臺(tái)灣光罩為掩膜版生產(chǎn)公司，半導(dǎo)體掩膜版為其主要產(chǎn)品，生產(chǎn)基地在中國(guó)臺(tái)灣。

（8）路維光電

路維光電主要從事平板顯示、半導(dǎo)體 IC 封裝、TP、LED 和 PCB 等各類掩膜產(chǎn)品的生產(chǎn)制作銷售

（9）清溢光電

清溢光電主要從事研究設(shè)計(jì)、生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)新型顯示器件(平板顯示器及顯示屏)、新型光掩膜版材料、LCD輔助設(shè)計(jì)軟件開發(fā)和銷售自主開發(fā)的軟件產(chǎn)品。

行業(yè)機(jī)遇：

掩膜版下游行業(yè)平板顯示行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)、觸控行業(yè)、電路板行業(yè)中的柔性電路板行業(yè)正處于快速發(fā)展期，行業(yè)發(fā)展前景廣闊，將直接帶動(dòng)中國(guó)大陸掩膜版市場(chǎng)需求的快速上升。掩膜版行業(yè)作為國(guó)家戰(zhàn)略支持產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵配套產(chǎn)業(yè)之一，面臨著巨大的發(fā)展空間。

① 國(guó)家產(chǎn)業(yè)政策支持 《關(guān)于印發(fā) 2014-2016 年新型顯示產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展行動(dòng)計(jì)劃的通知》、《“十三五”國(guó)家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃》、《擴(kuò)大和升級(jí)信息消費(fèi)三年行動(dòng)計(jì)劃（2018-2020 年）》、《粵港澳大灣區(qū)發(fā)展規(guī)劃綱要》的陸續(xù)出臺(tái)，為電子元器件行業(yè)提供了有利的政策支持，平板顯示和半導(dǎo)體等行業(yè)上升到國(guó)家戰(zhàn)略發(fā)展的高度。

掩膜版行業(yè)作為電子元器件的上游行業(yè)，屬于國(guó)家發(fā)展戰(zhàn)略的重要環(huán)節(jié)之一，受國(guó)家產(chǎn)業(yè)政策支持，這為掩膜版行業(yè)提供了良好的發(fā)展機(jī)遇。

②下游行業(yè)發(fā)展前景良好 隨著電子信息技術(shù)的日新月異，5G 技術(shù)和人工智能帶動(dòng)下游終端電子產(chǎn)品的更新?lián)Q代速度越來(lái)越快，以平板電視、筆記本電腦、數(shù)碼相機(jī)、智能手機(jī)等產(chǎn)品為主的消費(fèi)類電子產(chǎn)品產(chǎn)銷量持續(xù)增長(zhǎng)，為平板顯示、半導(dǎo)體芯片、觸控、電路板等電子元器件相關(guān)行業(yè)帶來(lái)巨大的市場(chǎng)空間，間接帶動(dòng)了掩膜版行業(yè)的發(fā)展。

同時(shí)，電子元器件制造商為了滿足其下游產(chǎn)品的多功能、小型化、便攜性等需求，不斷加大技術(shù)投入，開發(fā)新材料、新技術(shù)以及研發(fā)新產(chǎn)品，這也為掩膜版行業(yè)的發(fā)展帶來(lái)了更多市場(chǎng)需求。

③下游產(chǎn)業(yè)陸續(xù)向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移，進(jìn)口替代迎來(lái)巨大發(fā)展機(jī)遇 國(guó)際市場(chǎng)上，掩膜版市場(chǎng)份額被日韓等國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手占據(jù)，中國(guó)大陸企業(yè)僅能占據(jù)較小的市場(chǎng)份額，競(jìng)爭(zhēng)力受到一定限制。

隨著全球平板顯示產(chǎn)業(yè)、觸控產(chǎn)業(yè)、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)和電路板產(chǎn)業(yè)向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移升級(jí)，中國(guó)大陸的電子元器件行業(yè)發(fā)展迅速，這為中國(guó)大陸掩膜版企業(yè)提供了良好發(fā)展機(jī)遇。特別是掩膜版行業(yè)作為國(guó)家戰(zhàn)略支持行業(yè)必不可少的配套產(chǎn)業(yè)，國(guó)家政策對(duì)國(guó)產(chǎn)化率提出了明確要求，國(guó)內(nèi)企業(yè)進(jìn)口替代迎來(lái)巨大發(fā)展機(jī)遇。

行業(yè)發(fā)展空間：

根據(jù)知名機(jī)構(gòu) IHS 統(tǒng)計(jì)，2018 年度全球各大掩膜版廠商平板顯示掩膜版的銷售金額情況如下表所示：

1）平板顯示市場(chǎng)

