據(jù)韓國媒體 BusinessKorea 上周報(bào)道，韓國本土企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展。但并沒有提到是哪一家企業(yè)，合理推測(cè)應(yīng)指代韓國整個(gè)半導(dǎo)體光刻產(chǎn)業(yè)。

韓國知識(shí)產(chǎn)權(quán)局（KIPO）發(fā)布的《過去10年（2011-2020年）專利申請(qǐng)報(bào)告》顯示，2014年，向韓國知識(shí)產(chǎn)權(quán)局（KIPO）提交的與EUV光刻相關(guān)的專利申請(qǐng)數(shù)量達(dá)到88件的峰值，2018年達(dá)到55件，2019年達(dá)到50件。

特別是，韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國公司的差距。2019年，韓國本土提出的專利申請(qǐng)數(shù)量為40件，超過了國外企業(yè)的10件。這是韓國提交的專利申請(qǐng)首次超過國外。2020年，韓國提交的申請(qǐng)數(shù)量也是國外的兩倍多。

過去10年，包括三星電子在內(nèi)的全球企業(yè)進(jìn)行了密集的研發(fā)，以確保技術(shù)領(lǐng)先地位。最近，代工公司開始使用5nm EUV光刻技術(shù)來生產(chǎn)智能手機(jī)的應(yīng)用處理器。

從公司來看，全球六大公司的專利申請(qǐng)數(shù)占了總數(shù)的59%，卡爾蔡司（德國）18%，三星電子（韓國）15%，ASML（荷蘭）11%，S&S Tech（韓國）8%，臺(tái)積電（中國臺(tái)灣）6%，SK海力士（韓國）1%。

從具體技術(shù)項(xiàng)目看，工藝技術(shù)申請(qǐng)專利占32%，曝光裝置技術(shù)申請(qǐng)專利占31%，掩膜技術(shù)申請(qǐng)專利占28%，其他申請(qǐng)專利占9%。在工藝技術(shù)領(lǐng)域，三星電子占39%，臺(tái)積電占15%。在光罩領(lǐng)域，S&S科技占28%，Hoya（日本）占15%，漢陽大學(xué)（韓國）占10%，朝日玻璃（日本）占10%，三星電子占9%。

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