根據(jù) IHS 預(yù)測(cè)，2016 年-2025 年全球新型顯示面板需求面積的復(fù)合年增長(zhǎng)率（CAGR）預(yù)計(jì)將達(dá) 4%，到 2025 年增長(zhǎng)至 2.66 億平方米（如圖）。

根據(jù) IHS 調(diào)研統(tǒng)計(jì)，截至 2018 年 12 月，中國(guó)大陸已投產(chǎn)的 TFT-LCD 產(chǎn)線共 90 條、AMOLED 產(chǎn)線共 11 條。未來(lái)，中國(guó)大陸面板廠商將加速高世代或AMOLED 產(chǎn)線的投產(chǎn)。

根據(jù) IHS 統(tǒng)計(jì)，2019 年至 2021 年，中國(guó)大陸已規(guī)劃投產(chǎn)的 TFT-LCD 產(chǎn)線為 23 條，其中高世代線為 15 條，占比 65.22%；2019 年至2023 年中國(guó)大陸已規(guī)劃投產(chǎn)的 AMOLED 產(chǎn)線為 21 條，其中 LTPS 線為 17 條，占比 80.95%。中國(guó)大陸平板顯示行業(yè)對(duì)掩膜版產(chǎn)品尤其是高世代、高精度掩膜版產(chǎn)品的需求將持續(xù)增長(zhǎng)。

根據(jù) IHS 統(tǒng)計(jì)測(cè)算，中國(guó)大陸平板顯示行業(yè)掩膜版需求量占全球比重，從 2011 年的 5%上升到 2017年的 32%。未來(lái)隨著相關(guān)產(chǎn)業(yè)進(jìn)一步向國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)移，國(guó)內(nèi)平板顯示行業(yè)掩膜版的需求量將持續(xù)上升，預(yù)計(jì)到 2023 年，中國(guó)大陸平板顯示行業(yè)掩膜版需求量全球占比將達(dá)到 50.64%。

2）半導(dǎo)體芯片市場(chǎng)

根據(jù)世界半導(dǎo)體貿(mào)易統(tǒng)計(jì)協(xié)會(huì)（WSTS）發(fā)布的數(shù)據(jù)，2018 年全球半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)保持增長(zhǎng)勢(shì)頭，市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到 4,779.40 億美元，同比增長(zhǎng) 15.90%，其中亞太地區(qū)仍為全球最大的半導(dǎo)體芯片市場(chǎng)；2018 年中國(guó)半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)規(guī)模6,574.40 億元，同比增長(zhǎng) 21.50%。

其中，設(shè)計(jì)業(yè)銷售額為 2,502.70 億元，同比增長(zhǎng) 20.70%；芯片制造受到中國(guó)大陸芯片生產(chǎn)線滿產(chǎn)以及擴(kuò)產(chǎn)的帶動(dòng)，2018 年銷售額 1,836.20 億元，同比增長(zhǎng) 26.80%；封測(cè)業(yè)銷售額為 2,235.50 億元，同比增長(zhǎng) 18.30%。

3）電路板市場(chǎng)

根據(jù) Prismark 預(yù)測(cè)，未來(lái)幾年全球 PCB 行業(yè)產(chǎn)值將持續(xù)增長(zhǎng)，到 2022 年全球 PCB 行業(yè)產(chǎn)值將達(dá)到 688.10 億美元。

根據(jù) Prismark 預(yù)測(cè)，2016 年至 2021 年亞洲將繼續(xù)主導(dǎo)全球 PCB 市場(chǎng)的發(fā)展，而中國(guó)位居亞洲市場(chǎng)不可動(dòng)搖的中心地位，中國(guó)大陸 PCB 行業(yè)將保持 3.7% 的復(fù)合增長(zhǎng)率，預(yù)計(jì) 2022 年行業(yè)總產(chǎn)值將達(dá)到 356.86 億美元；中國(guó) PCB 產(chǎn)業(yè)各細(xì)分產(chǎn)品產(chǎn)值增速均高于全球平均水平，尤其在高多層板、HDI 板、撓性板（柔性電路板）和封裝基板等各類高技術(shù)含量細(xì)分 PCB 領(lǐng)域，產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移趨勢(shì)明顯。

目前全球生產(chǎn)柔性電路板的知名企業(yè)主要有日本旗勝（Nippon ektron）、

鵬鼎控股、住友電工（Sumitomo Electric）、日本電工（Nitto）、藤倉(cāng)（FUJIKURA）、維訊（M-FLEX）和嘉聯(lián)益（CAREER）等。近年來(lái)，日本、韓國(guó)和中國(guó)臺(tái)灣面臨生產(chǎn)成本持續(xù)攀升的問(wèn)題，電路板制造商陸續(xù)在中國(guó)大陸投資設(shè)廠，中國(guó)作為電路板產(chǎn)業(yè)主要承接國(guó)，將在產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移浪潮中受益。

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